JPH044852B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 (イ) 産業上の利用分野 この発明は、菓子・パン類焼成用トンネル窯に
関するものである。

(ロ) 従来技術 従来、高級焼菓子、特にカステラの焼成には、
能率的はトンネル窯がすでに開発されているにも
かかわらず、固定窯が用いられている。

理由は、従来の焼成窯は熱源として電気抵抗発
熱体、もしくはガスバーナー等が用いられてお
り、被焼成物への加熱は、対流等により窯内部雰
囲気温度を高めると共に、電気抵抗発熱体では、
同発熱体から発する近赤外線の放射、ガスバーナ
ーでは火焔から発する紫外領域の放射等により加
熱が行われるものであり、いずれの加熱方式もま
ず、被焼成物の表面が加熱され、同被焼成物内部
への加熱は熱伝導により行われている。

一方、被燃焼物たるカステラ生地は、主として
澱粉、糖分、水分を原料としており、これらのも
のは熱伝導率が低く、更に、同生地はスポンジ状
に形成されているため、同生地の熱伝導率を極め
て低いものとしている。このため、被焼成物の表
面と内部との間には大きな温度差が生じて、表面
は過焼成、、内部は未焼成になるという欠点を生
じ、この欠点を解消するために、泡切りと称する
焼成中の生地撹拌を、焼成初期の段階で略４回程
行つて、同生地温度の均一化をかはり、焼成の中
期から後期にかけては、灰鉄板と称する灰を盛り
付けた鉄板にて同生地上面をカバーして、上方か
らの加熱を半ば遮断した状態で徐々に焼き上げる
ということが行われており、被焼成物を一貫して
焼き上げるトンネル窯では、上記の泡切り及び灰
鉄板の作業が困難であるため、依然として固定窯
が使用されることになつていた。

(ハ) 発明が解決しようとする問題点 しかしながら、固定窯ではいかにも非能率であ
り、泡切りの時期判断及び手技には格別の熟練を
要するものであり、灰鉄板作業も高温下で行われ
るものであるから、焼成の失敗率も極めて高いも
のであつた。

なお、焼成温度を低めて緩徐な焼成により上記
欠点を回避しようとすれば、生地が乾燥しすぎて
カステラのしつとりとした風味が失われることに
なる。

(ニ) 問題点を解決するための手段 この発明では、搬送装置にて被焼成物を搬送し
ながら、搬送装置の上方及び下方に配設した上部
及び下部熱源により被焼成物の焼成を行うべく構
成した菓子・パン類焼成用のトンネル窯におい
て、上部熱源の上方にセラミツク遠赤外線放射板
を、昇降機構にて昇降自在に配設してなる菓子・
パン類焼成用トンネル窯を提供せんとするもので
ある。

(ホ) 作用 この発明では、上部熱源で加熱されたトンネル
窯内部上方のセラミツク遠赤外線放射板からの遠
赤外線が、カステラ生地の内部まで浸透して、同
生地内部を直接加熱するものであるから、同生地
は表面、内部共に略均一に加熱されることにな
り、上記した従来の欠点を解消して泡切り、及び
灰鉄板の作業が不要となり、従つて、高級カステ
ラの焼成をトンネル窯で行うことを可能とした。

なお、ここで用いる遠赤外線は、波長が５〜
15μのものであり、この帯域の遠赤外線は、生地
原料分子の回転振動を励起して、生地自体を発熱
させるものであり、波長が長い程、中途の減衰が
少なく、生地内部への到達距離が大きくなるもの
てあり、この波長は、セラミツク遠赤外線放射板
の放射面温度を制御することにより調節すること
ができ、同強さは、放射面と被焼成物との距離を
調整することにより調整可能である。

(ヘ) 効果 この発明によれば、トンネル窯の内部上方に、
セラミツク遠赤外線放射板を、搬送装置上のカス
テラ生地と同放射板との間隔が同生地焼成プロセ
スに応じ適切な間隔となるように同放射板の取付
高さを調節して配設することが可能であるから、
カステラ生地は、トンネル窯中を搬送装置にて搬
送されながら、適時に速度の遠赤外線の照射及び
従来方法の加熱による焼成を受けることになり、
泡切り、灰鉄板等の中間作業を必要としないの
で、従来不可能視されていたトンネル窯を用いて
のカステラ焼成が可能となり、しかも未熟練者で
も失敗なく高能率のカステラ焼成を行うことがで
きるという効果がある。なお、最も高度な焼成技
術を要するカステラ焼成において上記の効果を得
るものであるから、クツキー、ケーキ等の焼菓
子、又はパン類等の焼成に対しても上記同様の効
果をもたらすことは明らかである。

