JPH045109Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH045109Y2 JPH045109Y2 JP1985010101U JP1010185U JPH045109Y2 JP H045109 Y2 JPH045109 Y2 JP H045109Y2 JP 1985010101 U JP1985010101 U JP 1985010101U JP 1010185 U JP1010185 U JP 1010185U JP H045109 Y2 JPH045109 Y2 JP H045109Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slider
- thin film
- film head
- head mechanism
- center
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本考案は磁気デイスク装置に用いられている磁
気ヘツド機構に係わるものであり、特に最近開発
がさかんである薄膜ヘツド機構に関するものであ
る。
気ヘツド機構に係わるものであり、特に最近開発
がさかんである薄膜ヘツド機構に関するものであ
る。
(従来技術とその問題点)
磁気デイスク装置用の磁気ヘツド機構は装置の
大容量高密度化につれてスライダ浮揚量の微小化
が著しく現在では0.3μm程度の隙間が実用化され
ている。また磁気ヘツド形態も従来のモノリシツ
クバルクヘツドから半導体プロセスを用いた薄膜
ヘツド開発され実機導入され始めている。これま
で実用化されている薄膜ヘツド機構はスライダと
それを支えるサスペンシヨン支持ばね機構とから
なりそれが磁気ヘツドアクチユエイタアーム機構
にねじ止め、かしめなどの方法により取りつけら
れている。第2図が現在実用化されているスライ
ダ、サスペンシヨン機構の一例である。同図から
わかるようにスライダの背面部にサスペンシヨン
ジンバルばね部が接着されている。このヘツド機
構が14in,大容量磁気デイスク装置に用いられる
とアクセスタイム16ms程度の高速ランダムシー
クを繰り返すこととなる。その時サブミクロン隙
間で記録媒体面上を空気膜潤滑しているスライダ
の動的安定性が大きな問題となる。もしも高速シ
ーク時にスライダが不安定となり、記録媒体面上
に接触する事故(ヘツドクラツシユ)がおこる
と、記録媒体面上に記録されている情報が一瞬の
うちに消えてしまうということになる。このよう
な点から第2図の薄膜ヘツド機構をみると、大き
な問題点が存在する。すなわちスライダへの荷重
を負荷するピボツト点がスライダの背面にあるた
め、スライダ重心の位置とピボツト点の位置とが
一致していないということである。このことはピ
ボツト点を中心とするスライダの動的運動である
並進運動、ピツチ運動、ロール運動がそれぞれ連
成することを意味し、きわめて複雑な振動をおこ
しながらヘツドクラツシユにいたるという現象を
おこす確率がきわめて高いものとなる。
大容量高密度化につれてスライダ浮揚量の微小化
が著しく現在では0.3μm程度の隙間が実用化され
ている。また磁気ヘツド形態も従来のモノリシツ
クバルクヘツドから半導体プロセスを用いた薄膜
ヘツド開発され実機導入され始めている。これま
で実用化されている薄膜ヘツド機構はスライダと
それを支えるサスペンシヨン支持ばね機構とから
なりそれが磁気ヘツドアクチユエイタアーム機構
にねじ止め、かしめなどの方法により取りつけら
れている。第2図が現在実用化されているスライ
ダ、サスペンシヨン機構の一例である。同図から
わかるようにスライダの背面部にサスペンシヨン
ジンバルばね部が接着されている。このヘツド機
構が14in,大容量磁気デイスク装置に用いられる
とアクセスタイム16ms程度の高速ランダムシー
クを繰り返すこととなる。その時サブミクロン隙
間で記録媒体面上を空気膜潤滑しているスライダ
の動的安定性が大きな問題となる。もしも高速シ
ーク時にスライダが不安定となり、記録媒体面上
に接触する事故(ヘツドクラツシユ)がおこる
と、記録媒体面上に記録されている情報が一瞬の
うちに消えてしまうということになる。このよう
な点から第2図の薄膜ヘツド機構をみると、大き
な問題点が存在する。すなわちスライダへの荷重
を負荷するピボツト点がスライダの背面にあるた
め、スライダ重心の位置とピボツト点の位置とが
一致していないということである。このことはピ
ボツト点を中心とするスライダの動的運動である
並進運動、ピツチ運動、ロール運動がそれぞれ連
成することを意味し、きわめて複雑な振動をおこ
しながらヘツドクラツシユにいたるという現象を
おこす確率がきわめて高いものとなる。
(本考案の目的)
本考案の目的は上記従来の薄膜ヘツド機構のも
つている欠点を除去し、高送ランダムシーク運動
を繰り返えしても動的に安定な薄膜ヘツド機構を
提供することにある。
つている欠点を除去し、高送ランダムシーク運動
を繰り返えしても動的に安定な薄膜ヘツド機構を
提供することにある。
(考案の構成)
本考案によれば、一端において薄膜ヘツドスラ
イダの背面で接着され薄膜ヘツドを支持し、他端
において片持ちばり状に位置決め装置上に取りつ
けられる薄膜ヘツド機構においてその背面上に複
数個の粘弾性体のブロツクを取りつけてスライダ
