JPH0451578B2 - - Google Patents
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- JPH0451578B2 JPH0451578B2 JP60253641A JP25364185A JPH0451578B2 JP H0451578 B2 JPH0451578 B2 JP H0451578B2 JP 60253641 A JP60253641 A JP 60253641A JP 25364185 A JP25364185 A JP 25364185A JP H0451578 B2 JPH0451578 B2 JP H0451578B2
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- polymer
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- B01D—SEPARATION
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- B01D67/0016—Coagulation
- B01D67/00165—Composition of the coagulation baths
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
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- B01D69/107—Organic support material
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- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
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- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
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- C08J2327/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08J2327/12—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
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Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
（技術分野）
本発明は多孔質膜の製造方法に関するものであ
る。詳しく述べると、本発明は、ポリマーを良溶
媒に溶解し、基材上に一定の厚さに流延した後、
貧溶媒中で凝固させる多孔質膜の製造方法におい
て、作業工程が容易かつ短縮化され、また安全性
の高い多孔質膜の製造方法に関するものである。
る。詳しく述べると、本発明は、ポリマーを良溶
媒に溶解し、基材上に一定の厚さに流延した後、
貧溶媒中で凝固させる多孔質膜の製造方法におい
て、作業工程が容易かつ短縮化され、また安全性
の高い多孔質膜の製造方法に関するものである。
（先行技術）
従来、各種の濾過、透析等に用いられる高分子
多孔質膜の製造方法としては、(1)ポリマーを良溶
媒および良溶媒と混和し得る貧溶媒の混合物に溶
解し、基材上に一定の厚さに流延した後、注意深
い制御条件下に溶媒を蒸発除去させる乾式法、(2)
ポリマーを良溶媒に溶解し、基材上に一定の厚さ
に流延した後、貧溶媒中で凝固させる湿式法、(3)
溶出可能な物質をポリマー中に混入し、成膜後に
除去する方法、(4)膜を特定の条件下において延伸
する延伸法、(5)放射線や電子線を用いてポリマー
の一部に微孔を形成し、この部分を溶解させ穴を
拡大する方法などが知られている。このような多
孔質膜の製造方法のうち(1)の乾式法は、溶媒の蒸
発条件の制御が難かしく、(3)の方法は、ポリマー
中に混入された溶出可能な物質の完全な溶出が難
かしく、また微細孔の均一性にも問題を生じ、(4)
の延伸法は、微細孔を得るために膜に対して延伸
力を加えるために、熱等の外力が加わると膜性能
が変化する虞れが多く、また(5)の方法は、高価な
設備を必要としまたその工程も複雑なものとな
る。これに対し、(2)の湿式法は、他の方法に較べ
て製膜条件の制御が容易であり、特別の設備も要
せず、一般に優れた多孔質膜を提供し得るものと
して、多くの種類のポリマーに対して適用されて
いるものである。
多孔質膜の製造方法としては、(1)ポリマーを良溶
媒および良溶媒と混和し得る貧溶媒の混合物に溶
解し、基材上に一定の厚さに流延した後、注意深
い制御条件下に溶媒を蒸発除去させる乾式法、(2)
ポリマーを良溶媒に溶解し、基材上に一定の厚さ
に流延した後、貧溶媒中で凝固させる湿式法、(3)
溶出可能な物質をポリマー中に混入し、成膜後に
除去する方法、(4)膜を特定の条件下において延伸
する延伸法、(5)放射線や電子線を用いてポリマー
の一部に微孔を形成し、この部分を溶解させ穴を
拡大する方法などが知られている。このような多
孔質膜の製造方法のうち(1)の乾式法は、溶媒の蒸
発条件の制御が難かしく、(3)の方法は、ポリマー
中に混入された溶出可能な物質の完全な溶出が難
かしく、また微細孔の均一性にも問題を生じ、(4)
の延伸法は、微細孔を得るために膜に対して延伸
力を加えるために、熱等の外力が加わると膜性能
が変化する虞れが多く、また(5)の方法は、高価な
設備を必要としまたその工程も複雑なものとな
る。これに対し、(2)の湿式法は、他の方法に較べ
て製膜条件の制御が容易であり、特別の設備も要
せず、一般に優れた多孔質膜を提供し得るものと
して、多くの種類のポリマーに対して適用されて
いるものである。
しかしながら、この湿式法を用いて、例えばポ
リフツ化ビニリデン製多孔質膜を製造しようとす
る場合、貧溶媒としては特公昭48−8740号などで
見られるように水または低級アルコールを主成分
とするものを用いてきた。しかしながら、アルコ
ール類は、可燃性であるため防災面等、管理が難
しい上、凝固過程で混入した良溶媒を除去し貧溶
媒を再生するために蒸留分別を行なわなければな
