JPH05258707A - エネルギー分散型x線分析装置 - Google Patents
エネルギー分散型x線分析装置Info
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- JPH05258707A JPH05258707A JP4050564A JP5056492A JPH05258707A JP H05258707 A JPH05258707 A JP H05258707A JP 4050564 A JP4050564 A JP 4050564A JP 5056492 A JP5056492 A JP 5056492A JP H05258707 A JPH05258707 A JP H05258707A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 液体窒素による冷却をしない状態で焼き出し
を行ってもX線検出器4の温度上昇を抑え、さらにガス
による汚染を防止することができるエネルギー分散型X
線分析装置を提供することを目的とするものである。 【構成】 外部の冷却槽1により冷却され真空容器6内
で試料から放射される特性X線を検出し分析するエネル
ギー分散型X線分析装置であって、冷媒を収容する冷却
槽1、試料の近傍に配置されるX線検出器4、冷却槽1
の底部とX線検出器4との間を接続する熱伝導棒3、下
方に管状部を有し冷却槽1と熱伝導棒3とX線検出器4
とを真空封入する保護容器5、及び真空容器6内の焼き
出しを行う際に保護容器5と冷却槽1との間隙を真空に
排気する排気手段16〜18を備える。これにより冷却
槽1内の冷媒が空になってX線検出器4が室温にあって
も、焼き出しの際に一旦放出されているガスを排気し真
空にすることができ、X線検出器4の放出ガスによる汚
染や焼き出しによる温度上昇を防ぐことができる。
を行ってもX線検出器4の温度上昇を抑え、さらにガス
による汚染を防止することができるエネルギー分散型X
線分析装置を提供することを目的とするものである。 【構成】 外部の冷却槽1により冷却され真空容器6内
で試料から放射される特性X線を検出し分析するエネル
ギー分散型X線分析装置であって、冷媒を収容する冷却
槽1、試料の近傍に配置されるX線検出器4、冷却槽1
の底部とX線検出器4との間を接続する熱伝導棒3、下
方に管状部を有し冷却槽1と熱伝導棒3とX線検出器4
とを真空封入する保護容器5、及び真空容器6内の焼き
出しを行う際に保護容器5と冷却槽1との間隙を真空に
排気する排気手段16〜18を備える。これにより冷却
槽1内の冷媒が空になってX線検出器4が室温にあって
も、焼き出しの際に一旦放出されているガスを排気し真
空にすることができ、X線検出器4の放出ガスによる汚
染や焼き出しによる温度上昇を防ぐことができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、外部の冷却槽により冷
却され真空容器内で試料から放射される特性X線を検出
するエネルギー分散型X線分析装置に関する。
却され真空容器内で試料から放射される特性X線を検出
するエネルギー分散型X線分析装置に関する。
【0002】
【従来の技術】電子顕微鏡では、試料の微小領域を元素
分析する装置としてエネルギー分散型X線分析装置が使
用されている。このエネルギー分散型X線分析装置に
は、X線検出用半導体素子の前方にベリリウム(Be)
薄膜付ウインドウを有する所謂ウインドウ型とこのよう
なウインドウを有しない所謂ウインドウレス型がある
が、特に後者のウインドウレス型は、主に軽元素分析用
として使用されている。
分析する装置としてエネルギー分散型X線分析装置が使
用されている。このエネルギー分散型X線分析装置に
は、X線検出用半導体素子の前方にベリリウム(Be)
薄膜付ウインドウを有する所謂ウインドウ型とこのよう
なウインドウを有しない所謂ウインドウレス型がある
が、特に後者のウインドウレス型は、主に軽元素分析用
として使用されている。
【0003】図3はウインドウ型エネルギー分散型X線
分析装置の概略構成を示す図であり、1は冷却槽、2は
液体窒素、3は熱伝導棒、4はシリコン半導体等からな
るX線検出器、5は保護容器、6は真空容器、7は試