に荷重を負荷するピボツト点とスライダ重心の位
置を一致させたことを特徴とする薄膜ヘツド機構
が得られる。
イダの背面で接着され薄膜ヘツドを支持し、他端
において片持ちばり状に位置決め装置上に取りつ
けられる薄膜ヘツド機構においてその背面上に複
数個の粘弾性体のブロツクを取りつけてスライダ
に荷重を負荷するピボツト点とスライダ重心の位
置を一致させたことを特徴とする薄膜ヘツド機構
が得られる。
(実施例)
以下図面を用いて本考案について詳細に説明す
る。第1図は本考案による薄膜ヘツド機構の一実
施例を示す図である。本実施例は薄膜ヘツドスラ
イダの背面に粘弾性体を接着などの方法により取
りつけたものである。粘弾性体としては、例えば
ポリフロロエチレン等のポリアセタール樹脂を用
いた。一方従来の薄膜ヘツド機構は第2図に示す
通りである。この構造はきわめて簡単で、スライ
ダ1の背面にジンバルスプリング2が装着され、
その上にロードスプリング3がほぼスライダ1の
中央を押圧する構造となつている。この構造の場
合にはスライダに所定の荷重を負荷するピボツト
点がスライダ長手方向、スライダ幅方向にはほぼ
中央点となるが、スライダの厚み方向はスライダ
背面であるため、所謂スライダ重心の位置と一致
しないこととなる。すなわち言うまでもなく、実
際のスライダ重心はスライダブロツクの内部に存
在している。このことは薄膜ヘツド機構が高速で
記録媒体面上をアクセスした時には、ランダムな
連成振動をひきおこす確率が高いということを意
味する特に大きい加速度でランダムシークした
時、スライダが記録媒体上の突起等に衝突し外部
から薄膜ヘツド機構に外乱が加わることがよくあ
る。その時スライダはピボツト支持された動圧空
気軸受であるためピボツト軸を中心として動的に
反応するが、その運動中心がスライダの重心と一
致してないため、その運動は連成し回転モーメン
ト等が生じ、その結果スライダは不安定な挙動を
示すこととなる。周知のごとく、スライダと記録
媒体面とは0.3μm程度の微小隙間であるため、そ
のような動的不安定性はヘツドクラツシユをまね
く要因となる。それ故スライダへ所望の負荷荷重
を与えるヘツドピボツト点はそのスライダの重心
の位置と一致させる必要がある。
る。第1図は本考案による薄膜ヘツド機構の一実
施例を示す図である。本実施例は薄膜ヘツドスラ
イダの背面に粘弾性体を接着などの方法により取
りつけたものである。粘弾性体としては、例えば
ポリフロロエチレン等のポリアセタール樹脂を用
いた。一方従来の薄膜ヘツド機構は第2図に示す
通りである。この構造はきわめて簡単で、スライ
ダ1の背面にジンバルスプリング2が装着され、
その上にロードスプリング3がほぼスライダ1の
中央を押圧する構造となつている。この構造の場
合にはスライダに所定の荷重を負荷するピボツト
点がスライダ長手方向、スライダ幅方向にはほぼ
中央点となるが、スライダの厚み方向はスライダ
背面であるため、所謂スライダ重心の位置と一致
しないこととなる。すなわち言うまでもなく、実
際のスライダ重心はスライダブロツクの内部に存
在している。このことは薄膜ヘツド機構が高速で
記録媒体面上をアクセスした時には、ランダムな
連成振動をひきおこす確率が高いということを意
味する特に大きい加速度でランダムシークした
時、スライダが記録媒体上の突起等に衝突し外部
から薄膜ヘツド機構に外乱が加わることがよくあ
る。その時スライダはピボツト支持された動圧空
気軸受であるためピボツト軸を中心として動的に
反応するが、その運動中心がスライダの重心と一
致してないため、その運動は連成し回転モーメン
ト等が生じ、その結果スライダは不安定な挙動を
示すこととなる。周知のごとく、スライダと記録
媒体面とは0.3μm程度の微小隙間であるため、そ
のような動的不安定性はヘツドクラツシユをまね
く要因となる。それ故スライダへ所望の負荷荷重
を与えるヘツドピボツト点はそのスライダの重心
の位置と一致させる必要がある。
本考案はそのような思想のものになされたもの
である。すなわちスライダの背面上にジンバルス
プリングが接着されている薄膜ヘツド機構におい
て、そのスライダ背面上に粘弾性体を接着等の方
法で取りつけられている。そのためスライダ厚み
方向の重心がスライダ上面の方へ移動し、等価的
にジンバルスプリングが接着されている背面上に
あるように構成されている。それ故これまでの機
構と大きく異なりスライダに荷重を負荷するピボ
ツト点とスライダ重心の位置とが一致することに
なる。このような構造においては薄膜ヘツドが高
速に記録媒体面上をシークした時外乱がスライダ
に加わったとしてもピボツト軸がスライダの重心
と一致しているため、並進運動やピツチ、ロール
方向の回転運動が連成せず、不安定性は大きく改
善される。またスライダ背面にとりつける材料を
粘弾性体としているためスライダに減衰効果をも
たせることができ、むしろ記録媒体面の振動に対
するスライダの動的変動をおさえる効果をも期待
できる。
である。すなわちスライダの背面上にジンバルス
プリングが接着されている薄膜ヘツド機構におい
て、そのスライダ背面上に粘弾性体を接着等の方
法で取りつけられている。そのためスライダ厚み
方向の重心がスライダ上面の方へ移動し、等価的
にジンバルスプリングが接着されている背面上に