らず、コスト的にも高いものとなる上、共沸混合
物の分離が困難であつた。また特開昭54−16382
号や特開昭58−91732号に見られるように水もし
くは水と良溶媒との混合物を用いることも提示さ
れ、水と良溶媒との配合比により膜構造を制御し
得るものであるが、この場合にも凝固過程で混入
した良溶媒を除去することは困難かつコスト的に
も高いものとなる上、水などは、その沸点が高い
ために得られた多孔質膜の乾燥工程が非常に長く
なつてしまうものとなつた。
リフツ化ビニリデン製多孔質膜を製造しようとす
る場合、貧溶媒としては特公昭48−8740号などで
見られるように水または低級アルコールを主成分
とするものを用いてきた。しかしながら、アルコ
ール類は、可燃性であるため防災面等、管理が難
しい上、凝固過程で混入した良溶媒を除去し貧溶
媒を再生するために蒸留分別を行なわなければな
らず、コスト的にも高いものとなる上、共沸混合
物の分離が困難であつた。また特開昭54−16382
号や特開昭58−91732号に見られるように水もし
くは水と良溶媒との混合物を用いることも提示さ
れ、水と良溶媒との配合比により膜構造を制御し
得るものであるが、この場合にも凝固過程で混入
した良溶媒を除去することは困難かつコスト的に
も高いものとなる上、水などは、その沸点が高い
ために得られた多孔質膜の乾燥工程が非常に長く
なつてしまうものとなつた。
発明の目的
したがつて、本発明は、改良された多孔質膜の
製造方法を提供することを目的とする。本発明は
また、ポリマーを良溶媒に溶解し、基材上に一定
の厚さに流延した後、貧溶媒中で凝固させる多孔
質膜の製造方法において、作業工程が用意かつ短
縮化でき、また安全性の高い多孔質膜の製造方法
を提供することを目的とする。本発明はさらにフ
ツ素系樹脂の多孔質膜の製造方法として好適な多
孔質膜の製造方法を提供することを目的とする。
製造方法を提供することを目的とする。本発明は
また、ポリマーを良溶媒に溶解し、基材上に一定
の厚さに流延した後、貧溶媒中で凝固させる多孔
質膜の製造方法において、作業工程が用意かつ短
縮化でき、また安全性の高い多孔質膜の製造方法
を提供することを目的とする。本発明はさらにフ
ツ素系樹脂の多孔質膜の製造方法として好適な多
孔質膜の製造方法を提供することを目的とする。
上記諸目的は、ポリマーを良溶媒に溶解し、基
材上に一定の厚さに流延した後、貧溶媒中で凝固
させる多孔質膜の製造方法において、貧溶媒とし
てフツ化炭化水素類を用いることを特徴とする多
孔質膜の製造方法により達成される。
材上に一定の厚さに流延した後、貧溶媒中で凝固
させる多孔質膜の製造方法において、貧溶媒とし
てフツ化炭化水素類を用いることを特徴とする多
孔質膜の製造方法により達成される。
本第１発明はまた貧溶媒として、トリクロロト
リフルオロエタン、テトラクロロジフルオロエタ
ン、ジブロモテトラフルオロエタン、トリクロロ
モノフルオロメタンおよびこれらの混合物からな
る群から選ばれたいずれかのフツ化炭化水素類を
用いるものである多孔質膜の製造方法を示すもの
である。本第１発明はまた、ポリマーとして、フ
ツ素系樹脂を用いるものである多孔質膜の製造方
法を示すものである。本第１発明はさらにポリマ
ーとして、フツ化ビニリデンホモポリマー、フツ
化ビニリデンと他のモノマーとのコポリマーおよ
びこれらのポリマーと他のポリマーとの配合物か
らなる群から選ばれたいずれかのフツ素系樹脂を
用いるものである多孔質膜の製造方法を示すもの
である。本第１発明はさらに良溶媒として、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメ
チルスルフオキシド、メチルエチルケトン、アセ
トン、テトラヒドロフランおよびこれらの混合物
からなる群から選ばれたいずれかのものを用いる
ものである多孔質膜の製造方法を示すものであ
る。本第１発明はさらに基材として、紙または混
抄紙を用いるものである多孔質膜の製造方法を示
すものである。
リフルオロエタン、テトラクロロジフルオロエタ
ン、ジブロモテトラフルオロエタン、トリクロロ
モノフルオロメタンおよびこれらの混合物からな
る群から選ばれたいずれかのフツ化炭化水素類を
用いるものである多孔質膜の製造方法を示すもの
である。本第１発明はまた、ポリマーとして、フ
ツ素系樹脂を用いるものである多孔質膜の製造方
法を示すものである。本第１発明はさらにポリマ
ーとして、フツ化ビニリデンホモポリマー、フツ
化ビニリデンと他のモノマーとのコポリマーおよ
びこれらのポリマーと他のポリマーとの配合物か
らなる群から選ばれたいずれかのフツ素系樹脂を
用いるものである多孔質膜の製造方法を示すもの
である。本第１発明はさらに良溶媒として、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメ
チルスルフオキシド、メチルエチルケトン、アセ
トン、テトラヒドロフランおよびこれらの混合物
からなる群から選ばれたいずれかのものを用いる
ものである多孔質膜の製造方法を示すものであ
る。本第１発明はさらに基材として、紙または混
抄紙を用いるものである多孔質膜の製造方法を示
すものである。
上記諸目的はまた、ポリマーを良溶媒に溶解
し、基材上に一定の厚さに流延した後、貧溶媒中
で凝固させる多孔質膜の製造方法において、貧溶
媒としてフツ化炭化水素類を用い、また凝固過程
でフツ化炭化水素類中に混入した良溶媒を水抽出
法により除去し、フツ化炭化水素類をくり返し使
用することを特徴とする多孔質膜の製造方法によ
り達成される。
し、基材上に一定の厚さに流延した後、貧溶媒中
で凝固させる多孔質膜の製造方法において、貧溶
媒としてフツ化炭化水素類を用い、また凝固過程
でフツ化炭化水素類中に混入した良溶媒を水抽出
法により除去し、フツ化炭化水素類をくり返し使
用することを特徴とする多孔質膜の製造方法によ
り達成される。
本第２発明はまた、貧溶媒として、トリクロロ
トリフルオロエタン、テトラクロロジフルオロエ
タン、ジブロモテトラフルオロエタン、トリクロ
ロモノフルオロメタンおよびこれらの混合物から
なる群から選ばれたいずれかのフツ化炭化水素類
を用いるものである多孔質膜の製造方法を示すも
のである。本第２発明はまた、ポリマーとしてフ
ツ素系樹脂を用いるものである多孔質膜の製造方
法を示すものである。本第２発明はさらに、ポリ
マーとして、フツ化ビニリデンホモポリマー、フ
ツ化ビニリデンと他のモノマーとのコポリマーお
