JPH04501614A - Ｘ線蛍光体作像スクリーン及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 Ｘ線蛍光体作像スクリーン及びその製造方法技術分野 本発明は、光を発生し放出させるＸ線活性化蛍光体を使用するタイプのＸ線作像 スクリーン（Ｘ−ｒａｙ　ｉｍａｇｉｎｇ　５ｃｒｅｅｎｓ）に関し、その放出 された光が感光性（ｐｈｏｔｏｓｅｎｓｉｔｉｖｅ）フィルム又は感光性（ｌｉ ｇｈｔ　５ｅｎｓｉｔｉｖｅ）立体形状センサーを露光するために使用されるよ うな前記Ｘ線作像スクリーンに関する。

背景技術 例えば１５−１．１５ＫｅＶのエネルギー範囲でＸ線を捕らえて光を発生し放射 する蛍光体層を、Ｘ線作像スクリーン内に設けることは公知であり、この放射さ れた光は、感光性フィルム又は感光性立体形状センサーを露光させて、所望のＸ 線の像を作る。

そのようなスクリーンの例が、第１図に示されており、同図中Ｘ線作像スクリー ン１０は、基板１２上に形成された蛍光体層１１と、スクリーンの蛍光体１１の 側部に対して押圧付着された感光性フィルムシート１３とからなる。−束のＸ線 エネルギー１４が蛍光体層１１内に入って蛍光体分子１５により吸収されるとき 、分子は蛍光を発し、か（して第１図中矢印で示す全ての方向へ比較的均一に光 線を放射する。蛍光体層１１をその右端表面を介して出て行（光線は、感光性フ ィルム１３に入つてフィルムの感光乳剤（エマルジョン）を露光させる。フィル ムはそのとき従来の現像技術により処理されて、フィルム１３上にはＸ線の像が 永久的に記録される。フィルムをＸ線エネルギーにより直接露光させる上記従来 装置の利点は、大きな原子番号の蛍光体材料を適当に選択することにより、スク リーンに一層大きな感度を持たせて、スクリーンのＸ線吸収効率を増大させる得 ることである。

しかしながら、上記従来装置の一つの欠点は、活性化された蛍光体１１から放射 された全光線の僅かの割合、即ち５０パーセント以下がフィルム１３に指向され るに過ぎないことである。蛍光体層１１０表面と平行の方向又はフィルム１３か ら逃げる方向へ指向される光線は失われてしまい、かくしてフィルムに感光性を 与えるに有効なＸ線エネルギーから光への変換効率が限定されてしまう。

このタイプの装置の光収集効率、即ち全体の感度は、二枚のフィルムシート間に 蛍光体層を挟んで、蛍光体スクリーンの両対向面から逃げる光線を捕らえること により、増大させることができる。そのとき現像後に二枚のフィルムを重ねるこ とにより合成像が得られる。

他の公知の感度を増大させる方法が、第２図の変形したスクリーン１０′として 示され、同図中、鏡１８がフィルム１３と対向するスクリーンの左側部に配置さ れている。この蛍光体層１１のフィルムの無い側から通常の態様で出た光線は、 鏡１８で反射されてフィルムへ至る。鏡としては、いわゆる鏡を使用してもよい が、或いは蛍光体基板１２に蛍光体１１を積層する以前に蛍光体基板１２の表面 １２ａをアルミニウムメッキして作ってもよい。第２図の鏡を設けられた装置は 光収集効率即ちスクリーン感度を改良し得るという利点を有するが、鏡１８から の反射光があるため、有効スポット寸法ｄ′が太き（なり、その分だけ解像度が 低下してしまう。こに点については、第１図の直接光線からのみ得られるより小 さなスポット寸法ｄと比較されたい。

米国特許第４．９１２．３３３号（本出願人との共有であり、１９９０年３月２ ７日に発行）においては、蛍光体のＸ線像を強化するスクリーンの光収集効率が 反射手段としての逆反射性小レンズ群（１ｅｎｓｌｅｔｓ）を使用することによ り改良され得ることが開示されている。逆反射面とは、反射軸線に沿う反射した 入射光線が当初の入射光線の軸線と実質的に平行である特徴を有している。この ためフィルム上の得られた照明スポット寸法は第１図の直接光線により作られる スポット寸法ｄと効果的に同一となるが、それでいて一層大きな光強度を有して いる。結果的に、逆反射面を使用することにより、像の解像度を大幅に低下させ ることなく、作像スクリーンの感度を増大させ得る。

上記米国特許第４．９１２．３３３号は、Ｘ線増強スクリーンにおける逆反射面 の利点を認識してはいるが、逆反射媒体としてマイクロビード（ｍｉｃｒｏｂｅ ａｄｓ）の形状のレンズを使用することを開示するのみである。それらは本発明 の目的に対しても効果的ではあるが、近接集合されたビードは本質的にビード間 に反射効率を低下させる空隙を有するという事実から生ずる欠陥を有する。それ らはまた、各ビードの外方周囲の回りに反射体として作用しないバンド部分を有 する。

それゆえ本発明の目的は、逆反射性後方面を使用することにより、感度を強調し 得るが、平面状反射面のときに相当程度束ずる解像度ロスを生じないＸ線活性化 蛍光体作像スクリーンを提供することを目的とする。

本発明の他の目的は、コーナー状立方体の逆反射体表面を伴って記述されるタイ プの作像スクリーンであって、該コーナー状立方体の空間（ａｐｅｒｔｕｒｅｓ ）が微視的に小さく、従って該空間が比較的薄い蛍光体層内に生ずる光源付き逆 反射体として効果的である前記作像スクリーンを提供することを目的とする。

本発明の更に他の目的は、微視的に小さいコーナー状立方体の整列を伴う表面を 形成する方法を提供することを目的とする。

本発明の更に他の目的は、Ｘ線活性化蛍光体作像スクリーンに使用するに適した 逆反射性材料のシートを製造する方法を提供することを目的とする。

発明の開示 上記目的を達成するための本発明の構成は、平面状整列のコーナー状立方体表面 の製造方法であって、立方体構造のＨ１１平面内で配向されたウェファ一対向面 を設けられた立方体格子構造を有する単結晶材料のウェファ−を形成する工程と 、所望整列状態で近接的に集合した等辺三角形開口部からなるフォトレジストパ ターンをウェファ−の対向面上に形成する工程であって、隣接する開口部は一対 のかつ同−広がりのかつ平行の辺を有し、三角形開口部の辺は立方体構造の対向 面の＋１１１１平面内で立方体格子の＜１１０＞方向と平行であり、該隣接三角 形開口部の該平行辺は整列パターンの全範囲にわたり所定寸法だけ互に離間して いるような前記工程と、 立方体格子構造のＨ００１平面を選択的にエツチングするに適した異方性エツチ ング液により結晶材料をエツチングして、フォトレジストパターンの三角形開口 部の下方の内部コーナー状立方体のピラミッド状表面の対応整列を形成する工程 とからなる。エツチング工程の終了時には、フォトレジストパターンは、ウェフ ァ−の対向面上に平面状整列のコーナー状立方体表面を残すように除去される。

平面状整列コーナー状立方体表面を作ったとき、Ｘ線により活性化される蛍光体 の作像スクリーンの後方反射体として使用される逆反射性シートが、コーナー状 立方体表面の陰画マスターを金属メッキ等により形成し更に該陰画マスターを単 結晶表面から分離させることにより、製造される。そのとき、エツチングされた 結晶のコーナー状立方体表面とマツチングした平面状整列のコーナー状立方体表 面を有するシートが、適当なモールディング工程によって陰画マスター上に形成 される。シートを陰画マスターから除去した後、コーナー状立方体表面が、アル ミニウムを上記表面に蒸着させる等の適当な方法によって反射性を有するよう形 成される。

図面の簡単な説明 第１図はＸ線活性化蛍光体の作像スクリーンの従来技術の概略構成の断面を示す 。

第２図はＸ線活性化蛍光体の作像スクリーンの他の従来技術の概略構成の断面を 示す。

第３図は本発明によるＸ線活性化蛍光体の作像スクリーンの概略構成の断面を示 す。

第４図は本発明により製造されかつ第３図の作像スクリーン内で具体化されたコ ーナー状立方体逆反射性表面の一部の平面図である。

第５図は本発明の方法及び構造を説明するに有用な立方体格子の実物大のダイア グラムを示す。

第６図は本発明の方法に使用されるフォトレジストマスクパターンの一部の平面 図を示す。

第７図は本発明の方法を示すためのコーナー状立方体マスターパネルのセグメン トの一連の断面図を示す。

発明を行う最良の実施例 前述した通り、第１図及び第２図は、平面鏡を使用することにより、もし該平面 鏡が無ければ感光性フィルムから逸れてしまう光線を反射することにより蛍光体 スクリーンの効率を高める場合に、光線収集効率とイメージ（像）の解像力との 間のジレンマを効果的に示したものである。第２図の鏡１８は蛍光性の光線を外 方へ反射させることにより、第１図のスクリーンのスポット寸法ｄに比して、フ ィルム１３上のスポット寸法ｄ′の領域がかなり増大する。

本発明の作像スクリーンの現時点での好ましい具体例が第３図に示されており、 同図中第２図の平面鏡１８がコーナー状立方体の逆反射面（ｃｏｒｎｅｒ　ｃｕ ｂｅ　ｒｅｔｒｏ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ　５ｕｒｆａｃｅ　；逆反射性とは反 射経路が入射経路と平行の場合を指す）２１を有するシート２０により置き換え られており、逆反射面２１は蛍光体層１１の対向面２２に対面するよう位置決め される。図示の具体例では、シート２０は基板１２の外面に接触して位置決めさ れ、基板１２には蛍光体層１１が積層される。他の例として、蛍光体層１］はシ ート２０上に直接積層されてもよく、これにより中間基板１２を省略してもよい 。図面は実物大にはなっていないが、本発明の概念を最も良く示すように示され ていることを理解されたい。また、逆反射性シート２０の製造に使用する材料は 好ましくは、蛍光体層１１へのＸ線の進入が可能なるよう検出されるＸ線にとっ て実質的に透過性でなければならないことを理解されたい。

逆反射面２１は、第３図中二重の矢印線で示す如く、その反射光線が入射光線照 明の軸線に平行な軸線に実質的に沿って戻る特徴を示すものとして知られている 。コーナー状立方体反射セル（ｃｅｌｌ）の空間（ａｐｅｒｔｕｒｅ）が小さい ほど、入射及び反射軸線はより近接して一致する。従って、反射性シート２０の 逆反射性特徴によれば、蛍光体層１１の左側の対向面２２から通常比てくる光線 、又は平面鏡の場合には拡大する領域にわったって外方へ反射されるであろう光 線は、そうなる代わりに、最初の光源１５を通って伸びる軸線に沿って効果的に 戻る。か（して、より大きな明るさの場合は別として、第１図の無修正スクリー ンにより実現されるスポット寸法ｄと実質的に同一の寸法ｄでフィルム１３上に 露出を強化する。よう機能する。かくして、スクリーンの感度は解像力の相当程 度のロスを伴うことなく改良される。

周知の如く、第４図に最も良く示される如（、コーナー状立方体逆反射面２１は 、３つの辺のかつ内部がピラミッド状である平面状整列の複数の表面からなり、 これらは立方体の直径方向に反対のコーナ一部を接続するラインに直交する平面 と立方体のコーナ一部との交わりにより作られるであろう。か（して第４図にお いて、各内部ピラミッド状の面が、紙面上に横たわりかつ開放形状等辺三角形の 空間（ａｐｅｒｔｕｒｅ）を画成する３つの基部ライン３１ａ−３１ｃと、紙面 の下方に位置する共通頂点２３で交わる二等辺三角形表面を画成する３つの平面 状側部３２ａ−３２ｃとにより形成される。これらの、内部ピラミッド状表面は 適当な反射性表面処理、例えばアルミナ処理によりコーティングされて、所望の 逆反射面２１（第３図参照）を形成する。

逆反射面のｔ、賀により、光源が平面状整列の反射面から遠ざかるほど、反射光 線はそれだけ反射光線の散乱が最小となりつつ真の逆反射性となる。別の言い方 をすれば、反射性セルの空間は理想的には、フィルム１３上に結ばれる像に所望 の解像力を保持するために、光源１５からピラミッド内空間までの距離に比して 非常に小さくなければならない。本発明によって達成されるタイプの蛍光体スク リーンにおいては、光源１５から逆反射性面２１までの距離は、Ｘ線が蛍光体層 １１に吸収されるまでに該蛍光体層１１中を進行する距離（もし蛍光体層１１及 び反射基板間に蛍光体基板が使用されるなら、更には該蛍光体基板の厚さをプラ スしたもの）に依存して、蛍光の発生を生ずる。

より厚い蛍光体層１１はスクリーンの吸収効率を増大させかつ同時に反射体表面 からの蛍光体の発生の平均距離を増大させるが、最大の厚さは解像力を低下させ る光散乱の考察により限定される。蛍光体層１１内をＸ線が極小距離進行するの に対応してフィルム層から離れて生ずる蛍光の発生は、フィルム層に近接して生 ずる蛍光発生よりもフィルム上により大きな直径のスッポトを本質的に生せしめ る。典型的なＸ線蛍光体構成物では、その５０ミクロン〜２００ミクロンの厚さ 範囲が一般的に許容可能とされている。

この厚さ範囲内の蛍光体層で蛍光を発生するとき、もし反射物セルの空間寸法が 基部ライン３１ａ−３１ｃの一つから紙面上に横たわる対応する反対側頂点まで 伸びる直交ラインに沿って測ったときに約５０ミクロン又はそれ以下ならば、適 切な逆反射が得られる。しかしながら、最小の空間寸法は、回折効果を避けるた めに入射蛍光光線の波長により限定される。このため、最小の空間寸法は約１０ λであり、この場合λ（ラムダ）は入射光線の波長である。約０．５ミクロンの 典型的な波長λを仮定したとすると、これは、前述した如（約５０ミクロンまで の一層大きな反射物セル空間に対しても満足に機能するであろうが、約５ミクロ ンの反射物セル空間が考察されるタイプのスクリーンに対して好ましい逆反射性 の特徴を与えるであろう。

この小さな寸法の空間を有する適当なコーナー状立方体の反射物表面は、単結晶 立方体格子のシリコンウェファ−（ｗａｆｅｒ）から製造され得るが、このウェ ファ−は異方性のエツチング液によりエツチングしてコーナー状立方体反射物セ ルのマスターパターンを製造して得られる。この製法の説明の理解を助けるため に、三次元結晶格子構造及び更に詳しくは立方体格子の具体例に応用されたもの を記述する周知のミラー指標（Ｍｉｌｌｅｒ　１ｎｄｉｃｅｓ）の慣例を見直す のが有益である。

第５図を参照すると、立方体ｒａｂｃｄｅｆＪは６面を有し、その各面は３つの 互に直交する基準軸の標準化した切片を表す一組の３つの座標により特定される 。かくして面「ａｂｃｄＪはミラー指標において（１００）平面としてその丸括 弧（）内に表現され、面ｒｅｆｇｈＪは（１００）平面として表現される。

均等対称の残りの４つの面は個別に次のように表現される。

ｒｃｇｈｄＪ＝（０１０）　ｒｂｆｇｃＪ＝（００１）の傾斜面は（１１１）と して表現される。三角形の均等対称の残りの６つの傾斜面は個別に次のように表 現される。

均等対称の全ての平面は丸括弧の代わりにねじれ角型括弧（プレース）（）を使 用した単一表現により表される。かくして全ての立方体平面は表現（１００１に より表され、一方、立方体の全ての上述の傾斜面は表現＋１１１１により表され る。

立方体結晶の方向は、軸線ベクトルに言及した所望の方向におけるベクトルの整 数において表され、個別の方向を表現するために角型括弧し　〕内に書かれるか 、又は均等対称の全ての方向を明示するために角度付き型括弧く　〉内に書かれ る。第５図の立方体において、Ｘ軸ｒｅａＪは［１００］方向であり、−Ｘ軸方 向であり、ラインｒｆａＪは［１０１］方向である。全部の集合（ｓｅｔ）の等 偏力体表面の図示された（１１１）平面の３つの交差ラインの方向である。各等 価対称平面Ｈ１１）は、表現＜１１１＞内に含まれる関連した方向の対応部分集 合を有するであろうことを理解されたい。

コーナー状立方体逆反射体表面が本発明によって作られる工程を考察すると、の 層はそのときウェファ−の対向面上にコーティングされる。公知の平板印刷（１ ｉｔｂｏｇｒａｐｈｉｃ）技術を使用して、第６図に示す如く、閉鎖状集合型等 辺三角形の開口部（ｏｐｅｎｉｎｇｓ）　４０の整列パターンがフォトレジスト 層４２に形成される。三角形の各開口部４０は、第６図に示すパターンで配向さ れ、その場合ウェファ−の対向面の（１１１１平面内に横たわる立方体格子構造 の各＜１１０＞方向に対して平行の各三角形の辺を有し、かつ後述する所定の量 だけ離れた各隣接三角形の開口部の平行辺を有している。この物理的配設は第６ 図のダイアダラムにより最も良（観察でき、同図は、第５図に示される立方体格 子構造に関しての三角形開口部４０の幾何学的配向を図示している。

第６図中、フォトレジスト材料４２の層は、その中に閉鎖状集合型等辺三角形開 口部４０の列のパターンを形成されている。三角形開口部の各辺は、単一のシリ コンウェファ−４４（第７図参照）の対向面の（１１１）平面内に横たわる立方 体格子構造（第５図中、ラインａｇ、ｇｆ及びｆａ）の＜１１０＞方向に対して 平行に配向されており、ウェファ−４４上にはフォトレジスト材料層４２が積層 されている。典型的には、シリコンウェファ−４４はその一側部に基準端部切り 込みを有して製造され、これによりウェファ−の立方体格子の配向が明示される 。この基準端部切り込みは＜１１０＞方向に平行になるよう特定され、これによ り結晶軸に対するウェファ−の所望の物理的配向が明示される。かくして、等辺 三角形の平板印刷マスクが製造されたとき、対応する基準端部がマスク内に三角 形の一辺と平行になるよう組み込まれる。そのときマスクがフォトレジスト層４ ２上に適切に整合されるのを保証するべく、上記三角形の一辺はウェファ−の基 準端部に整合され、これにより三角形の各開口部と立方体格子構造の各〈１１０ 〉方向との間の平行度が得られる。三角形パターンとウェファ−面の（１１１１ における各＜１１０＞方向とが回転対称であるため、マスクの基準端部は一つの 三角形端部と平行であればよく、これにより三角形の各開口部の立方体格子構造 に対する所望の配向が得られる。

第７図を参照すると、所望のコーナー状立方体パターンがシリコンウェファ−内 でエツチングされる工程が示されている。第７図はフォトレジスト層４２をシリ コンウェファ−４４上に積層する工程から始まるコーナー状立方体パターンの成 型の段階を略図的に示す。上述の如（、フォトレジストを三角形整列のマスクを 有して成型された後、複数の適当に配向された三角形開口部４０がフォトレジス ト層４２内に形成される。シリコンウェファ−４４の立方体格子構造の（１０引 平面を選択的にエツチングするように選定された異方性のエツチング液が、公知 の方法によりフォトレジストパターンへ向いた表面上を流れ、（１００１平面３ ２ａ−３２ｃの異方性エツチングが開始される。シリコン内のｆｌｏｐ）平面の 異方性エツチングを行う適当なエツチング液は、「集積回路製造技術Ｊ　（Ｉｎ ｔｅｇｒａｔｅｄ　Ｃ１ｒｃｕｉｔ　Ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ　Ｔｅｃｈｎｏｌ ｏｇｙ）　（２４８−２５０頁、Ｄａｖｉｄ　Ｊ、　Ｅｌｆｏｔｔ著、１９８２ 年マグロ−ヒル社出版）に記述されている。第７Ｃ図中矢印４５により示す如く 、＋１００１平面３２ａ−３２ｃに沿って一度エッチングが始まると、そのプロ セスは選定されたＨ　Ｏ０１平面に沿ってキャビティの寸法を増大させつつ続行 し、作られた各セル内で＋１１１１平面の表面４６は次第に減少する。最後に、 ｆｌ　１１＋平面が完全に消失しかつ（１００１平面３２ａ−３２０が互に頂点 ２３で出会ったときにプロセスは終了する。Ｘ線作像スクリーンを製造するため には、コーナー状立方体の整列をつくるとき、（１１１１平面の表面が隣接する コーナー状立方体間に全（残らないようにすることが望ましい。

この結果を得るために、フォトレジストパターン内の各三角形開口部４０の隣接 する平行辺間のスペースは、選ばれたエツチング液のエツチング速度を勘案して 決定され、これにより隣接するコーナー状立方体の各ｆｌｏ０１平面は、少なく ともコーナー状立方体の異方性エツチングが終了する時までに、ウェファ−４４ の対向面内の各＜１１０＞方向に対応する交差基部ライン３１ａ−３１ｃに出会 うことが可能となる。エツチングプロセスの終了時に、フォトレジスト材料４２ は公知の方法によりシリコンから洗い流され、かくして所望のコーナー状立方体 表面が残される。

ウェファ−４４の面上に得られたコーナー状立方体表面は、次いでウェファ−上 に金属をメッキすることにより陰画マスターを形成するためのパターンとして機 能し、この陰画マスターは次にシリコンを引きはがすか又は溶かし去ることによ りウェファ−から分離される。この金属マスターは次いで第４図のコーナー状立 方体シート２０を作る際にフィルム基板を作るのに用いた如き適当な材料により コーティングされ、それは硬化及び除去の後例えばシートのコーナー状立方体表 面上のアルミニウムを蒸発させることにより反射される。

現代において１、シリコンウェファ−は比較的小さな寸法で製造され、典型的に は直径が約６インチの円形ウェファ−で作られる。Ｘ線作像スクリーンを製造す るのに使用するに十分な大きさのコーナー状立方体シートを作るためには、適当 な四角又は矩形の寸法にカットされた複数のシリコンウェファ−がエツチングさ れて、マスターのコーナー状立方体表面が作製され、その後ウェファ−は所望の 寸法のシートを作るべく突き合わされる。ウェファ−のカッティングはエツチン グプロセスの前又は後に行い得る。

本発明が現在の所好ましい具体例に言及して記述されてきたが、種々の変形例及 び修正例が本発明の範囲内で実行可能であることを理解すべきである。

国際調査報告

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. １．平面状整列のコーナー状立方体表面の製造方法であって、立方体構造の｛１ １１｝平面内で配向されたウエファー対向面を設けられた立方体格子構造を有す る単結晶材料のウエファーを形成する工程と、所望整列状態で近接的に集合した 等辺三角形開口部からなるフォトレジストパターンをウエファーの対向面上に形 成する工程であって、隣接する開口部は一対のかつ同一広がりのかつ平行の辺を 有し、三角形開口部の辺は立方体構造の対向面の｛１１１｝平面内で立方体格子 の〈１１０〉方向と平行であり、該隣接三角形開口部の該平行辺は整列パターン の全範囲にわたり所定寸法だけ互に離間しているような前記工程と、 立方体格子構造の｛１００｝平面を選択的にエッチングするに適した異方性エッ チング液により結晶材料をエッチングして、フォトレジストパターンの三角形開 口部の下方の内部コーナー状立方体のピラミッド状表面の対応整列を形成するこ とにより、隣接するコーナー状立方体間に｛１１１｝平面状表面が残らないよう にする工程と、 フォトレジストパターンを除去してウエファーの対向面上に平面状整列コーナー 状立方体表面を残す工程と、 から構成してなることを特徴とする平面状整列のコーナー状立方体表面の製造方 法。
2. ２．請求項１記載の製造方法において、隣接する各三角形開口部の一対のかつ同 一広がりのかつ平行の辺は、整列パターンの全範囲にわたり等距離だけ互に離間 していることを特徴とする製造方法。
3. ３．請求項１記載の製造方法において、ウエファーが立方体格子構造の単結晶シ リコンであることを特徴とする製造方法。
4. ４．請求項２又は３記載の製造方法において、隣接する各三角形開口部の一対の かつ同一広がりのかつ平行の辺は、隣接するコーナー状立方体の各ち｛１００｝ 平面が少なくとも該コーナー状立方体の異方性エッチングが終了する時までに互 に出会うようにされていることを特徴とする製造方法。
5. ５．平面状整列のコーナー状立方体の逆反射性表面を有するシートを製造する方 法であって、 立方体構造の｛１１１｝平面内で配向されたウエファー対向面を設けられた立方 体格子構造を有する単結晶材料のウエファーを形成する工程と、所望整列状態で 近接的に集合した等辺三角形開口部からなるフォトレジストパターンをウエファ ーの対向面上に形成する工程であって、隣接する開口部は一対のかつ同一広がり のかつ平行の辺を有し、三角形開口部の辺は立方体構造の対向面の｛１１１｝平 面内で立方体格子の〈１１０〉方向と平行であり、該隣接三角形開口部の該平行 辺は整列パターンの全範囲にわたり所定寸法だけ互に離間しているような前記工 程と、 立方体格子構造の｛１００｝平面を選択的にエッチングするに適した異方性エッ チング液により結晶材料をエッチングして、フォトレジストパターンの三角形開 口部の下方の内部コーナー状立方体のピラミッド状表面の対応整列を形成するこ とにより、隣接するコーナー状立方体間に｛１１１｝平面状表面が残らないよう にする工程と、 フォトレジストパターンを除去してウエファーの対向面上に平面状整列コーナー 状立方体表面を残す工程と、 平面状整列コーナー立方体表面から陰画構造を形成する工程と、前記陰画構造上 に十分な厚さを有するシートを形成する工程であて、該シートはその一面上に形 成された平面状整列コーナー状立方体の表面の完全な陽画複写を伴うような前記 シート形成工程と、 該シートを陰画構造から分離する工程と、該シートのコーナー状立方体表面を光 学的反射性材料によりコーティングして、コーティング立方体の逆反射面を形成 する工程と、から構成してなることを特徴とする平面状整列のコーナー状立方体 の逆反射性表面を有するシートを製造する方法
6. ６．請求項５記載の製造方法において、隣接する各三角形開口部の一対のかつ同 一広がりのかつ平行の辺は、整列パターンの全範囲にわたり等距離だけ互に離間 していることを特徴とする製造方法。
7. ７．請求項５記載の製造方法において、ウエファーが単一立方体シリコンである ことを特徴とする製造方法。
8. ８．請求項６又は７記載の製造方法において、隣接する各三角形開口部の一対の かつ同一広がりのかつ平行の辺は、隣接するコーナー状立方体の各｛１００｝平 面が少なくとも該コーナー状立方体の異方性エッチングが終了する時までに互に 出会うようにされていることを特徴とする製造方法。
9. ９．Ｘ線作像蛍光体スクリーンを製造する方法であって、立方体構造の｛１１１ ｝平面内で配向されたウエファー対向面を設けられた立方体格子構造を有する単 結晶材料のウエファーを形成する工程と、所望整列状態で近接離間した等辺三角 形開口部からなるフォトレジストパターンをウエファーの対向面上に形成する工 程であって、隣接する開口部は一対のかっ同一広がりのかつ平行の辺を有し、三 角形開口部の辺は立方体構造の対向面の｛１１１｝平面内で立方体格子の〈１１ ０〉方向と平行であり、該隣接三角形開口部の該平行辺は整列パターンの全範囲 にわたり所定寸法だけ互に離間しているような前記工程と、 立方体格子構造の｛１００｝平面を選択的にエッチングするに適した異方性エッ チング液により結晶材料をエッチングして、フォトレジストパターンの三角形開 口部の下方の内部コーナー状立方体のピラミッド状表面の対応整列を形成するこ とにより、隣接するコーナー状立方体間に｛１１１｝平面状表面が残らないよう にする工程と、 フォトレジストパターンを除去してウエファーの対向面上に平面状整列コーナー 状立方体表面を残す工程と、 平面状整列コーナー立方体面面から陰画構造を形成する工程と、前記陰画構造上 に、十分な厚さを有する略Ｘ線透過性の材料のシートを形成する工程であて、該 シートはその一面上に形成された平面状整列コーナー状立方体の表面の完全な陽 画複写を伴うような前記シート形成工程と、該シートを陰画構造から分離する工 程と、該シートのコーナー状立方体表面を略Ｘ線透過性でかつ光学的反射性材料 によりコーティングして、コーナー状立方体の逆反射面を形成する工程と、Ｘ線 を吸収して光線を放射する蛍光体の層を形成する工程と、前記シートを蛍光体層 に対し、コーナー状立方体逆反射面が該蛍光体層に対面するよう向かい合わせて 配置する工程と、から構成してなることを特徴とするＸ線作像蛍光体スクリーン を製造する方法。
10. １０．請求項９記載の製造方法において、隣接する各三角形開口部の一対のかつ 同一広がりのかつ平行の辺は、整列パターンの全範囲にわたり等距離だけ互に離 間していることを特徴とする製造方法。
11. １１．請求項９記載の製造方法において、ウエファーが単一立方体シリコンであ ることを特徴とする製造方法。
12. １２．請求項１０又は１１記載の製造方法において、隣接する三角形開口部の一 対のかつ同一広がりのかつ平行の辺は、隣接するコーナー状立方体の各｛１００ ｝平面が少なくとも該コーナー状立方体の異方性エッチングが終了する時までに 互に出会うようにされていることを特徴とする製造方法。
13. １３．請求項１、２、３、又は４の何れか１項記載の製造方法により製造された 、近接して集合した平面状整列コーナー状立方体の表面を有する層。
14. １４．請求項５、６、７又は８の何れか１項記載の製造方法により製造された、 平面状整列コーナー状立方体の逆反射面を有するシート。
15. １５．請求項９、１０、１１又は１２の何れか１項記載の製造方法により製造さ れた、Ｘ線作像蛍光体スクリーン。