あるように構成されている。それ故これまでの機
構と大きく異なりスライダに荷重を負荷するピボ
ツト点とスライダ重心の位置とが一致することに
なる。このような構造においては薄膜ヘツドが高
速に記録媒体面上をシークした時外乱がスライダ
に加わったとしてもピボツト軸がスライダの重心
と一致しているため、並進運動やピツチ、ロール
方向の回転運動が連成せず、不安定性は大きく改
善される。またスライダ背面にとりつける材料を
粘弾性体としているためスライダに減衰効果をも
たせることができ、むしろ記録媒体面の振動に対
するスライダの動的変動をおさえる効果をも期待
できる。
以上のことより本考案の薄膜ヘツド機構は従来
の薄膜ヘツド機構に比較して簡単な改良により動
的にきわめて安定な機構が得られるということが
できる。なお本考案の思想を逸脱しない範囲内で
どのような変形を行っても差支えなく、例えば、
スライダ背面上にとりつけるブロツクの形状なら
びにその取りつけ方法等はそれぞれの場合に最適
化すれば良く、上記実施例が本考案の範囲を何ら
限定するものではないことは言うまでもない。
の薄膜ヘツド機構に比較して簡単な改良により動
的にきわめて安定な機構が得られるということが
できる。なお本考案の思想を逸脱しない範囲内で
どのような変形を行っても差支えなく、例えば、
スライダ背面上にとりつけるブロツクの形状なら
びにその取りつけ方法等はそれぞれの場合に最適
化すれば良く、上記実施例が本考案の範囲を何ら
限定するものではないことは言うまでもない。
(考案の効果)
以上本考案について詳細に説明したように、本考
案の薄膜ヘツド機構はスライダ背面上に複数個の
粘弾性体ブロツクを接着等の方法でとりつけるこ
とにより等価的にスライダ重心の位置とピボツト
点との位置を一致させその結果動的に安定な特性
を得ることができるという効果がある。
案の薄膜ヘツド機構はスライダ背面上に複数個の
粘弾性体ブロツクを接着等の方法でとりつけるこ
とにより等価的にスライダ重心の位置とピボツト
点との位置を一致させその結果動的に安定な特性
を得ることができるという効果がある。
第1図はスライダの背面にブロツクが取りつけ
られた本考案の薄膜ヘツド機構の実施例を示す
図、第2図は従来の薄膜ヘツド機構を示す図であ
る。 図において、1,1b……スライダ、2,2b
……ジンバルスプリング、3,3b……ロードス
プリング、4……粘弾性体ブロツク。
られた本考案の薄膜ヘツド機構の実施例を示す
図、第2図は従来の薄膜ヘツド機構を示す図であ
る。 図において、1,1b……スライダ、2,2b
……ジンバルスプリング、3,3b……ロードス
プリング、4……粘弾性体ブロツク。
Claims (1)
- 一端において薄膜ヘツドスライダの背面で接着
され薄膜ヘツドを支持し、他端において片持ちば
り状に位置決め装置上に取り付けられる薄膜ヘツ
ド機構において、薄膜ヘツドスライダの背面上に
複数個の粘弾性体のブロツクを取りつけてスライ
ダに荷重を負荷するピボツト点とスライダ重心の
位置を一致させたことを特徴とする薄膜ヘツド機
構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985010101U JPH045109Y2 (ja) | 1985-01-28 | 1985-01-28 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985010101U JPH045109Y2 (ja) | 1985-01-28 | 1985-01-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61126415U JPS61126415U (ja) | 1986-08-08 |
| JPH045109Y2 true JPH045109Y2 (ja) | 1992-02-13 |
Family
ID=30490974
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985010101U Expired JPH045109Y2 (ja) | 1985-01-28 | 1985-01-28 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH045109Y2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56117369A (en) * | 1980-02-20 | 1981-09-14 | Nec Corp | Suspension mechanism of magnetic head |
| JPS56117368A (en) * | 1980-02-20 | 1981-09-14 | Nec Corp | Suspension mechanism for magnetic head |
-
1985
- 1985-01-28 JP JP1985010101U patent/JPH045109Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61126415U (ja) | 1986-08-08 |
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