よびこれらのポリマーと他のポリマーとの配合物
からなる群から選ばれたいずれかのフツ素系樹脂
を用いるものである多孔質膜の製造方法を示すも
のである。本第２発明はさらに良溶媒として、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジ
メチルスルフオキシド、メチルエチルケトン、ア
セトン、テトラヒドロフランおよびこれらの混合
物からなる群から選ばれたいずれか１つのものを
用いるものである多孔質膜の製造方法を示すもの
である。本第２発明はさらに基材として、紙また
は混抄紙を用いるものである多孔質膜の製造方法
を示すものである。
トリフルオロエタン、テトラクロロジフルオロエ
タン、ジブロモテトラフルオロエタン、トリクロ
ロモノフルオロメタンおよびこれらの混合物から
なる群から選ばれたいずれかのフツ化炭化水素類
を用いるものである多孔質膜の製造方法を示すも
のである。本第２発明はまた、ポリマーとしてフ
ツ素系樹脂を用いるものである多孔質膜の製造方
法を示すものである。本第２発明はさらに、ポリ
マーとして、フツ化ビニリデンホモポリマー、フ
ツ化ビニリデンと他のモノマーとのコポリマーお
よびこれらのポリマーと他のポリマーとの配合物
からなる群から選ばれたいずれかのフツ素系樹脂
を用いるものである多孔質膜の製造方法を示すも
のである。本第２発明はさらに良溶媒として、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジ
メチルスルフオキシド、メチルエチルケトン、ア
セトン、テトラヒドロフランおよびこれらの混合
物からなる群から選ばれたいずれか１つのものを
用いるものである多孔質膜の製造方法を示すもの
である。本第２発明はさらに基材として、紙また
は混抄紙を用いるものである多孔質膜の製造方法
を示すものである。
発明の具体的説明
以下、本発明を実施態様に基づき、より詳細に
説明する。
説明する。
本第１発明の多孔質膜の製造方法は、ポリマー
を良溶媒に溶解し、基材上に一定の厚さに流延し
た後、貧溶媒中で凝固させる方法に一部改良を加
えたもので、貧溶媒としてフツ化炭化水素類を用
いるものである。
を良溶媒に溶解し、基材上に一定の厚さに流延し
た後、貧溶媒中で凝固させる方法に一部改良を加
えたもので、貧溶媒としてフツ化炭化水素類を用
いるものである。
なお本発明において「貧溶媒」とは、単独では
ポリマーをほとんどないしは全く溶解しないもの
を意味し、また「良溶媒」とはポリマーをポリマ
ーの融点以下の温度範囲で溶解しうるものを意味
し、該「貧溶媒」と「良溶媒」とは親和性を有し
混和し得るものである。
ポリマーをほとんどないしは全く溶解しないもの
を意味し、また「良溶媒」とはポリマーをポリマ
ーの融点以下の温度範囲で溶解しうるものを意味
し、該「貧溶媒」と「良溶媒」とは親和性を有し
混和し得るものである。
貧溶媒として用いられるフツ化炭化水素類とし
ては、常温で液体であり、かつ沸点があまり高く
なく乾燥処理が容易に行なえるものが好ましく、
例えば、トリクロロトリフルオロエタン、テトラ
クロロジフルオロエタン、ジブロモテトラフルオ
ロエタン、トリクロロモノフルオロメタンおよび
これらの混合物などが挙げられるが、特に、トリ
クロロトリフルオロエタン、ジブロモテトラフル
オロエタンなどの比較的低沸点を有するフツ化炭
化水素類が好ましい。貧溶媒としてこのようなフ
ツ化炭化水素類を用いると、得られた多孔質膜の
乾燥処理時間が短縮化され、かつまたフツ化炭化
水素類は、一般にポリマーの良溶媒として用いら
れる多くの有機溶媒と良好な親和性を有するた
め、基材上に流延したポリマー溶液を貧溶媒中に
浸漬して凝固させる際、ポリマー溶液中に含まれ
る良溶媒を貧溶媒中に良好に移行抽出することが
でき、このため得られる多孔質構造は、非常に優
れたものとなる。さらにフツ化炭化水素類は、不
燃性であるために、従来、貧溶媒としてアルコー
ル等を用いた場合に必要とされていた防爆構造な
どの特別な配慮も不要となる。
ては、常温で液体であり、かつ沸点があまり高く
なく乾燥処理が容易に行なえるものが好ましく、
例えば、トリクロロトリフルオロエタン、テトラ
クロロジフルオロエタン、ジブロモテトラフルオ
ロエタン、トリクロロモノフルオロメタンおよび
これらの混合物などが挙げられるが、特に、トリ
クロロトリフルオロエタン、ジブロモテトラフル
オロエタンなどの比較的低沸点を有するフツ化炭
化水素類が好ましい。貧溶媒としてこのようなフ
ツ化炭化水素類を用いると、得られた多孔質膜の
乾燥処理時間が短縮化され、かつまたフツ化炭化
水素類は、一般にポリマーの良溶媒として用いら
れる多くの有機溶媒と良好な親和性を有するた
め、基材上に流延したポリマー溶液を貧溶媒中に
浸漬して凝固させる際、ポリマー溶液中に含まれ
る良溶媒を貧溶媒中に良好に移行抽出することが
でき、このため得られる多孔質構造は、非常に優
れたものとなる。さらにフツ化炭化水素類は、不
燃性であるために、従来、貧溶媒としてアルコー
ル等を用いた場合に必要とされていた防爆構造な
どの特別な配慮も不要となる。
本発明の多孔質膜の製造方法を適用し得るポリ
マーとしては、フツ化炭化水素類に対して不溶で
あり、かつフツ化炭化水素類と親和性の高い有機
溶媒を良溶媒として用いることができるものであ
ればいずれでも用いることができ、例えばポリア
ミド樹脂、ポリアセタール樹脂、フツ素系樹脂な
どがあるが、素材の強度等を考慮するとフツ素系
樹脂が好ましく、中でもフツ化ビニリデン系樹脂
が好ましい。このフツ化ビニリデン系樹脂には、
フツ化ビニリデンホモポリマーの他に、フツ化ビ
ニリデンを主体とした四フツ化エチンレ、アクリ
ル酸メチル、プロピレンなどの他のモノマーとの
コポリマー、およびこれらのポリマーと他の配合
物が含まれる。
マーとしては、フツ化炭化水素類に対して不溶で
あり、かつフツ化炭化水素類と親和性の高い有機
溶媒を良溶媒として用いることができるものであ
ればいずれでも用いることができ、例えばポリア
ミド樹脂、ポリアセタール樹脂、フツ素系樹脂な
どがあるが、素材の強度等を考慮するとフツ素系
樹脂が好ましく、中でもフツ化ビニリデン系樹脂
が好ましい。このフツ化ビニリデン系樹脂には、
フツ化ビニリデンホモポリマーの他に、フツ化ビ
ニリデンを主体とした四フツ化エチンレ、アクリ
ル酸メチル、プロピレンなどの他のモノマーとの
コポリマー、およびこれらのポリマーと他の配合
