JPH0448644U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0448644U JPH0448644U JP9094890U JP9094890U JPH0448644U JP H0448644 U JPH0448644 U JP H0448644U JP 9094890 U JP9094890 U JP 9094890U JP 9094890 U JP9094890 U JP 9094890U JP H0448644 U JPH0448644 U JP H0448644U
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- JP
- Japan
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- semiconductor layer
- conductivity type
- predetermined
- predetermined region
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- Prior art date
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- Granted
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 55
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims 8
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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- Thyristors (AREA)
Description
第1図Aは、本考案の一実施例の半導体装置の
平面図、第1図Bは、同実施例の半導体装置のB
−B線に沿う断面図、第2図は、同実施例の半導
体装置の作用を示す説明図、第3図Aは、本考案
の他の実施例の半導体装置の平面図、第3図Bは
、同他の実施例の半導体装置のB−B線に沿う断
面図、第4図は、従来の半導体装置を示す断面図
、第5図は、同従来の半導体装置の問題点を示す
断面図である。 10……NB層、11……Pガードリング層、
12……Pガードリング層、13,14……PB
層、15,16……NE層、17……T2電極、
18……T1電極、20,30……半導体装置、
21,22……PB層、21a……PB層の凸状
部。
平面図、第1図Bは、同実施例の半導体装置のB
−B線に沿う断面図、第2図は、同実施例の半導
体装置の作用を示す説明図、第3図Aは、本考案
の他の実施例の半導体装置の平面図、第3図Bは
、同他の実施例の半導体装置のB−B線に沿う断
面図、第4図は、従来の半導体装置を示す断面図
、第5図は、同従来の半導体装置の問題点を示す
断面図である。 10……NB層、11……Pガードリング層、
12……Pガードリング層、13,14……PB
層、15,16……NE層、17……T2電極、
18……T1電極、20,30……半導体装置、
21,22……PB層、21a……PB層の凸状
部。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 1 一導電型の第1の半導体層と、該第1半導体
層の一方の主面の所定領域に導電型を異にして所
定の拡散深さで該第1半導体層内に向かつて延在
する第2半導体層と、該第1半導体層の他方の主
面に前記第2半導体層に対向して該第1半導体層
と導電型を異にして所定の拡散深さで該第1半導
体内に向かつて延在する第3半導体層と、前記第
2半導体層内の所定領域に導電型を異にして所定
の拡散深さで延在する第4半導体層と、前記第3
半導体層内の所定領域に導電型を異にして所定の
拡散深さで延在する第5半導体層とを具備する半
導体装置において、前記第2半導体層と同じ第6
半導体層を有し、該第6半導体層が、第4半導体
層に近接した第2半導体層の一側端部の所定領域
を残して該第2半導体層の周辺領域を略コ字に囲
むように形成され、前記第3半導体層と同じ導電
型の第7半導体層を有し、該第7半導体層が、第
5半導体層に近接した第3半導体層の一側端部の
所定領域を残して該第3半導体層の周辺領域を略
コ字に囲むように形成されたことを特徴とする半
導体装置。 2 一導電型の第1の半導体層と、該第1半導体
層の一方の主面の所定領域に導電型を異にして所
定の拡散深さで該第1半導体層内に向かつて延在
する第2半導体層と、該第1半導体層の他方の主
面に前記第2半導体層に対向して該第1半導体層
と導電型を異にして所定の拡散深さで該第1半導
体内に向かつて延在する第3半導体層と、前記第
2半導体層内の所定領域に導電型を異にして所定
の拡散深さで延在する第4半導体層と、前記第3
半導体層内の所定領域に導電型を異にして所定の
拡散深さで延在する第5半導体層とを具備する半
導体装置において、第4半導体層に近接した第2
半導体層の一側端部の所定領域に曲率半径の小さ
い屈曲面を備えた凸状部を設けると共に、第5半
導体層に近接した第3半導体層の一側端部の所定
領域に曲率半径の小さい屈曲面を備えた凸状部を
設けたことを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9094890U JP2537899Y2 (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9094890U JP2537899Y2 (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | 半導体装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0448644U true JPH0448644U (ja) | 1992-04-24 |
| JP2537899Y2 JP2537899Y2 (ja) | 1997-06-04 |
Family
ID=31826144
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9094890U Expired - Lifetime JP2537899Y2 (ja) | 1990-08-30 | 1990-08-30 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2537899Y2 (ja) |
-
1990
- 1990-08-30 JP JP9094890U patent/JP2537899Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2537899Y2 (ja) | 1997-06-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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