JPH0449687Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0449687Y2 JPH0449687Y2 JP5768686U JP5768686U JPH0449687Y2 JP H0449687 Y2 JPH0449687 Y2 JP H0449687Y2 JP 5768686 U JP5768686 U JP 5768686U JP 5768686 U JP5768686 U JP 5768686U JP H0449687 Y2 JPH0449687 Y2 JP H0449687Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- purge
- fluid
- flow path
- flow rate
- control valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000010926 purge Methods 0.000 claims description 53
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 42
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 12
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 23
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Pipeline Systems (AREA)
- Flow Control (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、流体流量を制御するマスフローコン
トローラに関する。
トローラに関する。
マスフローコントローラは、一般に、金属製の
基体に形成した流体入口と流体出口との間に、流
体流量を検出するためのセンサ部を有する流量測
定流路と、流体流量を制御するための流体制御弁
を有する流量制御流路とを備えているが、該マス
フローコントローラを流れるガスの種類は多岐に
亘るので、流れるガス中に含まれる不純物等によ
つて前記流路内に詰まりを生ずることがある。
基体に形成した流体入口と流体出口との間に、流
体流量を検出するためのセンサ部を有する流量測
定流路と、流体流量を制御するための流体制御弁
を有する流量制御流路とを備えているが、該マス
フローコントローラを流れるガスの種類は多岐に
亘るので、流れるガス中に含まれる不純物等によ
つて前記流路内に詰まりを生ずることがある。
このように基体内の流路に詰まりが生じた場
合、マスフローコントローラを点検し、清掃した
り或いは修理したり又は別のものと取り替えたり
する必要があるが、人体に有害なガスを流すこと
もあるので前記点検等に際しては、窒素ガス等不
活性なパージガスによつて流路内にある前記ガス
を予めパージすることが行われる。
合、マスフローコントローラを点検し、清掃した
り或いは修理したり又は別のものと取り替えたり
する必要があるが、人体に有害なガスを流すこと
もあるので前記点検等に際しては、窒素ガス等不
活性なパージガスによつて流路内にある前記ガス
を予めパージすることが行われる。
第３図は従来のマスフローコントローラにおけ
るパージを行う手段を示すもので、同図Ａはガス
源３０を有する流路３１に設けられたマスフロー
コントローラ３２の外部に並列にパージ用バルブ
３３を備えたパージ用流路３４を設け、マスフロ
ーコントローラ３２に詰まりが生じたときは、パ
ージ用バルブ３３を開いてパージ用ガス源３５か
らのパージ用ガスをパージ用流路３４に流すよう
にしたものを示す。
るパージを行う手段を示すもので、同図Ａはガス
源３０を有する流路３１に設けられたマスフロー
コントローラ３２の外部に並列にパージ用バルブ
３３を備えたパージ用流路３４を設け、マスフロ
ーコントローラ３２に詰まりが生じたときは、パ
ージ用バルブ３３を開いてパージ用ガス源３５か
らのパージ用ガスをパージ用流路３４に流すよう
にしたものを示す。
そして、同図Ｂはマスフローコントローラ３２
の上流側及び下流側にそれぞれ三方弁３６，３６
を設けると共に、該三方弁３６，３６間をパージ
用流路３４によつて接続したもので、動作は前記
Ａに示すものと同様である。
の上流側及び下流側にそれぞれ三方弁３６，３６
を設けると共に、該三方弁３６，３６間をパージ
用流路３４によつて接続したもので、動作は前記
Ａに示すものと同様である。
又、同図Ｃはマスフローコントローラ３２の上
流側及び下流側にそれぞれ開閉弁３７，３７を設
けると共に、該開閉弁３７，３７間にニードルバ
ルブ３８付の浮子式流量計３９を設け、パージ用
