JPH0450072B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0450072B2 JPH0450072B2 JP62192142A JP19214287A JPH0450072B2 JP H0450072 B2 JPH0450072 B2 JP H0450072B2 JP 62192142 A JP62192142 A JP 62192142A JP 19214287 A JP19214287 A JP 19214287A JP H0450072 B2 JPH0450072 B2 JP H0450072B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circulation pump
- flow rate
- ultrapure water
- pressure
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 63
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 claims description 47
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 claims description 47
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 33
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 13
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 2
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000005374 membrane filtration Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000008400 supply water Substances 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、超純水製造装置の制御方法に関する
ものである。
ものである。
一般に、超純水製造システムは、純水製造装置
を多段に直列接続して順次純度を高め、最終段の
サブシステム、所謂超純水製造装置において理論
純水に近い超純水を得るようにしているのが普通
で、工業用水、上水等の原水又は原水に回収水を
混ぜたものを用いて超純水の製造を行ない、例え
ばIC，LSI等の半導体の洗浄水として使用され
る。
を多段に直列接続して順次純度を高め、最終段の
サブシステム、所謂超純水製造装置において理論
純水に近い超純水を得るようにしているのが普通
で、工業用水、上水等の原水又は原水に回収水を
混ぜたものを用いて超純水の製造を行ない、例え
ばIC，LSI等の半導体の洗浄水として使用され
る。
第３図は従来の超純水製造装置（サブシステ
ム）の代表的なフローを示している。
ム）の代表的なフローを示している。
超純水製造装置１は、純水槽２、循環ポンプ，、
流量設定弁４、流量計５、紫外線照射装置６、イ
オン交換樹脂が充填されたカートリツジポリシヤ
ー７、逆浸透膜又は限外濾過膜等からなる膜処理
装置８、ユースポイント９、圧力検出器１０、圧
力調節弁１１から構成され、純水槽２には、超純
水製造装置１の前段の純水製造装置（以下１次純
水製造装置と称す）における補給水ポンプ１２か
らの純水が給水されるとともに、液面変動による
環境からの汚染防止の目的から高純度窒素ガスが
封入されている。純水槽２内の純水は、循環ポン
プ３により順に紫外線照射装置６、カートリツジ
ポリシヤー７、膜処理装置８を経て殺菌処理及び
微粒子、有機物、イオン等の不純物の除去処理に
より超純水化され、ユースポイント９に給水され
て消費される。その際、循環ポンプ３から紫外線
照射装置６に向け供給される純水は、流量計５で
流量を検出しながら流量設定弁４により予め設定
した流量に調節されている。
流量設定弁４、流量計５、紫外線照射装置６、イ
オン交換樹脂が充填されたカートリツジポリシヤ
ー７、逆浸透膜又は限外濾過膜等からなる膜処理
装置８、ユースポイント９、圧力検出器１０、圧
力調節弁１１から構成され、純水槽２には、超純
水製造装置１の前段の純水製造装置（以下１次純
水製造装置と称す）における補給水ポンプ１２か
らの純水が給水されるとともに、液面変動による
環境からの汚染防止の目的から高純度窒素ガスが
封入されている。純水槽２内の純水は、循環ポン
プ３により順に紫外線照射装置６、カートリツジ
ポリシヤー７、膜処理装置８を経て殺菌処理及び
微粒子、有機物、イオン等の不純物の除去処理に
より超純水化され、ユースポイント９に給水され
て消費される。その際、循環ポンプ３から紫外線