物が含まれる。
良溶媒としては、例えばポリマーがフツ化ビニ
リデン系樹脂である場合には、アセトン、メチル
エチルケトン、ジエチルケトン、メチルプロピル
ケトン、メチルブチルケトン、メチルイソプロピ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、テト
ラヒドラフラン、テトラヒドロフラン、１，４−
ジオキサン等のエーテル類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセチルアミド等のアミド類、ジメ
チルスルフオキシド等のスルフオキシド類などが
挙げられ、好ましくはジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ジメチルスルフオキシド、
メチルエチルケトン、アセトン、テトラヒドロフ
ランなどであり、最も好ましくはジメチルホルム
アミドとアセトンの混合物である。
リデン系樹脂である場合には、アセトン、メチル
エチルケトン、ジエチルケトン、メチルプロピル
ケトン、メチルブチルケトン、メチルイソプロピ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、テト
ラヒドラフラン、テトラヒドロフラン、１，４−
ジオキサン等のエーテル類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセチルアミド等のアミド類、ジメ
チルスルフオキシド等のスルフオキシド類などが
挙げられ、好ましくはジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ジメチルスルフオキシド、
メチルエチルケトン、アセトン、テトラヒドロフ
ランなどであり、最も好ましくはジメチルホルム
アミドとアセトンの混合物である。
本発明の多孔質膜の製造方法においては、まず
上記のごときポリマーを良溶媒に溶解してポリマ
ー溶液を調製する。このポリマー溶液におけるポ
リマー濃度は、10〜25重量％、より好ましくは15
〜20重量％とされる。
上記のごときポリマーを良溶媒に溶解してポリマ
ー溶液を調製する。このポリマー溶液におけるポ
リマー濃度は、10〜25重量％、より好ましくは15
〜20重量％とされる。
次にこのように調製されたポリマー溶液は基材
上に、ドクターナイフ、カーテンコーター等を用
いて塗布あるいは噴霧して、例えば100〜1000μ
ｍ、好ましくは300〜600μｍの厚さに均一に流延
される。基材としては、紙、ガラス板、金属鏡面
板、またはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
エステルフイルム、ナイロン等のポリマー混抄紙
などが用いられ得るが、好ましくは紙、ポリマー
混抄紙であり、特に好ましくはポリエチレン、ポ
リプロピレン等のポリオレフイン混抄紙である。
これは、これらの基材が良溶媒と置換したフツ化
炭化水素が蒸発する際の多孔質膜の収縮をおさ
え、かつ後で基材から多孔質膜を容易にはがす事
のできる表面特性をもつからである。
上に、ドクターナイフ、カーテンコーター等を用
いて塗布あるいは噴霧して、例えば100〜1000μ
ｍ、好ましくは300〜600μｍの厚さに均一に流延
される。基材としては、紙、ガラス板、金属鏡面
板、またはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
エステルフイルム、ナイロン等のポリマー混抄紙
などが用いられ得るが、好ましくは紙、ポリマー
混抄紙であり、特に好ましくはポリエチレン、ポ
リプロピレン等のポリオレフイン混抄紙である。
これは、これらの基材が良溶媒と置換したフツ化
炭化水素が蒸発する際の多孔質膜の収縮をおさ
え、かつ後で基材から多孔質膜を容易にはがす事
のできる表面特性をもつからである。
ポリマー溶液を流延された基材は、直ちに貧溶
媒であるフツ化炭化水素類浴中へと入れられる。
この際、好ましくはポリマー溶液を流延した面を
下面としてフツ化炭化水素類浴中へ浸漬すること
が望ましい。これは、フツ化炭化水素類の比重が
かなり大きいので、浸漬中にポリマー溶液が基材
より離れて浮き上がることを防止するためであ
る。ポリマー溶液中に含まれていた良溶媒は、貧
溶媒であるフツ化炭化水素類中へと拡散により除
去され、ポリマー溶液の組成が変化を起こし、ポ
リマー溶液はゲル化して凝固する。ゲル化が進行
する際ポリマー粒子間には、良溶媒に置換して貧
溶媒であるフツ化炭化水素類が存在するために、
分子凝集がある程度阻止され多孔質構造が形成さ
れる。フツ化炭化水素類への浸漬は、ポリマー溶
液が凝固して多孔質構造を形成するのに十分な時
間、通常１〜10分間、好ましくは３〜５分間行な
われる。
媒であるフツ化炭化水素類浴中へと入れられる。
この際、好ましくはポリマー溶液を流延した面を
下面としてフツ化炭化水素類浴中へ浸漬すること
が望ましい。これは、フツ化炭化水素類の比重が
かなり大きいので、浸漬中にポリマー溶液が基材
より離れて浮き上がることを防止するためであ
る。ポリマー溶液中に含まれていた良溶媒は、貧
溶媒であるフツ化炭化水素類中へと拡散により除
去され、ポリマー溶液の組成が変化を起こし、ポ
リマー溶液はゲル化して凝固する。ゲル化が進行
する際ポリマー粒子間には、良溶媒に置換して貧
溶媒であるフツ化炭化水素類が存在するために、
分子凝集がある程度阻止され多孔質構造が形成さ
れる。フツ化炭化水素類への浸漬は、ポリマー溶
液が凝固して多孔質構造を形成するのに十分な時
間、通常１〜10分間、好ましくは３〜５分間行な
われる。
このようにして、貧溶媒であるフツ化炭化水素
類中での凝固が完了したら、得られた多孔質膜を
基材とともにフツ化炭化水素類中より取り出した
後、乾燥を行い、多孔質膜に付着残留するフツ化
炭化水素類を除去する。前記したようにフツ化炭
化水素類は、一般に低沸化合物であるために、乾
燥を行なう際の加熱等の処理はほとんど不要であ
り、乾燥時間も短時間ですむ。
類中での凝固が完了したら、得られた多孔質膜を
基材とともにフツ化炭化水素類中より取り出した
後、乾燥を行い、多孔質膜に付着残留するフツ化
炭化水素類を除去する。前記したようにフツ化炭
化水素類は、一般に低沸化合物であるために、乾
燥を行なう際の加熱等の処理はほとんど不要であ
り、乾燥時間も短時間ですむ。
次に図面により本発明をより具体的に説明す
る。
る。