流路３４を流れるガス流量を監視できるようにし
たものを示す。
流側及び下流側にそれぞれ開閉弁３７，３７を設
けると共に、該開閉弁３７，３７間にニードルバ
ルブ３８付の浮子式流量計３９を設け、パージ用
流路３４を流れるガス流量を監視できるようにし
たものを示す。
尚、４０，４１はストツプバルブである。
しかしながら、上記第３図Ａ，Ｂ，Ｃの何れに
示す手段も、パージ用流路３４をマスフローコン
トローラ３２の外部に設けてあり、パージ用バル
ブ３３、三方弁３６，３６、開閉弁３７，３７を
マスフローコントローラ３２とは別体で設けてい
るので配管系が大掛かりとなり、コスト高となつ
ていた。
示す手段も、パージ用流路３４をマスフローコン
トローラ３２の外部に設けてあり、パージ用バル
ブ３３、三方弁３６，３６、開閉弁３７，３７を
マスフローコントローラ３２とは別体で設けてい
るので配管系が大掛かりとなり、コスト高となつ
ていた。
又、前記パージ用バルブ３３等を開いてパージ
用流路３４にパージ用ガスを流しても、マスフロ
ーコントローラ３２内に残留する有害なガス等を
完全にパージすることができず、マスフローコン
トローラ３２を交換する際、前記有害なガスが大
気中に放出されるため安全性に問題があつた。こ
れを解決するため、例えば第３図Ａに示すよう
に、流路３１とパージ用流路３４との合流点Ｑに
減圧ポンプ４２を設けて、これによつてマスフロ
ーコントローラ３２内に残留するガスを吸い出す
ことが考えられるが、構成が複雑となり、コスト
高となる。
用流路３４にパージ用ガスを流しても、マスフロ
ーコントローラ３２内に残留する有害なガス等を
完全にパージすることができず、マスフローコン
トローラ３２を交換する際、前記有害なガスが大
気中に放出されるため安全性に問題があつた。こ
れを解決するため、例えば第３図Ａに示すよう
に、流路３１とパージ用流路３４との合流点Ｑに
減圧ポンプ４２を設けて、これによつてマスフロ
ーコントローラ３２内に残留するガスを吸い出す
ことが考えられるが、構成が複雑となり、コスト
高となる。
本考案は、上述の事柄に留意してなされたもの
で、その目的とするところは、複雑な配管を要す
ることなく安全性の高いしかも安価なマスフロー
コントローラを提供することにある。
で、その目的とするところは、複雑な配管を要す
ることなく安全性の高いしかも安価なマスフロー
コントローラを提供することにある。
上述の目的を達成するため、本考案に係るマス
フローコントローラは、一端が流体入口と流量測
定流路との間に接続され他端が流体制御弁と流体
出口との間に接続されたパージ用主流路と、一端
が前記流量測定流路と前記流体制御弁との間に接
続され他端が前記パージ用主流路に接続された連
通路とから成るパージ用流路を基体内に形成し、
前記パージ用主流路の前記連通路との接続点の上
流側及び下流側並びに前記連通路に、パージ用制
御弁をそれぞれ設けた点に特徴がある。
フローコントローラは、一端が流体入口と流量測
定流路との間に接続され他端が流体制御弁と流体
出口との間に接続されたパージ用主流路と、一端
が前記流量測定流路と前記流体制御弁との間に接
続され他端が前記パージ用主流路に接続された連
通路とから成るパージ用流路を基体内に形成し、
前記パージ用主流路の前記連通路との接続点の上
流側及び下流側並びに前記連通路に、パージ用制
御弁をそれぞれ設けた点に特徴がある。
以下、本考案の一実施例を図面に基づいて説明
する。
する。
第１図、第２図はそれぞれ本考案に係るマスフ
ローコントローラMFC内の流路構成を示すダイ
ヤグラム、外観形状を示す斜視図である。
ローコントローラMFC内の流路構成を示すダイ
ヤグラム、外観形状を示す斜視図である。
第１図、第２図において、１は２つのブロツク
体１Ａ，１Ｂより成る基体である。ブロツク体１
Ａの一方の面には流体入口２が、又、他方の面に
は流体出口３が形成してある。４，６は流体入口
２、流体出口３にそれぞれ装着されるジヨイント
部材である。
体１Ａ，１Ｂより成る基体である。ブロツク体１
Ａの一方の面には流体入口２が、又、他方の面に
は流体出口３が形成してある。４，６は流体入口
２、流体出口３にそれぞれ装着されるジヨイント
部材である。
ブロツク体１Ａに形成された流体入口２と流体
出口３との間には、流体流量を検出するためのセ
ンサ部６を有する流量測定流路７と、流体流量を
制御するための流体制御弁８を有する流量制御流
路９とが形成してある。そして、流量測定流路７
は互いに並列接続されたセンサ流路１０とバイパ
ス流路１１とから成り、前記センサ部６はセンサ
流路１０に設けられている。尚、Ａ，Ｂはそれぞ
れ前記センサ流路とバイパス流路１１との分岐
点、合流点である。又、１２はブロツク体１Ａに
対して適宜の手段で結合されるブロツク体で、前
記センサ流路１０は該ブロツク体１２内に形成さ
