JPH0450073B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0450073B2 JPH0450073B2 JP62192143A JP19214387A JPH0450073B2 JP H0450073 B2 JPH0450073 B2 JP H0450073B2 JP 62192143 A JP62192143 A JP 62192143A JP 19214387 A JP19214387 A JP 19214387A JP H0450073 B2 JPH0450073 B2 JP H0450073B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flow rate
- water
- pure water
- circulation pump
- ultrapure water
- Prior art date
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Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、超純水製造装置の制御方法に関する
ものである。
ものである。
一般に、超純水製造システムは、純水製造装置
を多段に直列接続して順次純度を高め、最終段の
サブシステム、所謂超純水製造装置において理論
純水に近い超純水を得るようにしているのが普通
で、工業用水、上水等の原水又は原水に回収水を
混ぜたものを用いて超純水の製造を行ない、例え
ばIC，LSI等の半導体の洗浄水として使用され
る。
を多段に直列接続して順次純度を高め、最終段の
サブシステム、所謂超純水製造装置において理論
純水に近い超純水を得るようにしているのが普通
で、工業用水、上水等の原水又は原水に回収水を
混ぜたものを用いて超純水の製造を行ない、例え
ばIC，LSI等の半導体の洗浄水として使用され
る。
第２図は従来の超純水製造装置（サブシステ
ム）の代表的なフローを示している。
ム）の代表的なフローを示している。
超純水製造装置１は、純水槽２、循環ポンプ
３、流量設定弁４、流量計５、紫外線照射装置
６、イオン交換樹脂が充填されたカートリツジポ
リシヤー７、逆浸透膜又は限外濾過膜等からなる
膜処理装置８、ユースポイント９、圧力検出器１
０、圧力調節弁１１から構成され、純水槽２に
は、超純水製造装置１の前段の純水製造装置（以
下１次純水製造装置と称す）における補給水ポン
プ１２からの純水が給水されるとともに、液面変
動による環境からの汚染防止の目的から高純度窒
素ガスが封入されている。純水槽２内の純水は、
循環ポンプ３により順に紫外線照射装置６、カー
トリツジポリシヤー７、膜処理装置８を経て殺菌
処理及び微粒子、有機物、イオン等の不純物の除
去処理により超純水化され、ユースポイント９に
給水されて消費される。その際、循環ポンプ３か
ら紫外線照射装置６に向け供給される純水は、流
量計５で流量を検出しながら流量設定弁４により
予め設定した流量に調節されている。
３、流量設定弁４、流量計５、紫外線照射装置
６、イオン交換樹脂が充填されたカートリツジポ
リシヤー７、逆浸透膜又は限外濾過膜等からなる
膜処理装置８、ユースポイント９、圧力検出器１
０、圧力調節弁１１から構成され、純水槽２に
は、超純水製造装置１の前段の純水製造装置（以
下１次純水製造装置と称す）における補給水ポン
プ１２からの純水が給水されるとともに、液面変
動による環境からの汚染防止の目的から高純度窒
素ガスが封入されている。純水槽２内の純水は、
循環ポンプ３により順に紫外線照射装置６、カー
トリツジポリシヤー７、膜処理装置８を経て殺菌
処理及び微粒子、有機物、イオン等の不純物の除
去処理により超純水化され、ユースポイント９に
給水されて消費される。その際、循環ポンプ３か
ら紫外線照射装置６に向け供給される純水は、流
量計５で流量を検出しながら流量設定弁４により
予め設定した流量に調節されている。
一方、ユースポイント９での消費残の超純水は
圧力調節弁１１を径て純水槽２に戻るが、超純水
の消費量が変動してもユースポイント９における
超純水の吐出圧を必要な圧力に維持するために、
圧力検出器１０で圧力検出を行ない圧力調節弁１
１で設定圧力に調節している。
圧力調節弁１１を径て純水槽２に戻るが、超純水
の消費量が変動してもユースポイント９における
超純水の吐出圧を必要な圧力に維持するために、
圧力検出器１０で圧力検出を行ない圧力調節弁１
１で設定圧力に調節している。
そして、純水槽２内の液面が所定値より下がつ
た分だけ補給水ポンプ１２から純水が補給され
る。
た分だけ補給水ポンプ１２から純水が補給され
る。
ところで、このような超純水製造装置１におい