料、8は吸着材、9はウインドウ、10は出力端子、1
1は排気口、12は栓、13は電子線、14は特性X線
を示す。
分析装置の概略構成を示す図であり、1は冷却槽、2は
液体窒素、3は熱伝導棒、4はシリコン半導体等からな
るX線検出器、5は保護容器、6は真空容器、7は試
料、8は吸着材、9はウインドウ、10は出力端子、1
1は排気口、12は栓、13は電子線、14は特性X線
を示す。
【0004】ウインドウ型エネルギー分散型X線分析装
置では、図3に示すように保護容器5に、冷却槽1、熱
伝導棒3、X線検出器4を真空封入し、電子顕微鏡等の
真空容器(本体鏡筒)6の中の試料7の近傍にX線検出
器4を配置するため、保護容器5の一端を管状にし、そ
の先端を特性X線14が透過するベリリウム薄膜のウイ
ンドウ9で真空シールしている。さらに、真空低下を防
止するための活性炭等の吸着材8を冷却槽1の外周に配
置し、開閉可能な排気口11より冷却槽1等の温度が保
護容器5に伝わらないようにそれらの間隙Aを10-5T
orr 程度に真空排気している。そして、液体窒素2は、
栓12から冷却槽1に出し入れされ、試料7の電子線照
射部から放射される特性X線14はウインドウ9を透過
してX線検出器4によって検出され電気信号に変換され
て出力端子11から外部に取り出される。
置では、図3に示すように保護容器5に、冷却槽1、熱
伝導棒3、X線検出器4を真空封入し、電子顕微鏡等の
真空容器(本体鏡筒)6の中の試料7の近傍にX線検出
器4を配置するため、保護容器5の一端を管状にし、そ
の先端を特性X線14が透過するベリリウム薄膜のウイ
ンドウ9で真空シールしている。さらに、真空低下を防
止するための活性炭等の吸着材8を冷却槽1の外周に配
置し、開閉可能な排気口11より冷却槽1等の温度が保
護容器5に伝わらないようにそれらの間隙Aを10-5T
orr 程度に真空排気している。そして、液体窒素2は、
栓12から冷却槽1に出し入れされ、試料7の電子線照
射部から放射される特性X線14はウインドウ9を透過
してX線検出器4によって検出され電気信号に変換され
て出力端子11から外部に取り出される。
【0005】図4はウインドウレス型エネルギー分散型
X線分析装置の概略構成を示す図であり、X線検出器4
の前方にゲートバルブ15を設け、X線分析を行わない
ときには、ゲートバルブ15を閉状態として冷却槽1等
と保護容器5との間の間隙Aの真空を保持し、X線分析
を行うときには、ゲートバルブ15を開状態として試料
7から特性X線14をX線検出器4に直接入射させるよ
うに構成している。
X線分析装置の概略構成を示す図であり、X線検出器4
の前方にゲートバルブ15を設け、X線分析を行わない
ときには、ゲートバルブ15を閉状態として冷却槽1等
と保護容器5との間の間隙Aの真空を保持し、X線分析
を行うときには、ゲートバルブ15を開状態として試料
7から特性X線14をX線検出器4に直接入射させるよ
うに構成している。
【0006】上記いずれの装置においても、出力端子1
0、排気口11、ゲートバルブ15等から微小のリーク
や壁面ガス放出があり間隙Aの真空度が低下するため、
冷却槽1内に常時液体窒素2を満たしておくことによ
り、間隙Aに滞留するガスを吸着材8に吸着して真空低
下を防止している。
0、排気口11、ゲートバルブ15等から微小のリーク
や壁面ガス放出があり間隙Aの真空度が低下するため、
冷却槽1内に常時液体窒素2を満たしておくことによ
り、間隙Aに滞留するガスを吸着材8に吸着して真空低
下を防止している。
【0007】しかし、前者のウインドウ型の装置では、
長時間の使用により吸着材8の吸着能力が徐々に低下し
て、間隙Aにガスが滞留し真空度が低下してしまう。そ
のため、X線検出器4の表面に霜や汚れが付着してX線
検出器4が使用できなくなるという問題が生じる。そこ
で、従来は、保護容器5を封じたまま排気設備のある工
場等に送り、その工場で排気することによりX線検出器
4を再生して使用するようにしている。
長時間の使用により吸着材8の吸着能力が徐々に低下し
て、間隙Aにガスが滞留し真空度が低下してしまう。そ
のため、X線検出器4の表面に霜や汚れが付着してX線
検出器4が使用できなくなるという問題が生じる。そこ