れる。
出口３との間には、流体流量を検出するためのセ
ンサ部６を有する流量測定流路７と、流体流量を
制御するための流体制御弁８を有する流量制御流
路９とが形成してある。そして、流量測定流路７
は互いに並列接続されたセンサ流路１０とバイパ
ス流路１１とから成り、前記センサ部６はセンサ
流路１０に設けられている。尚、Ａ，Ｂはそれぞ
れ前記センサ流路とバイパス流路１１との分岐
点、合流点である。又、１２はブロツク体１Ａに
対して適宜の手段で結合されるブロツク体で、前
記センサ流路１０は該ブロツク体１２内に形成さ
れる。
ブロツク体１Ａに対して例えばねじによつて結
合されたブロツク体１Ｂ内には、パージ用主流路
１３と連通路１４とから成るパージ用流路１５が
形成してある。パージ用主流路１３は、その一端
１３ａが流体入口２と前記分岐点Ａとの間に接続
され、その他端１３ｂが流体制御弁８と流体出口
３との間に接続されるようにして設けられてい
る。又、連通路１４は、その一端１４ａが前記合
流点Ｂと流体制御弁８との間に接続され、その他
端１４ｂがパージ用主流路１３に接続されるよう
にして設けられている。
合されたブロツク体１Ｂ内には、パージ用主流路
１３と連通路１４とから成るパージ用流路１５が
形成してある。パージ用主流路１３は、その一端
１３ａが流体入口２と前記分岐点Ａとの間に接続
され、その他端１３ｂが流体制御弁８と流体出口
３との間に接続されるようにして設けられてい
る。又、連通路１４は、その一端１４ａが前記合
流点Ｂと流体制御弁８との間に接続され、その他
端１４ｂがパージ用主流路１３に接続されるよう
にして設けられている。
そして、前記パージ用主流路１３の連通路１４
との接続点１４ｂの上流側及び下流側並びに前記
連通路１４に、それぞれパージ用制御弁１６，１
７，１８が設けてある。１６ａ，１７ａ，１８ａ
はそれぞれ前記パージ用制御弁１６，１７，１８
の開度を調節するための調節部材である。
との接続点１４ｂの上流側及び下流側並びに前記
連通路１４に、それぞれパージ用制御弁１６，１
７，１８が設けてある。１６ａ，１７ａ，１８ａ
はそれぞれ前記パージ用制御弁１６，１７，１８
の開度を調節するための調節部材である。
１９は供給対象のガスを収容したガス源、２０
は窒素ガス等不活性なパージガスを収容したパー
ジ用ガス源、２１，２２はストツプバルブであ
る。２３は上流側配管、２４は例えば半導体製造
装置又は分析計等の下流側装置に接続された下流
側配管である。
は窒素ガス等不活性なパージガスを収容したパー
ジ用ガス源、２１，２２はストツプバルブであ
る。２３は上流側配管、２４は例えば半導体製造
装置又は分析計等の下流側装置に接続された下流
側配管である。
尚、上記構成においては、基体１を２つのブロ
ツク体１Ａ，１Ｂより構成しているが、これを１
つのブロツク体によつて構成してもよいことは云
うまでもない。又、上記構成においては、互いに
並列接続されたセンサ流路１０とバイパス流路１
１とによつて流量測定流路７を形成しているが、
流量測定流路７をセンサ流路１０のみによつて構
成してもよい。このようにしたものは、流体流量
の比較的小さいものに用いられる。
ツク体１Ａ，１Ｂより構成しているが、これを１
つのブロツク体によつて構成してもよいことは云
うまでもない。又、上記構成においては、互いに
並列接続されたセンサ流路１０とバイパス流路１
１とによつて流量測定流路７を形成しているが、
流量測定流路７をセンサ流路１０のみによつて構
成してもよい。このようにしたものは、流体流量
の比較的小さいものに用いられる。
次に、上記構成のマスフローコントローラ
MFCの作動について説明する。
MFCの作動について説明する。
流体制御弁８を含む流量制御流路９において詰
まりが生じたときは、パージ用制御弁１７，１８
を開状態にし、ストツプバルブ２１を閉じてスト
ツプバルブ２２を開き、パージガスを流すことに
よつてマスフローコントローラMFC内をパージ
すればよい。尚、上記において、パージ用制御１
７，１８の何れか又は双方の開度を適宜調節する
ことによつて、必要なガスの流量を調整すること
ができ、しかもそのときの流量をセンサ部６にお
いて確認することができるので、下流側装置で必
要とするガス源１９のガスを供給することができ
る。
まりが生じたときは、パージ用制御弁１７，１８
を開状態にし、ストツプバルブ２１を閉じてスト
ツプバルブ２２を開き、パージガスを流すことに
よつてマスフローコントローラMFC内をパージ
すればよい。尚、上記において、パージ用制御１
７，１８の何れか又は双方の開度を適宜調節する
ことによつて、必要なガスの流量を調整すること
ができ、しかもそのときの流量をセンサ部６にお
いて確認することができるので、下流側装置で必
要とするガス源１９のガスを供給することができ
る。
又、センサ流路１０、バイパス流路１１におい
て詰まりが生じたときは、パージ用制御弁１６，
１７を開状態にし、上記と同様にしてパージガス
を流すことによつてマスフローコントローラ
MFC内をパージすればよい。
て詰まりが生じたときは、パージ用制御弁１６，
１７を開状態にし、上記と同様にしてパージガス
を流すことによつてマスフローコントローラ
MFC内をパージすればよい。
更に、詰まりの発生個所が不明のときは、全て
のパージ用制御弁１６，１７，１８を開状態に
し、パージガスを流すようにすればよい。
のパージ用制御弁１６，１７，１８を開状態に
し、パージガスを流すようにすればよい。
〔考案の効果〕
以上説明したように、本考案に係るマスフロー
コントローラは、一端が流体入口と流量測定流路
との間に接続され他端が流体制御弁と流体出口と
の間に接続されたパージ用主流路と、一端が前記
流量測定流路と前記流体制御弁との間に接続され
他端が前記パージ用主流路に接続された連通路と
から成るパージ用流路を基体内に形成し、前記パ
ージ用主流路の前記連通路との接続点の上流側及
び下流側並びに前記連通路に、パージ用制御弁を
それぞれ設けているので、複雑な外部配管が不要
となり、配管系がコンパクトかつ安価となる。
又、詰まりの発生個所によつてパージ用制御弁を
適宜開閉操作することにより、内部に残留する有
害なガスを確実・完全にパージすることができる
ので、安全性が向上する。更に、流体制御弁に詰
まりが生じた場合でも、パージ用制御弁を適宜開
閉操作することにより所定のガスを下流側装置に
供給することができる。
コントローラは、一端が流体入口と流量測定流路
との間に接続され他端が流体制御弁と流体出口と
の間に接続されたパージ用主流路と、一端が前記
流量測定流路と前記流体制御弁との間に接続され
他端が前記パージ用主流路に接続された連通路と
から成るパージ用流路を基体内に形成し、前記パ
ージ用主流路の前記連通路との接続点の上流側及
び下流側並びに前記連通路に、パージ用制御弁を
それぞれ設けているので、複雑な外部配管が不要
となり、配管系がコンパクトかつ安価となる。
又、詰まりの発生個所によつてパージ用制御弁を
適宜開閉操作することにより、内部に残留する有
害なガスを確実・完全にパージすることができる
ので、安全性が向上する。更に、流体制御弁に詰
まりが生じた場合でも、パージ用制御弁を適宜開
閉操作することにより所定のガスを下流側装置に
供給することができる。
第１図、第２図は本考案の一実施例を示し、第
１図は流路構成を示すダイヤグラム、第２図は斜
視図、第３図Ａ，Ｂ，Ｃは従来技術を説明するた
めのダイヤグラムである。 １……基体、２……流体入口、３……流体出
口、６……センサ部、７……流量測定流路、８…
…流体制御弁、９……流量制御流路、１３……パ
ージ用主流路、１４……連通路、１４ｂ……接続
点、１５……パージ用流路、１６，１７，１８…
…パージ用制御弁、MFC……マスフローコント
ローラ。
１図は流路構成を示すダイヤグラム、第２図は斜
視図、第３図Ａ，Ｂ，Ｃは従来技術を説明するた
めのダイヤグラムである。 １……基体、２……流体入口、３……流体出
口、６……センサ部、７……流量測定流路、８…
…流体制御弁、９……流量制御流路、１３……パ
ージ用主流路、１４……連通路、１４ｂ……接続
点、１５……パージ用流路、１６，１７，１８…
…パージ用制御弁、MFC……マスフローコント
ローラ。
Claims (1)
- 基体に形成した流体入口と流体出口との間に、
流体流量を検出するためのセンサ部を有する流量
測定流路と、流体流量を制御するための流体制御
弁を有する流量制御流路とを設けたマスフローコ
ントローラにおいて、一端が前記流体入口と前記
流量測定流路との間に接続され他端が前記流体制
御弁と前記流体出口との間に接続されたパージ用
主流路と、一端が前記流量測定流路と前記流体制
御弁との間に接続され他端が前記パージ用主流路
に接続された連通路とから成るパージ用流路を前
記基体内に形成し、前記パージ用主流路の前記連
通路との接続点の上流側及び下流側並びに前記連
通路に、パージ用制御弁をそれぞれ設けたことを
特徴とするマスフローコントローラ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5768686U JPH0449687Y2 (ja) | 1986-04-17 | 1986-04-17 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5768686U JPH0449687Y2 (ja) | 1986-04-17 | 1986-04-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62175311U JPS62175311U (ja) | 1987-11-07 |
| JPH0449687Y2 true JPH0449687Y2 (ja) | 1992-11-24 |
Family
ID=30887622
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5768686U Expired JPH0449687Y2 (ja) | 1986-04-17 | 1986-04-17 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0449687Y2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08226879A (ja) * | 1995-02-21 | 1996-09-03 | Horiba Ltd | ガスサンプリング装置 |
| JP2007024730A (ja) * | 2005-07-19 | 2007-02-01 | Tsukasa Sokken Co Ltd | ラミナー型排気ガス流量計を用いた希釈排気サンプリング装置及び希釈排気サンプリング方法並びに加熱・冷却サージチューブ装置 |
-
1986
- 1986-04-17 JP JP5768686U patent/JPH0449687Y2/ja not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08226879A (ja) * | 1995-02-21 | 1996-09-03 | Horiba Ltd | ガスサンプリング装置 |
| JP2007024730A (ja) * | 2005-07-19 | 2007-02-01 | Tsukasa Sokken Co Ltd | ラミナー型排気ガス流量計を用いた希釈排気サンプリング装置及び希釈排気サンプリング方法並びに加熱・冷却サージチューブ装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62175311U (ja) | 1987-11-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0806573B1 (en) | Fluid control device | |
| JPH01318924A (ja) | マスフローコントローラ | |
| JPH0449687Y2 (ja) | ||
| JP4235759B2 (ja) | 流体制御装置 | |
| WO1997021984A3 (en) | Improved fluid pressure measuring system for control valves | |
| CN218653908U (zh) | 一种标准气体动态稀释装置以及采用该装置的环境气体检测系统 | |
| JPH04353761A (ja) | 特殊ガス中の不純物量測定方法及びその測定装置 | |
| CN211740782U (zh) | 烟气采样装置及烟气采样仪器 | |
| JP3616875B2 (ja) | 流体制御装置用継手部材およびその製造方法 | |
| JP3360133B2 (ja) | 流体制御装置用継手部材およびその製造方法 | |
| JPH04353743A (ja) | 不純物吸着量の評価方法及びその評価用装置 | |
| SE9304085D0 (sv) | Passiv trevägs styrventil samt kopplingsanordning inkluderande ventil | |
| EP0685670A2 (en) | Slide valve | |
| JPH0637673U (ja) | パージ機構によりベローズ部へのパーティクル溜まり を除去および腐食を防止した真空用およびプロセス制 御用バルブ | |
| US4863691A (en) | Gas-passage change-over apparatus | |
| JP2001249064A (ja) | 排ガス希釈装置 | |
| JPH0725661Y2 (ja) | ガス分析計のサンプリング装置 | |
| JP2771252B2 (ja) | マスフローコントローラ | |
| JPH0283080A (ja) | 薬注装置 | |
| JPH0678690U (ja) | 配管ブロック | |
| KR950002278Y1 (ko) | 가스배관 시스템 | |
| CN115738776A (zh) | 一种标准气体动态稀释方法 | |
| JPS6368790A (ja) | 真空排気装置 | |
| JPH03119523U (ja) | ||
| JPH10273712A (ja) | 高ダスト雰囲気のガス圧力測定方法及び装置 |