て、純水び超純水に滞留が生じると生菌が繁殖
し、そのために超純水の純度低下を招くので、純
水及び超純水の滞留を極力避ける配管としている
が、配管の工夫だけでは滞留の問題を解決できな
いことが指摘されている。
て、純水び超純水に滞留が生じると生菌が繁殖
し、そのために超純水の純度低下を招くので、純
水及び超純水の滞留を極力避ける配管としている
が、配管の工夫だけでは滞留の問題を解決できな
いことが指摘されている。
つまり、超純水製造装置１は、ユースポイント
９での超純水消費量の変動を吸収するために、常
時純水を貯留しておく純水槽２を装備しているこ
とから、この純水槽２内で純水の滞留が生じ、運
転時間の増大とともに純水槽２内での生菌、微粒
子が増大する点である。
９での超純水消費量の変動を吸収するために、常
時純水を貯留しておく純水槽２を装備しているこ
とから、この純水槽２内で純水の滞留が生じ、運
転時間の増大とともに純水槽２内での生菌、微粒
子が増大する点である。
また、上記した滞留の問題とは別に、純水槽２
の液面変動により絶えず高純度窒素が消費される
という問題や、純水槽２の占有面積が超純水製造
装置１の中でかなりの割合を占めるという問題も
指摘されている。
の液面変動により絶えず高純度窒素が消費される
という問題や、純水槽２の占有面積が超純水製造
装置１の中でかなりの割合を占めるという問題も
指摘されている。
そこで、超純水製造装置１から純水槽２を徹去
した場合、ユースポイント９での超純水の消費量
は常に一定ではなく、大量に消費する時もあれば
全く消費しない時もあることから、消費の変動に
追従して流量の補正と、圧力の補正を迅速に行な
う必要がある。
した場合、ユースポイント９での超純水の消費量
は常に一定ではなく、大量に消費する時もあれば
全く消費しない時もあることから、消費の変動に
追従して流量の補正と、圧力の補正を迅速に行な
う必要がある。
本発明は、このような観点に鑑みなされたもの
で、純水槽のない超純水製造装置において、ユー
スポイントでの超純水の要求される消費量を常に
満たすことができる超純水製造装置の制御方法を
提供することを目的とするもである。
で、純水槽のない超純水製造装置において、ユー
スポイントでの超純水の要求される消費量を常に
満たすことができる超純水製造装置の制御方法を
提供することを目的とするもである。
本発明の目的を達成するための要旨とするとこ
ろは、紫外線照射装置、イオン交換樹脂塔、膜処
理装置及び該紫外線照射装置の前段に配置される
循環ポンプ等からなり、該循環ポンプにより１次
純水をこれらに順次通水し超純水を製造しユース
ポイントに供給する第１の系と、該ユースポイン
トで未使用の超純水を該第１の系の循環ポンプの
入口側に戻すとともに、前段に配置される１次純
水製造装置の給水ポンプからの１次純水が供給さ
れる第２の系とを有する超純水製造装置におい
て、前記第１の系の流量を検出し、該第１の系の
流量を予め設定した流量となるように該第１の系
の循環ポンプの回転数を制御するとともに、前記
第２の系の流量を検出し、該第１の系の流量と該
第２の系との流量差分だけ１次純水を第２の系に
補給するように前記１次純水製造装置の給水ポン
プの回転数を制御することを特徴とする超純水製
造装置の製造方法にある。
ろは、紫外線照射装置、イオン交換樹脂塔、膜処
理装置及び該紫外線照射装置の前段に配置される
循環ポンプ等からなり、該循環ポンプにより１次
純水をこれらに順次通水し超純水を製造しユース
ポイントに供給する第１の系と、該ユースポイン
トで未使用の超純水を該第１の系の循環ポンプの
入口側に戻すとともに、前段に配置される１次純
水製造装置の給水ポンプからの１次純水が供給さ
れる第２の系とを有する超純水製造装置におい
て、前記第１の系の流量を検出し、該第１の系の
流量を予め設定した流量となるように該第１の系
の循環ポンプの回転数を制御するとともに、前記
第２の系の流量を検出し、該第１の系の流量と該
第２の系との流量差分だけ１次純水を第２の系に
補給するように前記１次純水製造装置の給水ポン
プの回転数を制御することを特徴とする超純水製
造装置の製造方法にある。
以下本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細
に説明する。
に説明する。
第１図は本発明の一実施例のフローを示してい
る。
る。
本実施例の超純水製造装置２０は、循環ポンプ
３、紫外線照射装置６、カートリツジポリシヤー
７、膜処理装置８を直列に接続して閉ループの循
環系を構成し、ユースポイント９で消費した残り
の超純水を循環ポンプ３の入口側に戻すととも
に、１次純水製造装置の補給水ポンプ１２からの
純水を循環ポンプ３に直接供給している。
３、紫外線照射装置６、カートリツジポリシヤー