で、従来は、保護容器5を封じたまま排気設備のある工
場等に送り、その工場で排気することによりX線検出器
4を再生して使用するようにしている。
【0008】また、後者のウインドウレス型の装置で
は、ゲートバルブ15を開状態にして真空容器6と保護
容器5を連通させ、真空容器6側の真空ポンプ(図示せ
ず)により間隙Aを排気すると、間隙Aに滞留している
ガスが保護容器5とX線検出器4の間の微小間隙Bを通
過して排気されるため、X線検出器4がガスによって汚
染され劣化を早めるという問題がある。
は、ゲートバルブ15を開状態にして真空容器6と保護
容器5を連通させ、真空容器6側の真空ポンプ(図示せ
ず)により間隙Aを排気すると、間隙Aに滞留している
ガスが保護容器5とX線検出器4の間の微小間隙Bを通
過して排気されるため、X線検出器4がガスによって汚
染され劣化を早めるという問題がある。
【0009】そのため、低エネルギーのX線を検出する
ことができる極薄い軽元素膜窓を用いたX線分析装置で
は、該窓の前方にゲートバルブを設け、筐筒内を大気圧
にリークする場合に、ゲートバルブを閉じたり、保護筒
内を大気圧にリークすることによって、窓を保護するよ
うにしている。しかし、このような方法により窓の破損
を防止する場合には、ゲートバルブ等の構成要素により
装置が大形化することが問題となる。
ことができる極薄い軽元素膜窓を用いたX線分析装置で
は、該窓の前方にゲートバルブを設け、筐筒内を大気圧
にリークする場合に、ゲートバルブを閉じたり、保護筒
内を大気圧にリークすることによって、窓を保護するよ
うにしている。しかし、このような方法により窓の破損
を防止する場合には、ゲートバルブ等の構成要素により
装置が大形化することが問題となる。
【0010】図5はウインドウ型エネルギー分散型X線
分析装置の改善例を示す図、図6はウインドウレス型エ
ネルギー分散型X線分析装置の改善例を示す図であり、
図3及び図4と同一の符号は同一の構成要素を示してい
る。
分析装置の改善例を示す図、図6はウインドウレス型エ
ネルギー分散型X線分析装置の改善例を示す図であり、
図3及び図4と同一の符号は同一の構成要素を示してい
る。
【0011】図5に示すウインドウ型エネルギー分散型
X線分析装置は、保護容器5と真空容器4との間を排気
管36によって接続し、真空バルブ37で管路の開閉を
制御して真空容器6を排気するための真空ポンプ38に
よって保護容器5の中の間隙Aの排気を行うように構成
したものである。真空計39は、間隙Aの真空度を測定
するためのもの、電子銃40は、電子線13を放射する
ものである。間隙Aのの真空度の低下は、真空計39や
真空容器6の真空計(真空バルブ37が開状態時)、液
体窒素2の単位時間当たり消費量によって確認される
が、このような場合には、真空バルブ37を開状態にし
て真空ポンプ38によって排気し真空度を向上させる。
また、X線検出器4の表面に付着した霜の除去は、真空
バルブ37を開状態にすると共に、液体窒素2を冷却槽
1の中から取り出し室温状態にして真空ポンプ38によ
って排気する。しかる後、真空バルブ37を閉状態にし
て液体窒素2を冷却槽1に再度注入する。
X線分析装置は、保護容器5と真空容器4との間を排気
管36によって接続し、真空バルブ37で管路の開閉を
制御して真空容器6を排気するための真空ポンプ38に
よって保護容器5の中の間隙Aの排気を行うように構成
したものである。真空計39は、間隙Aの真空度を測定
するためのもの、電子銃40は、電子線13を放射する
ものである。間隙Aのの真空度の低下は、真空計39や
真空容器6の真空計(真空バルブ37が開状態時)、液
体窒素2の単位時間当たり消費量によって確認される
が、このような場合には、真空バルブ37を開状態にし
て真空ポンプ38によって排気し真空度を向上させる。
また、X線検出器4の表面に付着した霜の除去は、真空
バルブ37を開状態にすると共に、液体窒素2を冷却槽
1の中から取り出し室温状態にして真空ポンプ38によ
って排気する。しかる後、真空バルブ37を閉状態にし
て液体窒素2を冷却槽1に再度注入する。
【0012】また、図6に示すウインドウレスエネルギ
ー分散型X線分析装置は、間隙Aの真空度の低下が確認
された場合、ゲートバルブ15を閉状態にすると共に真
空バルブ37を開状態にして真空ポンプ38によって排
気し真空度を向上させるものである。
ー分散型X線分析装置は、間隙Aの真空度の低下が確認
された場合、ゲートバルブ15を閉状態にすると共に真
空バルブ37を開状態にして真空ポンプ38によって排
気し真空度を向上させるものである。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】X線検出器4は熱に弱
く、また真空維持のため上記のように従来のエネルギー
分散型X線分析装置では、冷却槽1に液体窒素2を入れ
X線検出器4を常に冷却している。他方、このエネルギ
ー分散型X線分析装置を極超高真空装置に使用する場
合、極超高真空装置では、試料室の焼き出し(ベークア
ウト)が必要不可欠である。X線検出器4は、この焼き
出し時に保護容器5の管状にした先端部の外側が150
℃以上になっても、その内側のX線検出器4は室温以下
に保たなければならない。
く、また真空維持のため上記のように従来のエネルギー
分散型X線分析装置では、冷却槽1に液体窒素2を入れ
X線検出器4を常に冷却している。他方、このエネルギ
ー分散型X線分析装置を極超高真空装置に使用する場
合、極超高真空装置では、試料室の焼き出し(ベークア
ウト)が必要不可欠である。X線検出器4は、この焼き
出し時に保護容器5の管状にした先端部の外側が150
℃以上になっても、その内側のX線検出器4は室温以下
に保たなければならない。
【0014】そのため、上記従来のエネルギー分散型X
線分析装置では、焼き出し時にも液体窒素2を冷却槽1
に注入したままにし常に冷却した状態を保持している
が、実際には、焼き出しによって周囲にガスが放出され
るため、そのガスの熱伝導によってX線検出器4の温度
も上昇し、液体窒素2の消費量が急増する。そして、焼
き出し中に液体窒素がなくなり、X線検出器4を破損さ
せることがある。さらにそれだけでなく、放出されたガ
スが冷却されているX線検出器4に付着し検出器が汚染
するなどの問題が生じる。また、X線検出器4のある保
護容器5の管状にした先端部が冷却されているため、焼
き出しができずむしろ汚染され、真空度も上がらないと
いう問題が生じる。
線分析装置では、焼き出し時にも液体窒素2を冷却槽1
に注入したままにし常に冷却した状態を保持している
が、実際には、焼き出しによって周囲にガスが放出され
るため、そのガスの熱伝導によってX線検出器4の温度
も上昇し、液体窒素2の消費量が急増する。そして、焼
き出し中に液体窒素がなくなり、X線検出器4を破損さ
せることがある。さらにそれだけでなく、放出されたガ
スが冷却されているX線検出器4に付着し検出器が汚染
するなどの問題が生じる。また、X線検出器4のある保
護容器5の管状にした先端部が冷却されているため、焼
き出しができずむしろ汚染され、真空度も上がらないと
いう問題が生じる。
【0015】また、使用時以外は液体窒素2を抜いてし
まうようにしたエネルギー分散型X線分析装置もある
が、このエネルギー分散型X線分析装置の場合にも、冷
却していない状態で焼き出しを行うと、熱的に絶縁して
あっても、周囲が加熱されることによってガスが放出さ
れ内部の真空度が低下する。そのため、X線検出器4
は、ガスによって熱が伝わり温度が上昇すると共に、汚
染されてしまうという問題が生じ、焼き出しができなく
なってしまう。
まうようにしたエネルギー分散型X線分析装置もある
が、このエネルギー分散型X線分析装置の場合にも、冷
却していない状態で焼き出しを行うと、熱的に絶縁して
あっても、周囲が加熱されることによってガスが放出さ
れ内部の真空度が低下する。そのため、X線検出器4
は、ガスによって熱が伝わり温度が上昇すると共に、汚
染されてしまうという問題が生じ、焼き出しができなく
なってしまう。
【0016】本発明は、上記の課題を解決するものであ
って、液体窒素による冷却をしない状態で焼き出しを行
ってもX線検出器4の温度上昇を抑え、さらにガスによ
る汚染を防止することができるエネルギー分散型X線分
析装置を提供することを目的とするものである。
って、液体窒素による冷却をしない状態で焼き出しを行
ってもX線検出器4の温度上昇を抑え、さらにガスによ
る汚染を防止することができるエネルギー分散型X線分