照射装置６に向け供給される純水は、流量計５で
流量を検出しながら流量設定弁４により予め設定
した流量に調節されている。
一方、ユースポイント９での消費残の超純水は
圧力調節弁１１を径て純水槽２に戻るが、超純水
の消費量が変動してもユースポイント９における
超純水の吐出圧を必要な圧力に維持するために、
圧力検出器１０で圧力検出を行ない圧力調節弁１
１で設定圧力に調節している。
圧力調節弁１１を径て純水槽２に戻るが、超純水
の消費量が変動してもユースポイント９における
超純水の吐出圧を必要な圧力に維持するために、
圧力検出器１０で圧力検出を行ない圧力調節弁１
１で設定圧力に調節している。
そして、純水槽２内の液面が所定値より下がつ
た分だけ補給水ポンプ１２から純水が補給され
る。
た分だけ補給水ポンプ１２から純水が補給され
る。
ところで、このような超純水製造装置１におい
て、純水び超純水に滞留が生じると生菌が繁殖
し、そのために超純水の純度低下を招くので、純
水及び超純水の滞留を極力避ける配管としている
が、配管の工夫だけでは滞留の問題を解決できな
いことが指摘されている。
て、純水び超純水に滞留が生じると生菌が繁殖
し、そのために超純水の純度低下を招くので、純
水及び超純水の滞留を極力避ける配管としている
が、配管の工夫だけでは滞留の問題を解決できな
いことが指摘されている。
つまり、超純水製造装置１は、ユースポイント
９での超純水消費量の変動を吸収するために、常
時純水を貯留しておく純水槽２を装備しているこ
とから、この純水槽２内で純水の滞留が生じ、運
転時間の増大とともに純水槽２内での生菌、微粒
子が増大する点である。
９での超純水消費量の変動を吸収するために、常
時純水を貯留しておく純水槽２を装備しているこ
とから、この純水槽２内で純水の滞留が生じ、運
転時間の増大とともに純水槽２内での生菌、微粒
子が増大する点である。
また、上記した滞留の問題とは別に、純水槽２
の液面変動により絶えず高純度窒素が消費される
という問題や、純水槽２の占有面積が超純水製造
装置１の中でかなりの割合を占めるという問題も
指摘されている。
の液面変動により絶えず高純度窒素が消費される
という問題や、純水槽２の占有面積が超純水製造
装置１の中でかなりの割合を占めるという問題も
指摘されている。
そこで、超純水製造装置１から純水槽２を徹去
した場合、ユースポイント９での超純水の消費量
は常に一定ではなく、大量に消費する時もあれば
全く消費しない時もあることから、消費の変動に
追従して流量の補正と、圧力の補正を迅速に行な
う必要がある。
した場合、ユースポイント９での超純水の消費量
は常に一定ではなく、大量に消費する時もあれば
全く消費しない時もあることから、消費の変動に
追従して流量の補正と、圧力の補正を迅速に行な
う必要がある。
本発明は、このような観点に鑑みなされたもの
で、純水槽のない超純水製造装置において、ユー
スポイントでの超純水の要求される消費量を常に
満たすことができる超純水製造装置の制御方法を
提供することを目的とするものである。
で、純水槽のない超純水製造装置において、ユー
スポイントでの超純水の要求される消費量を常に
満たすことができる超純水製造装置の制御方法を
提供することを目的とするものである。
本発明の目的を達成するための要旨とするとこ
ろは、紫外線照射装置、イオン交換樹脂塔、膜処
理装置及び該紫外線照射装置の前段に配置される
循環ポンプ等からなり、該循環ポンプにより１次
純水をこれらに順次通水し超純水を製造しユース
ポイントに供給する第１の系と、該ユースポイン
トで未使用の超純水を該第１の系の循環ポンプの
入口側に戻すとともに、前段に配置される１次純
水製造装置の給水ポンプからの１次純水が供給さ
れる第２の系とを有する超純水製造装置におい
て、前記第１の系の循環ポンプの吐出流量を所定
流量に調節するか又は該第１の系の流量を検出し
て目標流量に該循環ポンプの回転数を制御すると
ともに、前記第２の系の圧力を検出し、第２の系
の圧力を目標圧力となるように前記１次純水製造
装置の給水ポンプの回転数を制御することを特徴
とする超純水製造装置の製造方法にある。
ろは、紫外線照射装置、イオン交換樹脂塔、膜処
理装置及び該紫外線照射装置の前段に配置される
循環ポンプ等からなり、該循環ポンプにより１次
純水をこれらに順次通水し超純水を製造しユース
ポイントに供給する第１の系と、該ユースポイン
トで未使用の超純水を該第１の系の循環ポンプの
入口側に戻すとともに、前段に配置される１次純
水製造装置の給水ポンプからの１次純水が供給さ
れる第２の系とを有する超純水製造装置におい
て、前記第１の系の循環ポンプの吐出流量を所定
流量に調節するか又は該第１の系の流量を検出し
て目標流量に該循環ポンプの回転数を制御すると
ともに、前記第２の系の圧力を検出し、第２の系
の圧力を目標圧力となるように前記１次純水製造
装置の給水ポンプの回転数を制御することを特徴
とする超純水製造装置の製造方法にある。
以下本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細
に説明する。
に説明する。
実施例 １
第１図は本発明の実施例１のフローを示してい
る。
る。
本実施例の超純水製造装置２０は、循環ポンプ
３、流量設定弁４、流量計５、紫外線照射装置
６、カートリツジポリシヤー７、膜処理装置８を
直列に接続して閉ループの循環系を構成し、ユー
スポイント９で消費した残りの超純水を循環ポン
プ３の入口側に戻すとともに、１次純水製造装置
の補給水ポンプ１２からの純水を循環ポンプ３に
直接供給している。なお、本実施例の補給水ポン
プ１２はインバータで回転数制御が行なわれる。
３、流量設定弁４、流量計５、紫外線照射装置
６、カートリツジポリシヤー７、膜処理装置８を
直列に接続して閉ループの循環系を構成し、ユー
スポイント９で消費した残りの超純水を循環ポン
プ３の入口側に戻すとともに、１次純水製造装置
の補給水ポンプ１２からの純水を循環ポンプ３に
直接供給している。なお、本実施例の補給水ポン
プ１２はインバータで回転数制御が行なわれる。
２１は循環ポンプ３の入口側圧力P1を検出す
る圧力検出器で、検出した循環ポンプ３の入口圧
力P1は、マイクロコンピユータ等からなる制御
装置２２に出力される。制御装置２２には目標圧
力P2が設定され、循環ポンプ３の入口側圧力P1
が目標圧力P2と等しくなるように補給水ポンプ
１２の回転数制御を行なう。なお、２３は補給水
ポンプ１２から超純水製造装置２０に補給される
純水が、誤つて循環ポンプ３、紫外線照射装置６
等を経ることなく直接ユースポイント９側に流れ
るのを防止するための逆止弁である。
る圧力検出器で、検出した循環ポンプ３の入口圧
力P1は、マイクロコンピユータ等からなる制御
装置２２に出力される。制御装置２２には目標圧
力P2が設定され、循環ポンプ３の入口側圧力P1
が目標圧力P2と等しくなるように補給水ポンプ
１２の回転数制御を行なう。なお、２３は補給水
ポンプ１２から超純水製造装置２０に補給される
純水が、誤つて循環ポンプ３、紫外線照射装置６
等を経ることなく直接ユースポイント９側に流れ
るのを防止するための逆止弁である。
本実施例は循環水量に比べてユースポイント９
の一か所当たりの消費量が少ない場合を想定した
もので、この場合、循環ポンプ３に戻る水量の変
化が緩やかであること及びカートリツジポリシヤ
ー７、膜処理装置８等の圧力損失が短期的にみる
とほぼ一定であることから、流量設定弁４で流量
を設定することにより概一定の流量を確保でき、
ユースポイント９で要求される量の超純水を常に
供給することができることとなる。
の一か所当たりの消費量が少ない場合を想定した
もので、この場合、循環ポンプ３に戻る水量の変
化が緩やかであること及びカートリツジポリシヤ
ー７、膜処理装置８等の圧力損失が短期的にみる
とほぼ一定であることから、流量設定弁４で流量
を設定することにより概一定の流量を確保でき、
ユースポイント９で要求される量の超純水を常に
供給することができることとなる。
また、ユースポイント９での超純水の消費によ
り循環ポンプ(3)の入口圧力P1が変動するが、制
御装置２２により圧力検出器２１で検出した循環
ポンプ３の入口圧力P1が目標圧力P2と等しくな
るように補給水ポンプ１２の回転数制御を行なつ
てその変動分を補正し、ユースポイント９におけ
る超純水の吐出圧を常に目標圧力P2に維持する
ことができることとなる。
り循環ポンプ(3)の入口圧力P1が変動するが、制
御装置２２により圧力検出器２１で検出した循環
ポンプ３の入口圧力P1が目標圧力P2と等しくな
るように補給水ポンプ１２の回転数制御を行なつ
てその変動分を補正し、ユースポイント９におけ
る超純水の吐出圧を常に目標圧力P2に維持する
ことができることとなる。
実施例 ２
第２図は実施例２のフローを示している。
上記の実施例１は流量設定弁４により循環ポン
プ３の吐出流量を設定しているが、本実施例の超
純水製造装置３０は、循環ポンプ３をインバータ
により回転数制御可能とするとともに、流量検出
器３１により循環ポンプ３の吐出流量Q1を検出
し、マイクロコンピユータ等からなる制御装置３
２に出力して循環ポンプ３の回転数制御を行な
い、循環流量を制御するようにしたもので、循環
ポンプ３の入口側圧力の制御は上記実施例１と同
様に制御装置３２により圧力検出器２１の検出圧
力P1と目標圧力P2との変動分を補給水ポンプ１
２の回転数制御で補正するようにしている。
プ３の吐出流量を設定しているが、本実施例の超
純水製造装置３０は、循環ポンプ３をインバータ
により回転数制御可能とするとともに、流量検出
器３１により循環ポンプ３の吐出流量Q1を検出
し、マイクロコンピユータ等からなる制御装置３
２に出力して循環ポンプ３の回転数制御を行な
い、循環流量を制御するようにしたもので、循環
ポンプ３の入口側圧力の制御は上記実施例１と同
様に制御装置３２により圧力検出器２１の検出圧
力P1と目標圧力P2との変動分を補給水ポンプ１
２の回転数制御で補正するようにしている。
制御装置３２は閉循環ループにおける目標流量
Q2が予め設定され、流量検出器３１で検出した
循環ポンプ３の吐出流量Q1と目標流量Q2とを比
較し、その変動分（Q2−Q1）を循環ポンプ３の
回転数制御で補正する。
Q2が予め設定され、流量検出器３１で検出した
循環ポンプ３の吐出流量Q1と目標流量Q2とを比
較し、その変動分（Q2−Q1）を循環ポンプ３の
回転数制御で補正する。
したがつて、本実施例によれば、ユースポイン
ト９おける超純水の消費量が大きく変動しても目
標流量Q2及び目標圧力P2に迅速に補正され、必
要とする量の超純水を給水することが可能とな
る。
ト９おける超純水の消費量が大きく変動しても目
標流量Q2及び目標圧力P2に迅速に補正され、必
要とする量の超純水を給水することが可能とな
る。
なお、上記した各実施例において、１次純水製
造装置については補給水ポンプ１２のみ説明した
が、例えば補給水ポンプ１２の前段又は後段にイ
オン交換樹脂塔、逆浸透膜又は限外濾過膜等の膜
処理装置を配置してもよい。
造装置については補給水ポンプ１２のみ説明した
が、例えば補給水ポンプ１２の前段又は後段にイ
オン交換樹脂塔、逆浸透膜又は限外濾過膜等の膜
処理装置を配置してもよい。
また、超純水製造装置２０または３０は、循環
ポンプ３の後段に紫外線照射装置６を配置してい
るが、循環ポンプ３の後段にカートリツジポリシ
ヤー７を配置し、その後段に紫外線照射装置６お
よび膜処理装置８を配置するようにしてもよい。
ポンプ３の後段に紫外線照射装置６を配置してい
るが、循環ポンプ３の後段にカートリツジポリシ
ヤー７を配置し、その後段に紫外線照射装置６お
よび膜処理装置８を配置するようにしてもよい。
以上説明してきたように、本発明によれば、ユ
ースポイントでの超純水の消費量変動を吸収する
ための純水槽を装備しなくても、ユースポイント
で要求される量の超純水を常に安定状態で供給す
ることが可能になるとともに全体の系において１
次純水の滞留がないので、高純度の超純水を供給
でき、また超純水製造装置のコンパクト化を図
れ、しかも純水槽に供給していた窒素ガスも不要
になる等の効果が得られる。
ースポイントでの超純水の消費量変動を吸収する
ための純水槽を装備しなくても、ユースポイント
で要求される量の超純水を常に安定状態で供給す
ることが可能になるとともに全体の系において１
次純水の滞留がないので、高純度の超純水を供給
でき、また超純水製造装置のコンパクト化を図
れ、しかも純水槽に供給していた窒素ガスも不要
になる等の効果が得られる。
第１図は本発明方法を実施する超純水製造装置
の実施例１のフロー、第２図は実施例２のフロ
ー、第３図は従来の超純水製造装置のフローを示
している。 １…超純水製造装置、２…純水槽、３…循環ポ
ンプ、４…流量設定弁、５…流量計、６…紫外線
照射装置、７…カートリツジポリシヤー、８…膜
処理装置、９…ユースポイント、１０…圧力検出
器、１１…圧力調節弁、１２…補給水ポンプ、２
０，３０…超純水製造装置、２１…圧力検出器、
３１…流量検出器。
の実施例１のフロー、第２図は実施例２のフロ
ー、第３図は従来の超純水製造装置のフローを示
している。 １…超純水製造装置、２…純水槽、３…循環ポ
ンプ、４…流量設定弁、５…流量計、６…紫外線
照射装置、７…カートリツジポリシヤー、８…膜
処理装置、９…ユースポイント、１０…圧力検出
器、１１…圧力調節弁、１２…補給水ポンプ、２
０，３０…超純水製造装置、２１…圧力検出器、
３１…流量検出器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 紫外線照射装置、イオン交換樹脂塔、膜処理
装置及び該紫外線照射装置の前段に配置される循
環ポンプ等からなり、該循環ポンプにより１次純
水をこれらに順次通水し超純水を製造しユースポ
イントに供給する第１の系と、 該ユースポイントで未使用の超純水を該第１の
系の循環ポンプの入口側に戻すとともに、前段に
配置される１次純水製造装置の給水ポンプからの
１次純水が供給される第２の系とを有する超純水
製造装置において、 前記第１の系の循環ポンプの吐出流量を所定流
量に調節するか又は該第１の系の流量を検出して
目標流量に該循環ポンプの回転数を制御するとと
もに、前記第２の系の圧力を検出し、該第２の系
の圧力を目標圧力となるように前記１次純水製造
装置の給水ポンプの回転数を制御することを特徴