７、膜処理装置８を直列に接続して閉ループの循
環系を構成し、ユースポイント９で消費した残り
の超純水を循環ポンプ３の入口側に戻すととも
に、１次純水製造装置の補給水ポンプ１２からの
純水を循環ポンプ３に直接供給している。
なお、本実施例の循環ポンプ３及び補給水ポン
プ１２はインバータで回転数制御が夫々行なわれ
る。
プ１２はインバータで回転数制御が夫々行なわれ
る。
２１は循環ポンプ３の吐出流量Q1を検出する
第１流量検出器で、検出した循環ポンプ３の吐出
流量Q1は、マイクロコンピユータ等からなる制
御装置２２に出力される。
第１流量検出器で、検出した循環ポンプ３の吐出
流量Q1は、マイクロコンピユータ等からなる制
御装置２２に出力される。
制御装置２２は予め循環系の目標流量Q2が設
定され、循環ポンプ３の吐出流量Q1と目標流量
Q2とを比較し、その変動分（Q2−Q1）を補正す
るように循環ポンプ３の回転数制御を行なう。
定され、循環ポンプ３の吐出流量Q1と目標流量
Q2とを比較し、その変動分（Q2−Q1）を補正す
るように循環ポンプ３の回転数制御を行なう。
２３はユースポイント９から循環ポンプ３に戻
る超純水の流量Q3を検出する第２流量検出器で、
検出流量Q3を制御装置２２に出力する。なお、
２４は補給水ポンプ１２から超純水製造装置２０
に補給される純水が、誤つて循環ポンンプ３、紫
外線照射装置６等を経ることなく直接ユースポイ
ント９側に流れるのを防止するための逆止弁であ
る。
る超純水の流量Q3を検出する第２流量検出器で、
検出流量Q3を制御装置２２に出力する。なお、
２４は補給水ポンプ１２から超純水製造装置２０
に補給される純水が、誤つて循環ポンンプ３、紫
外線照射装置６等を経ることなく直接ユースポイ
ント９側に流れるのを防止するための逆止弁であ
る。
制御装置２２は上記した循環ポンプ３の回転数
制御に加えて、第１流量検出器２１で検出した流
量Q1と第２流量検出器２３で検出した流量Q3と
を比較し、その差分（Q1−Q3）を補給するよう
に補給水ポンプ１２の回転数制御を行なう。
制御に加えて、第１流量検出器２１で検出した流
量Q1と第２流量検出器２３で検出した流量Q3と
を比較し、その差分（Q1−Q3）を補給するよう
に補給水ポンプ１２の回転数制御を行なう。
すなわち、ユースポイント９で超純水が消費さ
れると、ユースポイント９から循環ポンプ３に戻
る流量は減少し、それに伴つてユースポイント９
における超純水の供給圧力の低下を招くが、消費
分に相当する量の純水が補給水ポンプ１２から循
環ポンプ３に供給されるので、循環ポンプ３の入
口側圧力が上昇し、該供給圧力の低下が防がれる
こととなる。
れると、ユースポイント９から循環ポンプ３に戻
る流量は減少し、それに伴つてユースポイント９
における超純水の供給圧力の低下を招くが、消費
分に相当する量の純水が補給水ポンプ１２から循
環ポンプ３に供給されるので、循環ポンプ３の入
口側圧力が上昇し、該供給圧力の低下が防がれる
こととなる。
また、ユースポイント９におおける超純水の消
費量が変動しても、循環ポンンプ３は目標流量
Q2となるように吐出流量が制御されるので、要
求流量を充分満たすことができることとなる。
費量が変動しても、循環ポンンプ３は目標流量
Q2となるように吐出流量が制御されるので、要
求流量を充分満たすことができることとなる。
なお、上記した実施例において、１次純水製造
装置については補給水ポンプ１２のみ説明した
が、例えば補給水ポンプ１２の前段又は後段にイ
オン交換樹脂塔、逆浸透膜又は限外濾過膜等の膜
処理装置を配置してもよい。
装置については補給水ポンプ１２のみ説明した
が、例えば補給水ポンプ１２の前段又は後段にイ
オン交換樹脂塔、逆浸透膜又は限外濾過膜等の膜
処理装置を配置してもよい。
また、超純水製造装置２０は、循環ポンプ３の
後段に紫外線照射装置６を配置しているが、循環
ポンプ３の後段にカートリツジポリシヤー７を配
置し、その後段に紫外線照射装置６および膜処理
装置８を配置するようにしてもよい。
後段に紫外線照射装置６を配置しているが、循環
ポンプ３の後段にカートリツジポリシヤー７を配
置し、その後段に紫外線照射装置６および膜処理
装置８を配置するようにしてもよい。
以上説明してきたように、本発明によれば、ユ
ースポイントでの超純水の消費量変動を吸収する
ための純水槽を装備しなくても、ユースポイント
で要求される量の超純水を常に安定状態で供給す
ることが可能になるとともに全体の系において１
次純水の滞留がないので、高純度の超純水を供給
でき、また超純水製造装置のコンパクト化を図
れ、しかも純水槽に供給していた窒素ガスも不要
になる等の効果が得られる。
ースポイントでの超純水の消費量変動を吸収する