析装置を提供することを目的とするものである。
【0017】
【課題を解決するための手段】そのために本発明は、外
部の冷却槽により冷却され真空容器内で試料から放射さ
れる特性X線を検出し分析するエネルギー分散型X線分
析装置であって、冷媒を収容する冷却槽、試料の近傍に
配置されるX線検出器、冷却槽の底部とX線検出器との
間を接続する熱伝導棒、下方に管状部を有し冷却槽と熱
伝導棒とX線検出器とを真空封入する保護容器、及び真
空容器内の焼き出しを行う際に保護容器と冷却槽との間
隙を真空に排気する排気手段を備えたことを特徴とす
る。
部の冷却槽により冷却され真空容器内で試料から放射さ
れる特性X線を検出し分析するエネルギー分散型X線分
析装置であって、冷媒を収容する冷却槽、試料の近傍に
配置されるX線検出器、冷却槽の底部とX線検出器との
間を接続する熱伝導棒、下方に管状部を有し冷却槽と熱
伝導棒とX線検出器とを真空封入する保護容器、及び真
空容器内の焼き出しを行う際に保護容器と冷却槽との間
隙を真空に排気する排気手段を備えたことを特徴とす
る。
【0018】
【作用】本発明のエネルギー分散型X線分析装置では、
真空容器内の焼き出しを行う際に保護容器と冷却槽との
間隙を真空に排気する排気手段を備えるので、冷却槽内
の冷媒が空になってX線検出器が室温にあっても、焼き
出しの際に一旦放出されているガスを排気し真空にする
ことができ、X線検出器の放出ガスによる汚染や焼き出
しによる温度上昇を防ぐことができる。
真空容器内の焼き出しを行う際に保護容器と冷却槽との
間隙を真空に排気する排気手段を備えるので、冷却槽内
の冷媒が空になってX線検出器が室温にあっても、焼き
出しの際に一旦放出されているガスを排気し真空にする
ことができ、X線検出器の放出ガスによる汚染や焼き出
しによる温度上昇を防ぐことができる。
【0019】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説
明する。図1は本発明のエネルギー分散型X線分析装置
の1実施例を示す図であり、1〜14は先に説明した図
3の構成部と同一のものを示し、16は排気管、17は
バルブ、18は真空ポンプを示す。
明する。図1は本発明のエネルギー分散型X線分析装置
の1実施例を示す図であり、1〜14は先に説明した図
3の構成部と同一のものを示し、16は排気管、17は
バルブ、18は真空ポンプを示す。
【0020】図1において、排気管16は、保護容器5
と冷却槽1との間隙Aの排気路を形成するものであり、
バルブ17は、排気管16による排気路を開閉するもの
である。真空ポンプ18は、バルブ17を開けて排気管
16を通して保護容器5と冷却槽1との間隙Aの排気を
行うことによって、保護容器5と冷却槽1との間隙Aを
真空にするものである。
と冷却槽1との間隙Aの排気路を形成するものであり、
バルブ17は、排気管16による排気路を開閉するもの
である。真空ポンプ18は、バルブ17を開けて排気管
16を通して保護容器5と冷却槽1との間隙Aの排気を
行うことによって、保護容器5と冷却槽1との間隙Aを
真空にするものである。
【0021】上記のような構成のエネルギー分散型X線
分析装置において、冷却槽1の中の液体窒素2が空にな
っている場合、X線検出器4は室温まで上がっているた
め、そのままの状態で液体窒素2を冷却槽1に注入して
冷却すると、壁面から放出されていたガスがX線検出器
4に付着して汚染する。しかし、本発明のエネルギー分
散型X線分析装置では、予め、バルブ17を開けて排気
管16を通して真空ポンプ18で保護容器5と冷却槽1
との間隙Aの排気を行い真空度を上げた後、液体窒素2
を冷却槽1に注入して冷却することによって、X線検出
器4のガス付着による汚染を防ぐことができる。
分析装置において、冷却槽1の中の液体窒素2が空にな
っている場合、X線検出器4は室温まで上がっているた
め、そのままの状態で液体窒素2を冷却槽1に注入して
冷却すると、壁面から放出されていたガスがX線検出器
4に付着して汚染する。しかし、本発明のエネルギー分
散型X線分析装置では、予め、バルブ17を開けて排気
管16を通して真空ポンプ18で保護容器5と冷却槽1
との間隙Aの排気を行い真空度を上げた後、液体窒素2
を冷却槽1に注入して冷却することによって、X線検出
器4のガス付着による汚染を防ぐことができる。
【0022】同様に、試料室(真空容器6)の焼き出し
を行う際にも、冷却槽1の中の液体窒素2が空になって
いる場合、そのままの状態から直ちに焼き出しを行う
と、ガスが放出されてガスにより熱が伝わりX線検出器
4も加熱されて壊れてしまうという問題が生じる。しか
し、本発明のエネルギー分散型X線分析装置では、上記
の場合と同じく、予め、バルブ17を開けて排気管16
を通して真空ポンプ18で保護容器5と冷却槽1との間
隙Aの排気を行い真空度を上げた後、あるいは引続き排
気を行いながら焼き出しを行うことによってX線検出器
4の温度の上昇を抑え、X線検出器4の温度を室温に保
つことができる。そのため、X線検出器4へのガスの付
着を防ぎ、X線検出器4の劣化を防ぐことができる。
を行う際にも、冷却槽1の中の液体窒素2が空になって
いる場合、そのままの状態から直ちに焼き出しを行う
と、ガスが放出されてガスにより熱が伝わりX線検出器
4も加熱されて壊れてしまうという問題が生じる。しか
し、本発明のエネルギー分散型X線分析装置では、上記
の場合と同じく、予め、バルブ17を開けて排気管16
を通して真空ポンプ18で保護容器5と冷却槽1との間
隙Aの排気を行い真空度を上げた後、あるいは引続き排
気を行いながら焼き出しを行うことによってX線検出器
4の温度の上昇を抑え、X線検出器4の温度を室温に保
つことができる。そのため、X線検出器4へのガスの付
着を防ぎ、X線検出器4の劣化を防ぐことができる。
【0023】図2は本発明のエネルギー分散型X線分析
装置の他の実施例を示す図であり、19と30は真空
計、20は真空ポンプ、21は収納管、22は排気管、
23はオーリング、24は押し棒、25は支持部材、2
6は弾性体、27は排気管、28は真空バルブ、29は
液面検出計、31はバルブコントローラ、32は制御装
置を示す。
装置の他の実施例を示す図であり、19と30は真空
計、20は真空ポンプ、21は収納管、22は排気管、
23はオーリング、24は押し棒、25は支持部材、2
6は弾性体、27は排気管、28は真空バルブ、29は
液面検出計、31はバルブコントローラ、32は制御装
置を示す。
【0024】図2に示すエネルギー分散型X線分析装置
は、保護容器5の底部の隙間に繋がって熱伝導棒3とX
線検出器4を収納した収納管21に対し、その周囲に一
定の空間を隔てて配置された排気管22を有し、この排
気管22の外周と真空容器6との間をオーリング23で
シールして、排気管22と共に一体となって真空容器6
の中に挿入され相対的に移動可能になっている。押し棒
24は、真空容器6に固定した支持部材25に螺合して
貫通しその先端を排気管22に固定し、押し棒24を回
転させることによって、真空容器6及び支持部材25と
相対的に保護容器5及び排気管22を移動させることが
できるように構成している。したがって、この押し棒2
4の回転操作によって、X線検出器4を試料7からの特
性X線を最も効率よく検出できる位置に設定したり、他
の粒子線の検出時に邪魔にならないように退避させるこ
とができる。排気管27は、保護容器5の内部間隙Aと
排気管22とを接続するものであり、この排気路を開閉
するのが真空バルブ28である。制御装置32は、保護
容器5の内部間隙Aの真空度を真空計19から、冷却槽
1の中の液体窒素2の液面を液面検出計29から、真空
容器6の中の真空度を真空計30から検出し、バルブコ
ントローラ31に真空バルブ28の開閉指令を与えるも
のである。
は、保護容器5の底部の隙間に繋がって熱伝導棒3とX
線検出器4を収納した収納管21に対し、その周囲に一
定の空間を隔てて配置された排気管22を有し、この排
気管22の外周と真空容器6との間をオーリング23で
シールして、排気管22と共に一体となって真空容器6
の中に挿入され相対的に移動可能になっている。押し棒
24は、真空容器6に固定した支持部材25に螺合して
貫通しその先端を排気管22に固定し、押し棒24を回
転させることによって、真空容器6及び支持部材25と
相対的に保護容器5及び排気管22を移動させることが
できるように構成している。したがって、この押し棒2
4の回転操作によって、X線検出器4を試料7からの特
性X線を最も効率よく検出できる位置に設定したり、他
の粒子線の検出時に邪魔にならないように退避させるこ
とができる。排気管27は、保護容器5の内部間隙Aと
排気管22とを接続するものであり、この排気路を開閉
するのが真空バルブ28である。制御装置32は、保護
容器5の内部間隙Aの真空度を真空計19から、冷却槽
1の中の液体窒素2の液面を液面検出計29から、真空
容器6の中の真空度を真空計30から検出し、バルブコ
ントローラ31に真空バルブ28の開閉指令を与えるも
のである。
【0025】上記の構成により焼き出しを行う際、制御
装置32は、バルブコントローラ31を制御して真空バ
ルブ28を開ける。ただし、内部間隙Aの真空度が低下
していない場合には、真空バルブ28を開けなくてもよ
い。したがって、焼き出し時に保護容器5の内部間隙A
の真空度を高い状態にすることができるので、X線検出
器4の温度の上昇を抑え、X線検出器4の温度を室温に
保つことができる。
装置32は、バルブコントローラ31を制御して真空バ
ルブ28を開ける。ただし、内部間隙Aの真空度が低下
していない場合には、真空バルブ28を開けなくてもよ
い。したがって、焼き出し時に保護容器5の内部間隙A
の真空度を高い状態にすることができるので、X線検出
器4の温度の上昇を抑え、X線検出器4の温度を室温に
保つことができる。
【0026】また、X線分析を行う場合には次のような
手順で操作を実行する。制御装置32は、液面検出計2
9により冷却槽1の中の液体窒素2の液面を検出するこ
とによって液体窒素2の有無を検出し、空の場合には、
真空計30により真空容器6の中の真空度を検出し、所
定の真空度(例えば10-5Torr)以下であれば、バルブ
コントローラ31を制御して真空バルブ28を開けて必
要に応じて真空ポンプ18を運転し、排気管22と27
を通じて保護容器5の内部間隙Aと収納管21内を排気
する。そして、真空計19により所定の真空度が検出さ
れると、バルブコントローラ31を制御して真空バルブ
28を閉じる。この状態において、液体窒素2を冷却槽
1の中に注入する。
手順で操作を実行する。制御装置32は、液面検出計2
9により冷却槽1の中の液体窒素2の液面を検出するこ
とによって液体窒素2の有無を検出し、空の場合には、
真空計30により真空容器6の中の真空度を検出し、所
定の真空度(例えば10-5Torr)以下であれば、バルブ
コントローラ31を制御して真空バルブ28を開けて必
要に応じて真空ポンプ18を運転し、排気管22と27
を通じて保護容器5の内部間隙Aと収納管21内を排気
する。そして、真空計19により所定の真空度が検出さ
れると、バルブコントローラ31を制御して真空バルブ
28を閉じる。この状態において、液体窒素2を冷却槽
1の中に注入する。
【0027】なお、本発明は、上記の実施例に限定され
るものではなく、種々の変形が可能である。例えば上記
の実施例では、ウインドウ型エネルギー分散型X線分析
装置に適用したが、ウインドウレス型エネルギー分散型
X線分析装置に同様に適用してもよいことはいうまでも
ない。
るものではなく、種々の変形が可能である。例えば上記
の実施例では、ウインドウ型エネルギー分散型X線分析
装置に適用したが、ウインドウレス型エネルギー分散型
X線分析装置に同様に適用してもよいことはいうまでも
ない。
【0028】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明によれ
ば、保護容器と冷却槽との間隙を真空に排気する排気手
段を設け、試料室(真空容器)の焼き出しを行う際に、
保護容器と冷却槽との間隙を排気して真空度を上げるよ
うにするので、X線検出器の放出ガスによる汚染や焼き
出しによる温度上昇を防ぐことができ、汚染や温度上昇
によるX線検出器の劣化を防ぐことができる。
ば、保護容器と冷却槽との間隙を真空に排気する排気手
段を設け、試料室(真空容器)の焼き出しを行う際に、
保護容器と冷却槽との間隙を排気して真空度を上げるよ
うにするので、X線検出器の放出ガスによる汚染や焼き
出しによる温度上昇を防ぐことができ、汚染や温度上昇
によるX線検出器の劣化を防ぐことができる。
【図1】 本発明のエネルギー分散型X線分析装置の実
施例を示す図である。
施例を示す図である。
【図2】 本発明のエネルギー分散型X線分析装置の他
の実施例を示す図である。
の実施例を示す図である。
【図3】 ウインドウ型エネルギー分散型X線分析装置
の概略構成を示す図である。
の概略構成を示す図である。
【図4】 ウインドウレス型エネルギー分散型X線分析
装置の概略構成を示す図である。
装置の概略構成を示す図である。
【図5】 ウインドウ型エネルギー分散型X線分析装置
の改善例を示す図である。
の改善例を示す図である。
【図6】 ウインドウレス型エネルギー分散型X線分析
装置の改善例を示す図である。
装置の改善例を示す図である。
1…冷却槽、2…液体窒素、3…熱伝導棒、4…X線検
出器、5…保護容器、6…真空容器、7…試料、8…吸
着材、9…ウインドウ、10…出力端子、11…排気
口、12…栓、13…電子線、14…特性X線、16…
排気管、17…バルブ、18…真空ポンプ
出器、5…保護容器、6…真空容器、7…試料、8…吸
着材、9…ウインドウ、10…出力端子、11…排気
口、12…栓、13…電子線、14…特性X線、16…
排気管、17…バルブ、18…真空ポンプ
Claims (1)
- 【請求項1】 外部の冷却槽により冷却され真空容器内
で試料から放射される特性X線を検出し分析するエネル
ギー分散型X線分析装置であって、冷媒を収容する冷却
槽、試料の近傍に配置されるX線検出器、冷却槽の底部
とX線検出器との間を接続する熱伝導棒、下方に管状部
を有し冷却槽と熱伝導棒とX線検出器とを真空封入する
保護容器、及び真空容器内の焼き出しを行う際に保護容
器と冷却槽との間隙を真空に排気する排気手段を備えた
ことを特徴とするエネルギー分散型X線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4050564A JPH05258707A (ja) | 1992-03-09 | 1992-03-09 | エネルギー分散型x線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4050564A JPH05258707A (ja) | 1992-03-09 | 1992-03-09 | エネルギー分散型x線分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05258707A true JPH05258707A (ja) | 1993-10-08 |
Family
ID=12862503
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4050564A Pending JPH05258707A (ja) | 1992-03-09 | 1992-03-09 | エネルギー分散型x線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05258707A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008128635A (ja) * | 2006-11-16 | 2008-06-05 | Shimadzu Corp | 電子冷却型半導体x線検出器 |
| CN111272798A (zh) * | 2020-02-26 | 2020-06-12 | 旭科新能源股份有限公司 | 一种柔性薄膜测试装置及柔性薄膜生产线 |
-
1992
- 1992-03-09 JP JP4050564A patent/JPH05258707A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008128635A (ja) * | 2006-11-16 | 2008-06-05 | Shimadzu Corp | 電子冷却型半導体x線検出器 |
| CN111272798A (zh) * | 2020-02-26 | 2020-06-12 | 旭科新能源股份有限公司 | 一种柔性薄膜测试装置及柔性薄膜生产线 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20000411 |