とする超純水製造装置の制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62192142A JPS6438185A (en) | 1987-07-31 | 1987-07-31 | Controlling method for ultrapure water producing device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62192142A JPS6438185A (en) | 1987-07-31 | 1987-07-31 | Controlling method for ultrapure water producing device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6438185A JPS6438185A (en) | 1989-02-08 |
| JPH0450072B2 true JPH0450072B2 (ja) | 1992-08-13 |
Family
ID=16286390
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62192142A Granted JPS6438185A (en) | 1987-07-31 | 1987-07-31 | Controlling method for ultrapure water producing device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6438185A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020076881A (ko) * | 2001-03-31 | 2002-10-11 | 제이에이비에이코리아(주) | 순수 및 초순수 제조장치의 구동상태 표시장치 및 방법 |
| JP2023008823A (ja) * | 2021-07-02 | 2023-01-19 | オルガノ株式会社 | 純水製造装置およびその運転方法 |
| JP7584574B1 (ja) * | 2023-06-15 | 2024-11-15 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 液体循環システム |
-
1987
- 1987-07-31 JP JP62192142A patent/JPS6438185A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6438185A (en) | 1989-02-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5614088A (en) | Cleaning water production system | |
| JP3187629B2 (ja) | 逆浸透膜処理方法 | |
| TWI739540B (zh) | 水處理系統及超純水製造系統與水處理方法 | |
| US5160429A (en) | Piping system for supplying ultra-pure water | |
| JP4973853B2 (ja) | 純水製造システム | |
| CN114269696B (zh) | Toc处理装置和处理方法 | |
| JP4978590B2 (ja) | 純水製造装置 | |
| US20240182330A1 (en) | Electrodeionization system and control method for electrodeionization system | |
| CN115702120A (zh) | 超纯水制造装置 | |
| JPH0341729A (ja) | 基板洗浄方法 | |
| JP7306074B2 (ja) | 超純水製造装置及び超純水製造方法 | |
| WO2024080079A1 (ja) | 純水製造装置 | |
| JPS60129103A (ja) | 超純水製造装置 | |
| JP3941139B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
| JPH0450073B2 (ja) | ||
| JP2005288300A (ja) | 超純水製造装置 | |
| JP2023032884A (ja) | 精製水供給システム | |
| JPS59228988A (ja) | 逆浸透膜法により高電導度水から純水を得る方法 | |
| JP4654526B2 (ja) | 比抵抗調整水製造装置 | |
| TWI887482B (zh) | 純水製造系統及純水製造方法 | |
| JP7831532B1 (ja) | 純水製造システムの制御方法 | |
| JP7584574B1 (ja) | 液体循環システム | |
| JP7831503B2 (ja) | 超純水製造装置の制御方法 | |
| JPS607989A (ja) | 超純水の製造装置 | |
| TW202436239A (zh) | 純水製造系統的控制方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |