JPH045257A - ジシクロペンタジエンアクリレートの製造方法 - Google Patents
ジシクロペンタジエンアクリレートの製造方法Info
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- JPH045257A JPH045257A JP2108098A JP10809890A JPH045257A JP H045257 A JPH045257 A JP H045257A JP 2108098 A JP2108098 A JP 2108098A JP 10809890 A JP10809890 A JP 10809890A JP H045257 A JPH045257 A JP H045257A
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- Japan
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- dicyclopentadiene
- reaction
- heteropolyacid
- acrylate
- dcpd
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、ジシクロペンタジェンアクリレートの製造方
法に関する。
法に関する。
本余明で得られるジシクロペンタジェンアクリレートは
、透明性、耐熱性、熱安定性、耐溶剤性、誘電特性等の
物理的、化学的特性に優れた新規なアクリレート系重合
体を製造するのに用いられる極めて有用な化学物質であ
る。
、透明性、耐熱性、熱安定性、耐溶剤性、誘電特性等の
物理的、化学的特性に優れた新規なアクリレート系重合
体を製造するのに用いられる極めて有用な化学物質であ
る。
その具体的用途としては、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂
、アクリル系塗料、アクリル系接着材の改質用途などが
挙げられる（例えば、特開昭６１−１５９４０８号公報
参照）。
、アクリル系塗料、アクリル系接着材の改質用途などが
挙げられる（例えば、特開昭６１−１５９４０８号公報
参照）。
（従来の技術）
カルボン酸とオレフィンとから酸触媒の存在下、酸付加
反応によりエステルを製造する方法は、以前から知られ
ている。例えば、三弗化ホウ素のエーテル錯体を触媒と
して用いる方法（ケミカル・アブストラクト６３−９０
５５頁（１９６６年））、弗素含有イオン交換樹脂を触
媒として用いる方法（特開昭５．６−５９７３６号）が
ある。
反応によりエステルを製造する方法は、以前から知られ
ている。例えば、三弗化ホウ素のエーテル錯体を触媒と
して用いる方法（ケミカル・アブストラクト６３−９０
５５頁（１９６６年））、弗素含有イオン交換樹脂を触
媒として用いる方法（特開昭５．６−５９７３６号）が
ある。
しかし、前者は、装置の腐食の問題があり、煩雑な後処
理を必要とし、後者は、ジシクロペンタジェン（以下、
ＤＣＰＤと略記することがある）に対して過剰量のアク
リル酸を必要とし、効率的でないという欠点があった。
理を必要とし、後者は、ジシクロペンタジェン（以下、
ＤＣＰＤと略記することがある）に対して過剰量のアク
リル酸を必要とし、効率的でないという欠点があった。
これに対して、特開昭５６−４０６４４号に開示されて
いる、ヘテロポリ酸を触媒として用いる方法では、上記
の装置の腐食および反応の非効率性は改善される。
いる、ヘテロポリ酸を触媒として用いる方法では、上記
の装置の腐食および反応の非効率性は改善される。
（発明か解決しようとする課題）
ところで特開昭５６−４０６４４号に記載の方法では、
相当量のジシクロベンテノール（以下ＤＣＰＩ）−０Ｈ
と略記する） が副生ずる。ＤＣＰＤ−ＯＨの混入は、ジシクロペンタ
ジェンアクリレートを上述のように樹脂の改質に用いる
場合、好ましくない。例えば、ＤＣＰＤ−ＯＨが混入し
ていることにより、樹脂板にアルミニウム蒸着をした場
合、蒸着強度が低下したり、樹脂の機械的強度及び耐熱
性が低下するという問題か生じる。
相当量のジシクロベンテノール（以下ＤＣＰＩ）−０Ｈ
と略記する） が副生ずる。ＤＣＰＤ−ＯＨの混入は、ジシクロペンタ
ジェンアクリレートを上述のように樹脂の改質に用いる
場合、好ましくない。例えば、ＤＣＰＤ−ＯＨが混入し
ていることにより、樹脂板にアルミニウム蒸着をした場
合、蒸着強度が低下したり、樹脂の機械的強度及び耐熱
性が低下するという問題か生じる。
そこでＤＣＰＤ−ＯＨを除去するために蒸留精製する必
要がある。しかし、ＤＣＰＤ−ＯＨとシンクロペンタジ
ェンアクリレートとは沸点が近接するために精密蒸留を
必要とし、蒸留時間か長くかかるためにＤＣＰＤ−ＯＨ