第１図は、本発明の多孔質膜の製造方法に一実
施例において使用される製造装置の概略図であ
り、該装置を用いることで多孔質膜を連続的に得
ることができる。すなわち、まず基材ロール１よ
り例えば0.1〜3.0ｍ／min程度の一定速度で供給
されるベルト状の基材２へ支持ロール３上におい
てドクターナイフ４によりポリマー溶液５を薄く
均一に塗布する。この基材２を、直ちにフツ化炭
化水素類６を入れた凝固浴７へと導き、さらに変
向棒８によつて基材２のポリマー溶液５塗布面を
凝固浴７中で下面となる状態として凝固浴７内を
移動させポリマー溶液５を凝固させる。ポリマー
溶液５が凝固し多孔質膜９となつたところで、凝
固浴７より基材２を引き上げ巻取りロール１０ま
での移動距離において、多孔質膜９および基材２
に付着残留するフツ化炭化水素類６を室温にて蒸
発乾燥した後、基材２と共に多孔質膜９を巻取り
ロール１０へ巻取る。このように巻取りロール１
０へ巻取られた多孔質膜９は、使用時まで基材２
に裏打ちされた状態で保存されることができる。
施例において使用される製造装置の概略図であ
り、該装置を用いることで多孔質膜を連続的に得
ることができる。すなわち、まず基材ロール１よ
り例えば0.1〜3.0ｍ／min程度の一定速度で供給
されるベルト状の基材２へ支持ロール３上におい
てドクターナイフ４によりポリマー溶液５を薄く
均一に塗布する。この基材２を、直ちにフツ化炭
化水素類６を入れた凝固浴７へと導き、さらに変
向棒８によつて基材２のポリマー溶液５塗布面を
凝固浴７中で下面となる状態として凝固浴７内を
移動させポリマー溶液５を凝固させる。ポリマー
溶液５が凝固し多孔質膜９となつたところで、凝
固浴７より基材２を引き上げ巻取りロール１０ま
での移動距離において、多孔質膜９および基材２
に付着残留するフツ化炭化水素類６を室温にて蒸
発乾燥した後、基材２と共に多孔質膜９を巻取り
ロール１０へ巻取る。このように巻取りロール１
０へ巻取られた多孔質膜９は、使用時まで基材２
に裏打ちされた状態で保存されることができる。
以上のようにして製造される多孔質膜は、その
膜厚が50〜170μｍ、好ましくは80〜150μｍ、ま
た空孔率が50〜90％、好ましくは70〜85％、平均
孔径が0.1〜1.0μｍ、好ましくは0.2〜0.6μｍ程度
のものであり、例えば、製薬、医療分野における
細菌分離フイルター、血漿分離用膜等として好適
に用いられる。
膜厚が50〜170μｍ、好ましくは80〜150μｍ、ま
た空孔率が50〜90％、好ましくは70〜85％、平均
孔径が0.1〜1.0μｍ、好ましくは0.2〜0.6μｍ程度
のものであり、例えば、製薬、医療分野における
細菌分離フイルター、血漿分離用膜等として好適
に用いられる。
また、本第２発明の多孔質膜の製造方法は、ポ
リマーを良溶媒に溶解し、基材上に一定の厚さに
流延した後、貧溶媒中で凝固させる方法に一部改
良を加えたものであり、第１発明と同様、貧溶媒
としてフツ化炭化水素類を用い、さらに凝固過程
でフツ化炭化水素類中に混入した良溶媒を除去す
るのに水抽出法を行なうことを特徴とするもので
ある。
リマーを良溶媒に溶解し、基材上に一定の厚さに
流延した後、貧溶媒中で凝固させる方法に一部改
良を加えたものであり、第１発明と同様、貧溶媒
としてフツ化炭化水素類を用い、さらに凝固過程
でフツ化炭化水素類中に混入した良溶媒を除去す
るのに水抽出法を行なうことを特徴とするもので
ある。
湿式法において、凝固過程において貧溶媒中に
混入した良溶媒を分離して、凝固浴の貧溶媒濃度
を一定値以下に保たなければならないことは、多
孔質膜構造制御において重要な問題である。従来
この分離は、沸点の差を利用して蒸留分離するの
が一般的であり、かなりのコストと手間を要する
ものであつた。また共沸混合物となるとこの方法
では分離が困難であつた。ところが本発明におい
ては、貧溶媒としてフツ化炭化水素類を使用す
る。フツ化炭化水素類は多くの有機溶剤とは親和
性が高いが水とはほとんど混和しないという特徴
を有する。従つて、良溶媒の混入したフツ化炭化
水素類中へ水を加え撹拌すると、良溶媒がフツ化
炭化水素層から水層へと移り、良溶媒を貧溶媒で
あるフツ化炭化水素類より容易に抽出できる。水
はフツ化炭化水素類より比重が小さく上層を形成
するので容易に除去することができる。本発明に
おいてはこのように貧溶媒中に混入した良溶媒を
水抽出法により除去するために、貧溶媒であるフ
ツ化炭化水素類の精製が非常に容易であり、フツ
化炭化水素類をくり返し使用できる。
混入した良溶媒を分離して、凝固浴の貧溶媒濃度
を一定値以下に保たなければならないことは、多
孔質膜構造制御において重要な問題である。従来
この分離は、沸点の差を利用して蒸留分離するの
が一般的であり、かなりのコストと手間を要する
ものであつた。また共沸混合物となるとこの方法
では分離が困難であつた。ところが本発明におい
ては、貧溶媒としてフツ化炭化水素類を使用す
る。フツ化炭化水素類は多くの有機溶剤とは親和
性が高いが水とはほとんど混和しないという特徴
を有する。従つて、良溶媒の混入したフツ化炭化
水素類中へ水を加え撹拌すると、良溶媒がフツ化
炭化水素層から水層へと移り、良溶媒を貧溶媒で
あるフツ化炭化水素類より容易に抽出できる。水
はフツ化炭化水素類より比重が小さく上層を形成
するので容易に除去することができる。本発明に
おいてはこのように貧溶媒中に混入した良溶媒を
水抽出法により除去するために、貧溶媒であるフ
ツ化炭化水素類の精製が非常に容易であり、フツ
化炭化水素類をくり返し使用できる。
本第２発明の多孔質膜の製造方法の製造工程
は、上記した第１発明の多孔質膜の製造方法と、
良溶媒が混入して一定濃度以下に低下した貧溶媒
であるフツ化炭化水素類の水抽出法による精製が
付加される以外は同一であつて、用いられるポリ
マー、良溶媒、貧溶媒および基材ももちろん同一
である。
は、上記した第１発明の多孔質膜の製造方法と、
良溶媒が混入して一定濃度以下に低下した貧溶媒
であるフツ化炭化水素類の水抽出法による精製が
付加される以外は同一であつて、用いられるポリ
マー、良溶媒、貧溶媒および基材ももちろん同一
である。
以下実施例に基づき、本発明をより具体的に説
明する。
明する。
実施例 １
ポリフツ化ビニリデン（以下、PVdFと略記す
る。）［Penwalt社製、Kynar 301F］18重量部を
アセトン61.5重量部およびジメチルホルムアミド
20.5重量部に加熱して溶解し、室温まで放冷して
ポリマー溶液を得た。このポリマー溶液を平滑な
ガラス板上に約400μｍの厚さに流延し、直ちに
トリクロロトリフルオロエタン［ダイキン工業(株)
製、ダイフロンＳ−３］中に５分間浸漬した後、
室温にて乾燥させ、ガラス板から剥離して多孔質
膜を得た。得られた多孔質膜は、膜厚123μｍ、
空孔率80.2％であり、エタノールで親水化処理の
後、使用したところ透水率は33.4ml／cm2・min
（10psi、25℃）であり、直径0.46μｍのポリスチ
レンラテツクス粒子の除去率は95％以上であつ
た。
る。）［Penwalt社製、Kynar 301F］18重量部を
アセトン61.5重量部およびジメチルホルムアミド
20.5重量部に加熱して溶解し、室温まで放冷して
ポリマー溶液を得た。このポリマー溶液を平滑な
ガラス板上に約400μｍの厚さに流延し、直ちに
トリクロロトリフルオロエタン［ダイキン工業(株)
製、ダイフロンＳ−３］中に５分間浸漬した後、
室温にて乾燥させ、ガラス板から剥離して多孔質
膜を得た。得られた多孔質膜は、膜厚123μｍ、
空孔率80.2％であり、エタノールで親水化処理の
後、使用したところ透水率は33.4ml／cm2・min
（10psi、25℃）であり、直径0.46μｍのポリスチ
レンラテツクス粒子の除去率は95％以上であつ
た。
実施例 ２
フツ化ビニリデン−４フツ化エチレンコポリマ
ー［Penwalt社製、Kynar 7201］18重量部をア
セトン61.5重量部およびジメチルホルムアミド
20.5重量部に加熱して溶解し、室温まで放冷して
ポリマー溶液を得た。このポリマー溶液を平滑な
ガラス板上に約400μｍの厚さに流延し、直ちに
トリクロロトリフルオロエタン［ダイキン工業
(株)、ダイフロンＳ−３］中に５分間浸漬した後、
室温にて乾燥させ、ガラス板から剥離して多孔質
膜を得た。得られた多孔質膜は、膜厚120μｍ、
空孔率71.5％であり、エタノールで親水化処理の
後、使用したところ透水率は44.6ml／cm2・min
（10psi、25℃）であり、直径0.65μｍのポリスチ
レンラテツクス粒子の除去率は95％以上であつ
た。
ー［Penwalt社製、Kynar 7201］18重量部をア
セトン61.5重量部およびジメチルホルムアミド
20.5重量部に加熱して溶解し、室温まで放冷して
ポリマー溶液を得た。このポリマー溶液を平滑な
ガラス板上に約400μｍの厚さに流延し、直ちに
トリクロロトリフルオロエタン［ダイキン工業
(株)、ダイフロンＳ−３］中に５分間浸漬した後、
室温にて乾燥させ、ガラス板から剥離して多孔質
膜を得た。得られた多孔質膜は、膜厚120μｍ、
空孔率71.5％であり、エタノールで親水化処理の
後、使用したところ透水率は44.6ml／cm2・min
（10psi、25℃）であり、直径0.65μｍのポリスチ
レンラテツクス粒子の除去率は95％以上であつ
た。
実施例 ３
PVdF［Penwalt社製、Kynar 301F］12.6重量
部とポリメチルメタクリレート［協和ガス化学工
業(株)製、PARAPET−GF1000］5.4重量部の配合
物をアセトン61.5重量部およびジメチルホルムア
ミド20.5重量部に加熱して溶解し、室温まで放冷
してポリマー溶液を得た。このポリマー溶液を平
滑なガラス板上に500μｍの厚さに流延し、直ち
にトリクロロトリフルオロエタン［ダイキン工業
(株)製、ダイフロンＳ−３］中に５分間浸漬した
後、室温にて乾燥させ、ガラス板から剥離して多
孔質膜を得た。得られた多孔質膜は、膜厚143μ
ｍ、空孔率81.4％であり、エタノールで親水化処
理の後、使用したところ透水率は38.7ml／cm2・
min（10psi、25℃）であり、直径0.46μｍのポリス
チレンラテツクス粒子の除去率は95％以上であつ
た。
部とポリメチルメタクリレート［協和ガス化学工
業(株)製、PARAPET−GF1000］5.4重量部の配合
物をアセトン61.5重量部およびジメチルホルムア
ミド20.5重量部に加熱して溶解し、室温まで放冷
してポリマー溶液を得た。このポリマー溶液を平
滑なガラス板上に500μｍの厚さに流延し、直ち
にトリクロロトリフルオロエタン［ダイキン工業
(株)製、ダイフロンＳ−３］中に５分間浸漬した
後、室温にて乾燥させ、ガラス板から剥離して多
孔質膜を得た。得られた多孔質膜は、膜厚143μ
ｍ、空孔率81.4％であり、エタノールで親水化処
理の後、使用したところ透水率は38.7ml／cm2・
min（10psi、25℃）であり、直径0.46μｍのポリス
チレンラテツクス粒子の除去率は95％以上であつ
た。
実施例 ４
PVdF［Penwalt社製、Kynar 301F］12.6重量
部とビニルアルコール−酢酸ビニルコポリマー
［信越化学(株)製、SMR−80L］5.4重量部の配合物
をアセトン61.5重量部およびジメチルホルムアミ
ド20.5重量部に加熱して溶解し、室温まで放冷し
てポリマー溶液を得た。このポリマー溶液を平滑
なガラス板上に500μｍの厚さに流延し、直ちに
トリクロロトリフルオロエタン［ダイキン工業(株)
製、ダイフロンＳ−３］中に５分間浸漬した後、
室温にて乾燥させ、ガラス板から剥離して多孔質
膜を得た。得られた多孔質膜は、膜厚131μｍ、
空孔率72.4％であり、そのまま使用しても十分な
親水性を示し、透水率は30.6ml／cm2・min（10psi、
25℃）であり、直径0.46μｍのポリスチレンラテ
ツクス粒子の除去率は95％以上であつた。
部とビニルアルコール−酢酸ビニルコポリマー
［信越化学(株)製、SMR−80L］5.4重量部の配合物
をアセトン61.5重量部およびジメチルホルムアミ
ド20.5重量部に加熱して溶解し、室温まで放冷し
てポリマー溶液を得た。このポリマー溶液を平滑
なガラス板上に500μｍの厚さに流延し、直ちに
トリクロロトリフルオロエタン［ダイキン工業(株)
製、ダイフロンＳ−３］中に５分間浸漬した後、
室温にて乾燥させ、ガラス板から剥離して多孔質
膜を得た。得られた多孔質膜は、膜厚131μｍ、
空孔率72.4％であり、そのまま使用しても十分な
親水性を示し、透水率は30.6ml／cm2・min（10psi、
25℃）であり、直径0.46μｍのポリスチレンラテ
ツクス粒子の除去率は95％以上であつた。
実施例 ５
PVdF［Penwalt社製、Kynar 301F］18重量部
をアセトン61.5重量部およびジメチルホルムアミ
ド20.5重量部に加熱して溶解し、室温まで放冷し
てポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をロー
ル状態から引き出した平滑なポリエチレン混抄紙
［(株)興人製］上に300μｍの厚さに流延し、トリク
ロロトリフルオロエタン［ダイキン工業(株)製、ダ
イフロンＳ−３］中を５分間通過させた後引き出
し、室温にて乾燥させ、基材から剥離して多孔質
膜を得た。得られた多孔質膜は、薄厚88μｍ、空
孔率79.3％であり、エタノールで親水化後使用し
たところ透水率は33.9ml／cm2・min（10psi、25℃）
であり、直径0.46μｍのポリスチレンラテツクス
粒子の除去率は95％以上であつた。
をアセトン61.5重量部およびジメチルホルムアミ
ド20.5重量部に加熱して溶解し、室温まで放冷し
てポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をロー
ル状態から引き出した平滑なポリエチレン混抄紙
［(株)興人製］上に300μｍの厚さに流延し、トリク
ロロトリフルオロエタン［ダイキン工業(株)製、ダ
イフロンＳ−３］中を５分間通過させた後引き出
し、室温にて乾燥させ、基材から剥離して多孔質
膜を得た。得られた多孔質膜は、薄厚88μｍ、空
孔率79.3％であり、エタノールで親水化後使用し
たところ透水率は33.9ml／cm2・min（10psi、25℃）
であり、直径0.46μｍのポリスチレンラテツクス
粒子の除去率は95％以上であつた。
実施例 ６
実施例５と同様にしてポリマー溶液を得た。次
に第２図に示すような装置を用いてこのポリマー
溶液５を基材２となるポリエチレン混抄紙［(株)興
人製］幅300mm上にドクターナイフ４を用い厚さ
300μｍ、幅200mmに流延し、トリクロロトリフル
オロエタン［ダイキン工業(株)製］（100）を入れ
た凝固浴７中を５分間通過させた後引き出し、室
温にて乾燥させ、生成した多孔質膜９を巻き取り
ロール１０に巻き取つた。操作時、トリクロロト
リフルオロエタンは水バブル型抽出層１２に30
／hrの量で導き、混存する良溶媒を水中に移行
させ、ポンプ１５を介して凝固浴７へともどし
た。この時水は100／hrの割合で使用した。操
作時凝固浴７中の良溶媒濃度は２容量％以下に保
たれていた。
に第２図に示すような装置を用いてこのポリマー
溶液５を基材２となるポリエチレン混抄紙［(株)興
人製］幅300mm上にドクターナイフ４を用い厚さ
300μｍ、幅200mmに流延し、トリクロロトリフル
オロエタン［ダイキン工業(株)製］（100）を入れ
た凝固浴７中を５分間通過させた後引き出し、室
温にて乾燥させ、生成した多孔質膜９を巻き取り
ロール１０に巻き取つた。操作時、トリクロロト
リフルオロエタンは水バブル型抽出層１２に30
／hrの量で導き、混存する良溶媒を水中に移行
させ、ポンプ１５を介して凝固浴７へともどし
た。この時水は100／hrの割合で使用した。操
作時凝固浴７中の良溶媒濃度は２容量％以下に保
たれていた。
得られた多孔質膜は、膜厚80〜90μｍ、空孔率
78〜80％、透水率32〜36ml／cm2・min（10psi、25
℃）で安定していた。また直径0.46μｍのポリス
チレンラテツクス粒子の除去率も95％以上で安定
していた。
78〜80％、透水率32〜36ml／cm2・min（10psi、25
℃）で安定していた。また直径0.46μｍのポリス
チレンラテツクス粒子の除去率も95％以上で安定
していた。
なお、第２図において符号１３は水入口、符号
１４は水出口を示すものである。
１４は水出口を示すものである。
発明の具体的効果
以上述べたように、本発明は、ポリマーを良溶
媒に溶解し、基材上に一定の厚さに流延した後、
貧溶媒中で凝固させる多孔質膜の製造方法におい
て、貧溶媒としてフツ化炭化水素類を用いること
を特徴とする多孔質膜の製造方法および同製造方
法において、貧溶媒としてフツ化炭化水素類を用
い、また凝固過程でフツ化炭化水素類中に混入し
た良溶媒を水抽出法により除去し、フツ化炭化水
素類をくり返し使用することを特徴とする多孔質
膜の製造方法であるから、多孔質膜の乾燥工程を
従来法とは異なり加熱処理等を必要とせずかつ短
時間で完了できる。また、貧溶媒として難燃性の
フツ化炭化水素類を使用するので、従来のように
貧溶媒としてアルコールを用いるものと比較して
安全性が高くまたは防爆構造などの特別な配慮も
不要となる。さらに第２発明においては、貧溶媒
を水抽出法により簡単に精製できるために、従来
蒸留分別により精製していたものと比較して、製
造工程を短縮化でき、またコスト的にも安価とな
る。
媒に溶解し、基材上に一定の厚さに流延した後、
貧溶媒中で凝固させる多孔質膜の製造方法におい
て、貧溶媒としてフツ化炭化水素類を用いること
を特徴とする多孔質膜の製造方法および同製造方
法において、貧溶媒としてフツ化炭化水素類を用
い、また凝固過程でフツ化炭化水素類中に混入し
た良溶媒を水抽出法により除去し、フツ化炭化水
素類をくり返し使用することを特徴とする多孔質
膜の製造方法であるから、多孔質膜の乾燥工程を
従来法とは異なり加熱処理等を必要とせずかつ短
時間で完了できる。また、貧溶媒として難燃性の
フツ化炭化水素類を使用するので、従来のように
貧溶媒としてアルコールを用いるものと比較して
安全性が高くまたは防爆構造などの特別な配慮も
不要となる。さらに第２発明においては、貧溶媒
を水抽出法により簡単に精製できるために、従来
蒸留分別により精製していたものと比較して、製
造工程を短縮化でき、またコスト的にも安価とな
る。
また本製造方法により得られる多孔質膜は、貧
溶媒として、トリクロロトリフルオロエタン、テ
トラクロロジフルオロエタン、ジブロモテトラフ
ルオロエタン、トリクロロモノフルオロメタンお
よびこれらの混合物からなる群から選ばれたいず
れかのフツ化炭化水素類を、またポリマーとして
フツ素系樹脂、より好ましくは、フツ化ビニリデ
ンホモポリマー、フツ化ビニリデンと他のモノマ
ーとのコポリマーおよびこれらのポリマーと他の
ポリマーとの配合物からなる群から選ばれたいず
れかのフツ素系樹脂を、さらに良溶媒としてジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメ
チルスルフオキシド、メチルエチルケトン、アセ
トン、テトラヒドロフランおよびこれらの混合物
からなる群から選ばれたいずれかのものを用いる
ものである場合、加えて基材として紙または混抄
紙を用いる場合、その膜性能はより優れたものと
なり、かつまた上記効果は一層顕著なものとな
る。
溶媒として、トリクロロトリフルオロエタン、テ
トラクロロジフルオロエタン、ジブロモテトラフ
ルオロエタン、トリクロロモノフルオロメタンお
よびこれらの混合物からなる群から選ばれたいず
れかのフツ化炭化水素類を、またポリマーとして
フツ素系樹脂、より好ましくは、フツ化ビニリデ
ンホモポリマー、フツ化ビニリデンと他のモノマ
ーとのコポリマーおよびこれらのポリマーと他の
ポリマーとの配合物からなる群から選ばれたいず
れかのフツ素系樹脂を、さらに良溶媒としてジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメ
チルスルフオキシド、メチルエチルケトン、アセ
トン、テトラヒドロフランおよびこれらの混合物
からなる群から選ばれたいずれかのものを用いる
ものである場合、加えて基材として紙または混抄
紙を用いる場合、その膜性能はより優れたものと
なり、かつまた上記効果は一層顕著なものとな
る。
第１図および第２図は本発明の多孔質膜の製造
方法の一実施態様において使用される製造装置の
概略図である。 ２……基材、５……ポリマー溶液、６……フツ
化炭化水素類、７……凝固浴、９……多孔質膜。
方法の一実施態様において使用される製造装置の
概略図である。 ２……基材、５……ポリマー溶液、６……フツ
化炭化水素類、７……凝固浴、９……多孔質膜。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ポリマーを良溶媒に溶解し、基材上に一定の
厚さに流延した後、貧溶媒中で凝固させる多孔質
膜の製造方法において、貧溶媒としてフツ化炭化
水素類を用いることを特徴とする多孔質膜の製造
方法。 ２ 貧溶媒として、トリクロロトリフルオロエタ
ン、テトロクロロジフルオロエタン、ジブロモテ
トラフルオロエタン、トリクロロモノフルオロメ
タンおよびこれらの混合物からなる群から選ばれ
たいずれかのフツ化炭化水素類を用いるものであ
る特許請求の範囲第１項に記載の多孔質膜の製造
方法。 ３ ポリマーとしてフツ素系樹脂を用いるもので
ある特許請求の範囲第１項または第２項に記載の
多孔質膜の製造方法。 ４ ポリマーとして、フツ化ビニリデンホモポリ
マー、フツ化ビニリデンと他のモノマーとのコポ
リマーおよびこれらのポリマーと他のポリマーと
の配合物からなる群から選ばれたいずれかのフツ
素系樹脂を用いるものである特許請求の範囲第１
項〜第３項のいずれか１つに記載の多孔質膜の製
造方法。 ５ 良溶媒として、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルフオキシド、メ
チルエチルケトン、アセトン、テトラヒドロフラ
ンおよびこれらの混合物からなる群から選ばれた
いずれかのものを用いるものである特許請求の範
囲第１項〜第４項のいずれか１つに記載の多孔質
膜の製造方法。 ６ 基材として、紙または混抄紙を用いることを
特徴とする特許請求の範囲第１項〜第５項のいず
れか１つに記載の多孔質膜の製造方法。 ７ ポリマーを良溶媒に溶解し、基材上に一定の
厚さに流延した後、貧溶媒中で凝固させる多孔質
膜の製造方法において、貧溶媒としてフツ化炭化
水素類を用い、また凝固過程でフツ化炭化水素類
中に混入した良溶媒を水抽出法により除去し、フ
ツ化炭化水素類をくり返し使用することを特徴と
する多孔質膜の製造方法。 ８ 貧溶媒として、トリクロロトリフルオロエタ
ン、テトラクロロジフルオロエタン、ジブロモテ
トラフルオロエタン、トリクロロモノフルオロメ
タンおよびこれらの混合物からなる群から選ばれ
たいずれかのフツ化炭化水素類を用いるものであ
る特許請求の範囲第７項に記載の多孔質膜の製造
方法。 ９ ポリマーとしてフツ素系樹脂を用いるもので
ある特許請求の範囲第７項または第８項に記載の
多孔質膜の製造方法。 １０ ポリマーとして、フツ化ビニリデンホモポ
リマー、フツ化ビニリデンと他のモノマーとのコ
ポリマーおよびこれらのポリマーと他のポリマー
との配合物からなる群から選ばれたいずれかのフ
ツ素系樹脂を用いるものである特許請求の範囲第
７項〜第９項のいずれか１つに記載の多孔質膜の
製造方法。 １１ 良溶媒として、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ジメチルスルフオキシド、
メチルエチルケトン、アセトン、テトラヒドロフ
ランおよびこれらの混合物からなる群から選ばれ
たいずれかのものを用いるものである特許請求の
範囲第７項〜第１０項のいずれか１つに記載の多
孔質膜の製造方法。 １１ 基材として、紙または混抄紙を用いること
を特徴とする特許請求の範囲第７項〜第１０項の
いずれか１つに記載の多孔質膜の製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60253641A JPS62115043A (ja) | 1985-11-14 | 1985-11-14 | 多孔質膜の製造方法 |
| US06/929,380 US4772440A (en) | 1985-11-14 | 1986-11-12 | Method for production of porous membrane |
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| CN86107857.8A CN1004679B (zh) | 1985-11-14 | 1986-11-14 | 多孔膜的生产方法 |
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|---|---|---|---|
| JP60253641A JPS62115043A (ja) | 1985-11-14 | 1985-11-14 | 多孔質膜の製造方法 |
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|---|---|
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-
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