JPH0449511B2 - - Google Patents

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JPH0449511B2
JPH0449511B2 JP307486A JP307486A JPH0449511B2 JP H0449511 B2 JPH0449511 B2 JP H0449511B2 JP 307486 A JP307486 A JP 307486A JP 307486 A JP307486 A JP 307486A JP H0449511 B2 JPH0449511 B2 JP H0449511B2
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JP
Japan
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metal
ceramic
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plating
plate
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JP307486A
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JPS62161466A (ja
Inventor
Seiichiro Myata
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WORLD METAL KK
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WORLD METAL KK
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明はセラミツク接合用の金属部材に係わる
ものである。
〈従来の技術〉 金属部材とセラミツク部材の間にペースト状あ
るいはシート状のロー材を挟んで加熱溶融して両
者を接合することは既に行われている。
しかしながら、この方法ではペーストの厚さに
ムラが有つたり、あるいはシートの位置がずれて
必要な部分のみを正確にロー付けすることが極め
てむつかしく、回路基板の様な微細模様のものに
至つては不可能に近い。
したがつて、従来の方法では、接合部分のロー
材の余分なバリによる絶縁不良や短絡の問題はさ
けがたい。
〈発明が解決しようとする問題点〉 本発明はかかる問題に鑑みてなされたもので、
ロー材の厚さの制御、金属板とロー材の位置の固
定が極めて正確に実施できるセラミツク接合用の
金属部材の新規な構造を提供せんとするものであ
る。
〈問題点を解決するための手段〉 本発明者は上記問題にかんして鋭意研究をおこ
なつた結果、次のようなあたらしい知見をうるに
至つた。即ち、 1 活性金属の粉末あるいは活性金属の化合物の
粉末を共析させた複合メツキ層を金属部材の接
合部分に形成させて、この部分をセラミツクに
密着させ、メツキ層を加熱、溶融、合金化する
と、この融液はセラミツクに融着すること。
2 本発明では複合メツキ層は一種のロー材と見
なされるが、この複合メツキ層は金属部材と一
体的に接合されているために、この部材を微細
なパターンに加工してもメツキ層もこの模様の
通りに一緒に加工される。つまり微細パターン
の接合面にロー材が極めて正確に被覆あるいは
塗付できることになるために、従来の様な、ペ
ーストの厚さの不同やロー材のズレが起こらな
い。また、 3 このロー材の合金組成はメツキ層の厚さ、共
析粒子の量を変えることによつて、あるいは更
にこの複合メツキ層に更に第3、第4、……の
元素の薄膜の層(たとえば単独のメツキ層)を
組合わせることによつて、合金元素の種類、量
を変えることができることを見出した。
〈作用〉 1 活性金属あるいはこの化合物は複合メツキ層
の中ではくるまれた状態で存在する。
このくるまれた粒子は、加熱によつて、メツ
キ金属に拡散し、低融点の合金を形成し、セラ
ミツクに融着る。
2 ロー材は金属部材と一体的になつているため
に、部材を微細に加工してもロー材も一緒に加
工され、部材への極めて正確なロー材層の形成
が達成されることになる。
3 活性金属あるいは化合物は、おしなべて非常
に酸化されやすい金属であるが、この粒子はメ
ツキ層にくるまれているので、セラミツクの上
に単独で塗付して処理する場合に較べて雰囲気
による酸化等の影響は極めて少ない。
4 活性金属の薄膜を形成する方法として他にス
パツタリング等の方法もあるが、これは、設備
的に高価で、生産性もわるい欠点があるが、複
合メツキはこれらに比較して非常に経済的であ
る。
なお、本発明の活性金属あるいは化合物とは、
例えば、次の様なものである。
金属: Ti、Zr、V、Nb、Ta、……等の活性金属あ
るいはこれらを含む合金。
化合物: 上記活性金属の水素化物等。
またメツキ金属は、例えば、Ni、Co、Cu、
Ag、Au、Sn……、Ni−P、Ni−B、……ある
いはこれらの合金メツキを指し、電解、無電解メ
ツキいずれでもよい。
〈実施例〉 実施例 1 金属部材 100ミクロンの銅箔 セラミツク:アルミナ メツキ金属:ニツケル 拡散性粒子:Tiの粉末 メツキ操作 銅板の表面に、Ti粒子を懸濁した電気メツキ
浴によつて、約20ミクロン、Tiとニツケルの複
合メツキ層を形成させた。
パターンの形成 上記メツキ処理した銅板を回路基板用に打抜き
加工した。
〈接合操作〉 アルミナセラミツクの板の面に打抜き銅板のメ
ツキ面を密着させて、下記の条件で接合を行なつ
た。
加熱雰囲気:5×10-4Torrの減圧下 加熱温度 950℃×10分 打ち抜きパターンはセラミツク板に強固に接合
されバリも出ていなかつた。
実施例 2 金属部材:100ミクロンの銅の板 セラミツク:窒化アルミの板 メツキ金属:銅、銀 拡散性粒子:Tiの水素化物 メツキ操作 銅板の表面に電気メツキによつて、TiH2と銅
の複合メツキ層(10ミクロン)を形成した。
更に、この複合メツキ層の上に銀を10ミクロ
ン、メツキした。
銅板の加工 上記メツキした板を微細回路模様に打抜き加工
した。
接合操作 温度:900℃ 時間:5分 雰囲気:アルゴン雰囲気 微細回路はバリを出すことなくセラミツクに強
固に接合されていた。
実施例 3 金属部材 300ミクロンのコバールの板 セラミツク アルミナの板 メツキ金属 銅、銀 拡散性粒子 Tiの粉末 メツキ操作 コバール板の表面に銅を10ミクロ
ン、更にTi粉末と銀の複合メツキ層(20ミクロ
ン)を電気メツキで形成した。
コバール板の加工 上記メツキしたコバールの板を微細模様に打抜
き加工した。
接合操作 温度 850℃ 時間 5分 雰囲気 減圧(5×10-4Torr) 微細パターンはバリをだすことなくセラミツク
に接合されていた。
〈発明の効果〉 1 微細模様でもバリをだすことなくセラミツク
に正確に接合できる。
2 接合部にロール材を貼つたり、塗つたりする
手間が不要である。
3 安価に施工できる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 セラミツクに接合する金属部材の接合面に、
    活性金属あるいは活性金属の化合物の粉末を共析
    した複合メツキ層が被覆されてなることを特徴と
    するセラミツク接合用金属部材。
JP307486A 1986-01-09 1986-01-09 セラミツク接合用金属部材 Granted JPS62161466A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP307486A JPS62161466A (ja) 1986-01-09 1986-01-09 セラミツク接合用金属部材

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JP307486A JPS62161466A (ja) 1986-01-09 1986-01-09 セラミツク接合用金属部材

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Publication Number Publication Date
JPS62161466A JPS62161466A (ja) 1987-07-17
JPH0449511B2 true JPH0449511B2 (ja) 1992-08-11

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JP307486A Granted JPS62161466A (ja) 1986-01-09 1986-01-09 セラミツク接合用金属部材

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0260952A (ja) * 1988-08-27 1990-03-01 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 冷凍機のゴム部材用ゴム組成物
US5340658A (en) * 1991-08-21 1994-08-23 Ishihara Chemical Co., Ltd. Composites made of carbon-based and metallic materials

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Publication number Publication date
JPS62161466A (ja) 1987-07-17

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