ための純水槽を装備しなくても、ユースポイント
で要求される量の超純水を常に安定状態で供給す
ることが可能になるとともに全体の系において１
次純水の滞留がないので、高純度の超純水を供給
でき、また超純水製造装置のコンパクト化を図
れ、しかも純水槽に供給していた窒素ガスも不要
になる等の効果が得られる。
第１図は本発明方法を実施する超純水製造装置
の一実施例のフロー、第２図は従来の超純水製造
装置のフローを示している。 １…超純水製造装置、２…純水槽、３…循環ポ
ンプ、４…流量設定弁、５…流量計、６…紫外線
照射装置、７…カートリツジポリシヤー、８…膜
処理装置、９…ユースポイント、１０…圧力検出
器、１１…圧力調節弁、１２…補給水ポンプ、２
０…超純水製造装置、２１，２３流量検出器、２
２…制御装置。
の一実施例のフロー、第２図は従来の超純水製造
装置のフローを示している。 １…超純水製造装置、２…純水槽、３…循環ポ
ンプ、４…流量設定弁、５…流量計、６…紫外線
照射装置、７…カートリツジポリシヤー、８…膜
処理装置、９…ユースポイント、１０…圧力検出
器、１１…圧力調節弁、１２…補給水ポンプ、２
０…超純水製造装置、２１，２３流量検出器、２
２…制御装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 紫外線照射装置、イオン交換樹脂塔、膜処理
装置及び該紫外線照射装置の前段に配置される循
環ポンプ等からなり、該循環ポンプにより１次純
水をこれらに順次通水し超純水を製造しユースポ
イントに供給する第１の系と、 該ユースポイントで未使用の超純水を該第１の
系の循環ポンプの入口側に戻すとともに、前段に
配置される１次純水製造装置の給水ポンプからの
１次純水が供給される第２の系とを有する超純水
製造装置において、 前記第１の系の流量を検出し、該第１の系の流
量を予め設定した流量となるように該第１の系の
循環ポンプの回転数を制御するとともに、前記第
２の系の流量を検出し、該第１の系の流量と該第
２の系との流量差分だけ１次純水を第２の系に補
給するように前記１次純水製造装置の給水ポンプ
の回転数を制御することを特徴とする超純水製造
装置の制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62192143A JPS6438186A (en) | 1987-07-31 | 1987-07-31 | Controlling method for ultrapure water producing device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62192143A JPS6438186A (en) | 1987-07-31 | 1987-07-31 | Controlling method for ultrapure water producing device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6438186A JPS6438186A (en) | 1989-02-08 |
| JPH0450073B2 true JPH0450073B2 (ja) | 1992-08-13 |
Family
ID=16286409
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62192143A Granted JPS6438186A (en) | 1987-07-31 | 1987-07-31 | Controlling method for ultrapure water producing device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6438186A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2652301B2 (ja) * | 1992-05-28 | 1997-09-10 | 株式会社荏原製作所 | 洗浄水製造装置 |
| JP7584574B1 (ja) * | 2023-06-15 | 2024-11-15 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 液体循環システム |
-
1987
- 1987-07-31 JP JP62192143A patent/JPS6438186A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6438186A (en) | 1989-02-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |