JPH05334982A - エネルギー分散型ｘ線分析装置 - Google Patents
エネルギー分散型ｘ線分析装置Info
- Publication number
- JPH05334982A JPH05334982A JP4165294A JP16529492A JPH05334982A JP H05334982 A JPH05334982 A JP H05334982A JP 4165294 A JP4165294 A JP 4165294A JP 16529492 A JP16529492 A JP 16529492A JP H05334982 A JPH05334982 A JP H05334982A
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- JP
- Japan
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- container
- adsorbed
- heater
- vapor deposition
- deposition film
- Prior art date
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- Withdrawn
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 保護容器内部を常に高真空状態に維持できる
エネルギー分散型Ｘ線分析装置を提供する事。 【構成】 加熱電源１１よりヒータ９に加熱電流を供給
してヒータ９を加熱すると、ヒータ９に近接して配置さ
れている化学反応材８は、ヒータ９の熱を受けて蒸発す
る。蒸発したマグネシウム（Ｍｇ）の粒子は保護容器１
の内壁に吸着し、容器１の内壁にはマグネシウム（Ｍ
ｇ）の蒸着膜が形成される。その結果、容器内に発生し
た水蒸気やガスはこの蒸着膜に吸着される。この蒸着膜
に吸着されたガスは、物理吸着によっても行なわれる
が、大半は化学反応により強固に吸着されるため、保護
容器内部の温度が上昇してもさほど再放出されない。ま
た、この様な蒸着膜の容器内壁への形成を随時行なう事
により、蒸着膜の吸着能力は維持できる。
エネルギー分散型Ｘ線分析装置を提供する事。 【構成】 加熱電源１１よりヒータ９に加熱電流を供給
してヒータ９を加熱すると、ヒータ９に近接して配置さ
れている化学反応材８は、ヒータ９の熱を受けて蒸発す
る。蒸発したマグネシウム（Ｍｇ）の粒子は保護容器１
の内壁に吸着し、容器１の内壁にはマグネシウム（Ｍ
ｇ）の蒸着膜が形成される。その結果、容器内に発生し
た水蒸気やガスはこの蒸着膜に吸着される。この蒸着膜
に吸着されたガスは、物理吸着によっても行なわれる
が、大半は化学反応により強固に吸着されるため、保護
容器内部の温度が上昇してもさほど再放出されない。ま
た、この様な蒸着膜の容器内壁への形成を随時行なう事
により、蒸着膜の吸着能力は維持できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】 本発明は、試料から放出する特
性Ｘ線を検出するエネルギー分散型Ｘ線分析装置（ＥＤ
Ｓ）に関する。
性Ｘ線を検出するエネルギー分散型Ｘ線分析装置（ＥＤ
Ｓ）に関する。
【０００２】
【従来の技術】 電子顕微鏡では、試料の微小領域を元
素分析する装置としてＥＤＳが使用されている。このＥ
ＤＳに用いられるＸ線検出器は、真空封じされた保護容
器の中に収納されている。そして、この保護容器は、液
体窒素または冷凍器などの低温発生部によって冷却され
て高真空状態に保たれている。また、容器内に発生する
ガスを除去する目的で、容器内には活性炭やモレキュラ
ーシーブスなどの吸着材が配置されている。
素分析する装置としてＥＤＳが使用されている。このＥ
ＤＳに用いられるＸ線検出器は、真空封じされた保護容
器の中に収納されている。そして、この保護容器は、液
体窒素または冷凍器などの低温発生部によって冷却され
て高真空状態に保たれている。また、容器内に発生する
ガスを除去する目的で、容器内には活性炭やモレキュラ
ーシーブスなどの吸着材が配置されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】 しかしながら、それ
らの吸着材によるガスの吸着は物理的なもので、液体窒
素を涸らした場合には保護容器内部の温度が上昇し、吸
着材からの水蒸気やガスの再放出が起きる。その結果、
容器内部の真空度が低下してＸ線検出器の表面に霜やガ
スが付着する。このため、Ｘ線分析時において、軽元素
から発生する低エネルギーＸ線がそれらに吸収されてし
まい、軽元素検出感度が低下する。
らの吸着材によるガスの吸着は物理的なもので、液体窒
素を涸らした場合には保護容器内部の温度が上昇し、吸
着材からの水蒸気やガスの再放出が起きる。その結果、
容器内部の真空度が低下してＸ線検出器の表面に霜やガ
スが付着する。このため、Ｘ線分析時において、軽元素
から発生する低エネルギーＸ線がそれらに吸収されてし
まい、軽元素検出感度が低下する。
【０００４】本発明は、このような点に鑑みて成された
もので、その目的は、保護容器内部を常に高真空状態に
維持できるエネルギー分散型Ｘ線分析装置を提供する事
にある。
もので、その目的は、保護容器内部を常に高真空状態に
維持できるエネルギー分散型Ｘ線分析装置を提供する事
にある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】 この目的を達成する本
発明のエネルギー分散型Ｘ線分析装置は、保護容器の内
壁に化学反応材の蒸着膜を形成するための手段を備えて
いる。
発明のエネルギー分散型Ｘ線分析装置は、保護容器の内
壁に化学反応材の蒸着膜を形成するための手段を備えて
いる。
【０００６】
【実施例】 以下、図面を参照して本発明の実施例を詳
説する。
説する。
【０００７】図１は本発明の一実施例を示しており、１
はＸ線検出器２を収納する保護容器である。３は液体窒
素４を収納した冷却槽で、５は冷却槽３内に液体窒素４
を出し入れするための栓である。６は、冷却槽３とＸ線
検出器２をつなぐ熱伝導棒である。保護容器１と冷却槽
３との間の間隙Ａは、冷却槽３などの温度が保護容器１
に伝わらないように排気装置７により１０−５Ｔｏｒｒ
程度に真空排気されている。８は間隙Ａに配置された化
学反応材で、水蒸気やガス分子に対して反応性の強いマ
グネシウム（Ｍｇ）から成る。９は化学反応材８に近接
して配置されたヒータで、電圧印加端子１０ａ，１０ｂ
を介して加熱電源１１に接続されている。１２はベリリ
ウム薄膜が張られたＸ線入力のためのウィンドウであ
る。
はＸ線検出器２を収納する保護容器である。３は液体窒
素４を収納した冷却槽で、５は冷却槽３内に液体窒素４
を出し入れするための栓である。６は、冷却槽３とＸ線
検出器２をつなぐ熱伝導棒である。保護容器１と冷却槽
３との間の間隙Ａは、冷却槽３などの温度が保護容器１
に伝わらないように排気装置７により１０−５Ｔｏｒｒ
程度に真空排気されている。８は間隙Ａに配置された化
学反応材で、水蒸気やガス分子に対して反応性の強いマ
グネシウム（Ｍｇ）から成る。９は化学反応材８に近接
して配置されたヒータで、電圧印加端子１０ａ，１０ｂ
を介して加熱電源１１に接続されている。１２はベリリ
ウム薄膜が張られたＸ線入力のためのウィンドウであ
る。
【０００８】このような構成において、加熱電源１１よ
りヒータ９に加熱電流を供給してヒータ９を加熱する
と、ヒータ９に近接して配置されている化学反応材８
は、ヒータ９の熱を受けて蒸発する。蒸発したマグネシ
ウム（Ｍｇ）の粒子は保護容器１の内壁に吸着し、容器
１の内壁にはマグネシウム（Ｍｇ）の蒸着膜が形成され
る。その結果、容器内に発生した水蒸気やガスはこの蒸
着膜に吸着される。この蒸着膜に吸着されたガスは、物
理吸着によっても行なわれるが、大半は化学反応により
強固に吸着されるため、保護容器内部の温度が上昇して
もさほど再放出されない。また、この様な蒸着膜の容器
内壁への形成を随時行なう事により、蒸着膜の吸着能力
は維持できる。
りヒータ９に加熱電流を供給してヒータ９を加熱する
と、ヒータ９に近接して配置されている化学反応材８
は、ヒータ９の熱を受けて蒸発する。蒸発したマグネシ
ウム（Ｍｇ）の粒子は保護容器１の内壁に吸着し、容器
１の内壁にはマグネシウム（Ｍｇ）の蒸着膜が形成され
る。その結果、容器内に発生した水蒸気やガスはこの蒸
着膜に吸着される。この蒸着膜に吸着されたガスは、物
理吸着によっても行なわれるが、大半は化学反応により
強固に吸着されるため、保護容器内部の温度が上昇して
もさほど再放出されない。また、この様な蒸着膜の容器
内壁への形成を随時行なう事により、蒸着膜の吸着能力
は維持できる。
【０００９】上記説明においては、化学反応材としてマ
グネシウム（Ｍｇ）を使用したが、これに限定されるも
のではなく、リン（Ｐ），アルミニウム（Ａｌ），バリ
ウム（Ｂａ）などであってもよい。
グネシウム（Ｍｇ）を使用したが、これに限定されるも
のではなく、リン（Ｐ），アルミニウム（Ａｌ），バリ
ウム（Ｂａ）などであってもよい。
【００１０】また、ヒータ材料そのものを化学反応材で
構成し、白熱溶断により容器内壁に蒸着膜を形成するよ
うにしてもよい。
構成し、白熱溶断により容器内壁に蒸着膜を形成するよ
うにしてもよい。
【００１１】また、複数回の蒸着に供せられるように、
夫々独立に複数の化学反応材を装着してもよい。図２は
その実施例を示したもので、前記図１と同一番号を付し
たものは同一構成要素を示す。１３は化学反応材、１４
はヒータ、１５ａ，１５ｂは電圧印加端子である。この
ような構成において、化学反応材８が消費されると、加
熱電源１１を前記電圧印加端子１５ａ，１５ｂに接続
し、ヒータ１４を加熱して化学反応材１３を蒸発させ
る。このような構成により、製作工場出荷後、分析現場
で再蒸着が可能であり、真空劣化時に工場修理のためＥ
ＤＳを電子顕微鏡から取り外し、輸送を行なう必要がな
い。なお、複数の化学反応材は、それぞれ異種のもので
あってもよい。
夫々独立に複数の化学反応材を装着してもよい。図２は
その実施例を示したもので、前記図１と同一番号を付し
たものは同一構成要素を示す。１３は化学反応材、１４
はヒータ、１５ａ，１５ｂは電圧印加端子である。この
ような構成において、化学反応材８が消費されると、加
熱電源１１を前記電圧印加端子１５ａ，１５ｂに接続
し、ヒータ１４を加熱して化学反応材１３を蒸発させ
る。このような構成により、製作工場出荷後、分析現場
で再蒸着が可能であり、真空劣化時に工場修理のためＥ
ＤＳを電子顕微鏡から取り外し、輸送を行なう必要がな
い。なお、複数の化学反応材は、それぞれ異種のもので
あってもよい。
【００１２】
【発明の効果】 本発明のエネルギー分散型Ｘ線分析装
置は、保護容器の内壁に化学反応材の蒸着膜を形成する
ための手段を備えており、容器内に発生したガスはこの
蒸着膜に吸着される。この蒸着膜に吸着されたガスは、
保護容器内部の温度が上昇してもさほど再放出されない
ので、保護容器内を常に高真空状態に維持することがで
きる。その結果、Ｘ線検出器の表面に霜やガスが付着す
る事による検出器の劣化はなく、Ｘ線分析を正確に行う
ことができる。
置は、保護容器の内壁に化学反応材の蒸着膜を形成する
ための手段を備えており、容器内に発生したガスはこの
蒸着膜に吸着される。この蒸着膜に吸着されたガスは、
保護容器内部の温度が上昇してもさほど再放出されない
ので、保護容器内を常に高真空状態に維持することがで
きる。その結果、Ｘ線検出器の表面に霜やガスが付着す
る事による検出器の劣化はなく、Ｘ線分析を正確に行う
ことができる。
【図１】本発明の実施例として示したエネルギー分散型
Ｘ線分析装置の概略図。
Ｘ線分析装置の概略図。
【図２】本発明の他の実施例として示したエネルギー分
散型Ｘ線分析装置の概略図。
散型Ｘ線分析装置の概略図。
１ 保護容器 ２ Ｘ線検出器 ３ 冷却槽 ４ 液体窒素 ５ 栓 ６ 熱伝導棒 ７ 排気装置 ８，１３ 化学反応材 ９，１４ ヒータ １０ａ，１０ｂ，１５ａ，１５ｂ 電圧印加端子 １１ 加熱電源 １２ ウィンドウ
Claims (1)
- 【請求項１】 冷媒または低温発生部を収容する冷却槽
と、試料から放出される特性Ｘ線を検出するＸ線検出器
と、前記冷却槽と前記Ｘ線検出器を接続する熱伝導棒
と、前記冷却槽とＸ線検出器と熱伝導棒とを真空封入す
る保護容器とを備えたエネルギー分散型Ｘ線分析装置に
おいて、前記保護容器の内壁に化学反応材の蒸着膜を形
成するための手段を備えたエネルギー分散型Ｘ線分析装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4165294A JPH05334982A (ja) | 1992-06-01 | 1992-06-01 | エネルギー分散型ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4165294A JPH05334982A (ja) | 1992-06-01 | 1992-06-01 | エネルギー分散型ｘ線分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05334982A true JPH05334982A (ja) | 1993-12-17 |
Family
ID=15809600
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4165294A Withdrawn JPH05334982A (ja) | 1992-06-01 | 1992-06-01 | エネルギー分散型ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05334982A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008128635A (ja) * | 2006-11-16 | 2008-06-05 | Shimadzu Corp | 電子冷却型半導体ｘ線検出器 |
-
1992
- 1992-06-01 JP JP4165294A patent/JPH05334982A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008128635A (ja) * | 2006-11-16 | 2008-06-05 | Shimadzu Corp | 電子冷却型半導体ｘ線検出器 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990803 |