JPH0448622U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0448622U JPH0448622U JP10538490U JP10538490U JPH0448622U JP H0448622 U JPH0448622 U JP H0448622U JP 10538490 U JP10538490 U JP 10538490U JP 10538490 U JP10538490 U JP 10538490U JP H0448622 U JPH0448622 U JP H0448622U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotor
- chamber
- substrate
- peripheral wall
- centrifugal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
Landscapes
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
第１図は請求項１に係る実施例装置の縦断正面
図、第２図はその変形実施例を示す要部縦断正面
図、第３図〜第５図は請求項２に係る実施例装置
を示し、第３図はその横断平面図、第４図はその
縦断正面図、第５図はその装置のチヤンバーを破
断して示す斜視図、第６図は従来例を示す縦断正
面図である。 １……遠心式チヤンバー、２……チヤンバー周
壁、２Ａ……疎水性部材、３……吸気口、４，４
ａ……排気口、５……ロータ、７……回転駆動手
段、９……強制排気ブロア、１０……クランプ装
置、Ｗ……基板。
図、第２図はその変形実施例を示す要部縦断正面
図、第３図〜第５図は請求項２に係る実施例装置
を示し、第３図はその横断平面図、第４図はその
縦断正面図、第５図はその装置のチヤンバーを破
断して示す斜視図、第６図は従来例を示す縦断正
面図である。 １……遠心式チヤンバー、２……チヤンバー周
壁、２Ａ……疎水性部材、３……吸気口、４，４
ａ……排気口、５……ロータ、７……回転駆動手
段、９……強制排気ブロア、１０……クランプ装
置、Ｗ……基板。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 １ 遠心式チヤンバー内に両軸受式横軸型のロー
タを回転自在に設け、ロータに付設したクランプ
装置でロータ内に収容した被処理基板を保持し、
当該ロータを回転駆動手段で回転させて、基板に
付着した水滴を液切りするように構成した横軸遠
心式乾燥装置において、 ロータを囲うようにチヤンバーの周壁を略円形
に形成し、チンヤンバー周壁の一側部に吸気口を
、他側部に排気口を開口し、 ロータの回転中心からチヤンバー周壁までの距
離を吸気口から排気口に亙り漸次大きく設定し、
ロータの回転方向に沿わせて強制排気するように
構成したことを特徴とする横軸遠心式基板乾燥装
置。 ２ 遠心式チヤンバーの上壁に吸気口を、チヤン
バーの下壁に排気口を開口して排気口より排水及
び強制排気するように構成し、チヤンバー内に両
軸受式横軸型のロータを回転自在に設け、ロータ
に付設したクランプ装置でロータ内に収容した被
処理基板を保持し、当該ロータを回転駆動手段で
回転させて、基板に付着した水滴を液切りするよ
うに構成した横軸遠心式乾燥装置において、 ロータを囲うようにチヤンバーの周壁を略円形
に形成し、チヤンバー周壁の内面を少なくともロ
ータの軸線方向長さに対応させて疎水性部材で構
成したことを特徴とする横軸遠心式基板乾燥装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990105384U JP2507468Y2 (ja) | 1990-06-26 | 1990-10-05 | 横軸遠心式基板乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2-68249 | 1990-06-26 | ||
| JP6824990 | 1990-06-26 | ||
| JP1990105384U JP2507468Y2 (ja) | 1990-06-26 | 1990-10-05 | 横軸遠心式基板乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0448622U true JPH0448622U (ja) | 1992-04-24 |
| JP2507468Y2 JP2507468Y2 (ja) | 1996-08-14 |
Family
ID=31948658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1990105384U Expired - Lifetime JP2507468Y2 (ja) | 1990-06-26 | 1990-10-05 | 横軸遠心式基板乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2507468Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06112186A (ja) * | 1992-09-25 | 1994-04-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 横軸回転式基板乾燥装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59101190U (ja) * | 1982-12-23 | 1984-07-07 | 黒谷 信子 | 水切乾燥装置の上蓋 |
| JPS59185590U (ja) * | 1983-05-14 | 1984-12-10 | 黒谷 巌 | 水切乾燥装置の上蓋 |
| JPH01255227A (ja) * | 1988-04-04 | 1989-10-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の回転式表面処理装置 |
| JPH0239531A (ja) * | 1988-07-29 | 1990-02-08 | Tokyo Electron Ltd | 回転処理装置及び回転処理方法 |
-
1990
- 1990-10-05 JP JP1990105384U patent/JP2507468Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59101190U (ja) * | 1982-12-23 | 1984-07-07 | 黒谷 信子 | 水切乾燥装置の上蓋 |
| JPS59185590U (ja) * | 1983-05-14 | 1984-12-10 | 黒谷 巌 | 水切乾燥装置の上蓋 |
| JPH01255227A (ja) * | 1988-04-04 | 1989-10-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の回転式表面処理装置 |
| JPH0239531A (ja) * | 1988-07-29 | 1990-02-08 | Tokyo Electron Ltd | 回転処理装置及び回転処理方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06112186A (ja) * | 1992-09-25 | 1994-04-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 横軸回転式基板乾燥装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2507468Y2 (ja) | 1996-08-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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