(ト) 実施例 この発明の実施例を図面にもとづき詳説すれ
ば、Ａは菓子・パン類焼成用のトンネル窯を示
し、断熱材１を内外被覆板２，３で被包した壁体
にて略方形断面筒状の窯体４を構成し、同窯体４
を脚部５にて水平に架設して、窯体４の内部に搬
送装置６を挿通し、同装置６の搬送面７を挟んで
上下に上・下部熱源８，９を配設して、同面７に
載置した被焼成物のカステラ生地１０を搬送しな
がら焼成すべく構成している。

上・下部熱源８，９にはニクロム線等の電気抵
抗発熱体を用いており、各６個を、窯体４内部及
び下部に同窯体４の長手方向に配設しており、各
熱源８，９の温度はそれぞれ外部の制御器により
コントロールされている。

特に、上部熱源８の上方には所定間隔を保持し
てセラミツク遠赤外線放射板１１を水平に張設し
ており、同放射板１１はアルミ合金製の金属基板
１２の下面に、酸化珪素、酸化ほう素、酸化アル
ミニウム、酸化ナトリウム、酸化チタン等の金属
酸化物、及び希土類酸化物等の遠赤外線放射素材
粒子を珪酸ソーダ等をバインダーとして熔射工法
を用いコーテイングしてセラミツク遠赤外線放射
面１３とし、同放射面１３に照射された熱源から
の近赤外線及び対流等による加熱を受けて、同放
射面１３から遠赤外線を放射するものである。セ
ラミツク遠赤外線放射板１１の金属基板１２には
高熱伝導性のアルミ合金を用いているので、同放
射板１１の温度分布が均一化し、従つて同放射板
１１から放射される遠赤外線の波長及び強さは、
同放射面１３の各部にわたつて均一なものとなつ
ている。なお、赤外線放射素材のコーテイングに
は、ホーロー引き等の工法を用いることもでき、
要は金属基板表面に、高温に耐え、かつ同基板か
ら同素材への熱移動が良好な状態に同素材を付着
せしめればよい。但し、放射される遠赤外線の散
乱を促して放射面前方の遠赤外線強度を均一化す
るためには放射面が粗面であることが望ましく、
この点から、本実施例では放射面が粗面に仕上が
る熔射工法を採用している。

更に、上部熱源８と遠赤外線放射板１１とは、
窯体４上面に載設した昇降装置１４と連絡してお
り、同装置１４の作動により、上部熱源８と遠赤
外線放射板１１とが水平状態を保持したままで上
下平行移動を可能としており、昇降装置１４は、
モーター１５の回転作動を連動チエーン１６を介
して機枠１７の４隅部に軸支したスプロケツト１
８に伝達し、同スプロケツト１８のボス部を挿通
した螺杆１９を上下作動せしめて、同螺杆１９の
下端に連接したセラミツク遠赤外線放射板１１の
４隅部を同時に上下昇降作動させるものである。

なお、搬送装置６は、窯体４の前後端からそれ
ぞれ外側に延設した枠体２０にそれぞれプーリー
２１を軸支して、各プーリー２１間に無端状の搬
送帯体２２を懸架して構成しており、同帯体２２
は、同帯体２２の左右側端縁に搬送用のアタツチ
メント付チエーンを配し、各チエーン間を多数の
短冊状鋼板で連結して同鋼板の上面を搬送面７と
したものであり、他に搬送装置６の型式として
は、ネツトコンベアー、スチールベルトコンベア
ー等の型式がある。

なお、図中２３は、搬送帯体２２の垂下防止用
ガイドレール、２４は窯体４内部を３個のゾーン
に分割するための昇降自在の仕切り板、２５は搬
送装置６駆動用モーター示す。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明によるトンネル窯の縦断面図
（第４図−断面図）第２図は、同横断面図
（第５図−断面図）第３図は、セラミツク遠
赤外線放射板の一部断面図、第４図は、本発明に
よるトンネル窯の全体平面図、第５図は、同全体
側面図 Ａ：トンネル窯、６：搬送装置、８，９：上部
及び下部熱源、１１：セラミツク遠赤外線放射
板、１４：昇降装置。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 搬送装置６にて被焼成物を搬送しながら、搬
   送装置６の上方及び下方に配設した上部及び下部
   熱源８，９により被焼成物の焼成を行うべく構成
   した菓子・パン類焼成用のトンネル窯Ａにおい
   て、上部熱源８の上方にセラミツク遠赤外線放射
   板１１を、昇降機構１４にて昇降自在に配設して
   なる菓子・パン類焼成用トンネル窯。