を含まないジシクロペンタジェンアクリレートの回収率
は低い。
要がある。しかし、ＤＣＰＤ−ＯＨとシンクロペンタジ
ェンアクリレートとは沸点が近接するために精密蒸留を
必要とし、蒸留時間か長くかかるためにＤＣＰＤ−ＯＨ
を含まないジシクロペンタジェンアクリレートの回収率
は低い。
また、溶媒抽出による精製法もある（特開平２−１７１
．４９号）か、精製工程自体、余計な工程である。
．４９号）か、精製工程自体、余計な工程である。
そこで本発明の目的は、ＤＣＰＤ−ＯＨを副生ずること
なく、従って精製することなく、ジシクロペンタジェン
とアクリル酸とから、純度の高いジシクロペンタジェン
アクリレートを製造する方法を提供することにある。
なく、従って精製することなく、ジシクロペンタジェン
とアクリル酸とから、純度の高いジシクロペンタジェン
アクリレートを製造する方法を提供することにある。
これとは別に、特開昭５６−４０６４４号に記載の方法
でのジシクロペンタジェン及びアクリル酸のジシクロペ
ンタジェンアクリレート生成の選択率は約８０％であり
、ＤＣＰＤ−ＯＨ以外の副生物の生成も多かった。
でのジシクロペンタジェン及びアクリル酸のジシクロペ
ンタジェンアクリレート生成の選択率は約８０％であり
、ＤＣＰＤ−ＯＨ以外の副生物の生成も多かった。
そこで本発明の別の目的は、ＤＣＰＤ−ＯＨ以外の副生
物の生成を抑制して、ジシクロペンタジェンアクリレー
ト生成の選択率を向上させ、結果トンて、ジシクロペン
タジェンアクリレート収率を高めた方法を提供すること
にある。
物の生成を抑制して、ジシクロペンタジェンアクリレー
ト生成の選択率を向上させ、結果トンて、ジシクロペン
タジェンアクリレート収率を高めた方法を提供すること
にある。
（課題を解決するための手段）
本発明は、ジシクロペンタジェンとアクリル酸との反応
用触媒として、物理吸着水を除去したヘテロポリ酸又は
その酸性塩を用いることにより、上記目的を達成した。
用触媒として、物理吸着水を除去したヘテロポリ酸又は
その酸性塩を用いることにより、上記目的を達成した。
以下本発明について詳説する。
本発明においてへテロポリ酸は、通常知られたものであ
り、ヘテロポリ酸のとる構造についても特に限定はない
。すなわち、必ずしもケギン（Ｋｅｇｇｉｎ）構造をと
るヘテロポリ酸である必要はなく、ドーンン（Ｄａｔｖ
ｓｏｎ ）型、シルバートン（５ｉｌｖｅｒｔｏｎ）型
、つｔ −（Ｗａｕｇｈ）型等の構造をもつものであっ
てよい。
り、ヘテロポリ酸のとる構造についても特に限定はない
。すなわち、必ずしもケギン（Ｋｅｇｇｉｎ）構造をと
るヘテロポリ酸である必要はなく、ドーンン（Ｄａｔｖ
ｓｏｎ ）型、シルバートン（５ｉｌｖｅｒｔｏｎ）型
、つｔ −（Ｗａｕｇｈ）型等の構造をもつものであっ
てよい。
ヘテロポリ酸を構成しているポリ原子についても特に限
定はないが、少なくともポリ原子の一部がタングステン
であるヘテロポリ酸が、酸度が高く、高活性であるとい
う観点から好ましい。
定はないが、少なくともポリ原子の一部がタングステン
であるヘテロポリ酸が、酸度が高く、高活性であるとい
う観点から好ましい。
具体的には、Ｈ３ＰＷ１２０４０ 、 Ｈ＋ＳｉＷ＋□
Ｏｔｏ、Ｈ３ＰＷ１２−ｎＭＯｎｏｌｏ、 Ｈ４ＰＷｌ
ｉ−ｎＭＯｎＯｔｌ （１２＞ ｎ ＞ １の整数）等
か挙げられる。
Ｏｔｏ、Ｈ３ＰＷ１２−ｎＭＯｎｏｌｏ、 Ｈ４ＰＷｌ
ｉ−ｎＭＯｎＯｔｌ （１２＞ ｎ ＞ １の整数）等
か挙げられる。
また、ヘテロポリ酸は、′塩であってもよく金属塩およ
びオニウム塩が挙げられる。但し、ヘテロポリ酸塩は、
酸触媒としての活性を有する必要かあるため、酸性塩で
ある。具体的には、ＮａＨ２［ＰＷ１２０４０］ 、Ｋ
Ｈ２［ＰＷ１２０４０］１等のアルカリ金属塩、ＣａＨ
４［ＰＷ１２０４０］ ２ 、ＭｇＨ２１１ＰＷｌ！０
４０］等のアルカリ金属塩、Ｎｌ８４ ［ＰＷ１２０４
０］ ２、ＣｏＩ２ ［ＰＷ１２０４０１２ 、ＭｎＯ
２［ＰＷｌ１０４［］ Ｈ８の繊維金属塩、（ＲＩＲ２
Ｒ３Ｒ４Ｎ）Ｈ２［ＰＷ１＋０４ｏ］（Ｒ１，Ｒ２、Ｒ
３、Ｒ４は、Ｈまたはアルキル基を表わす。）で表わさ
れるアンモニウム塩、（ＲＩＲ２Ｒ３Ｒ４Ｐ）Ｈ２［Ｐ
Ｗ１２０４ｏ］（Ｒ，、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は、アルキル
基を表わす。）で表わされるホスホニウム塩等か挙げら
れるがこれに限定されるものではない。
びオニウム塩が挙げられる。但し、ヘテロポリ酸塩は、
酸触媒としての活性を有する必要かあるため、酸性塩で
ある。具体的には、ＮａＨ２［ＰＷ１２０４０］ 、Ｋ
Ｈ２［ＰＷ１２０４０］１等のアルカリ金属塩、ＣａＨ
４［ＰＷ１２０４０］ ２ 、ＭｇＨ２１１ＰＷｌ！０
４０］等のアルカリ金属塩、Ｎｌ８４ ［ＰＷ１２０４
０］ ２、ＣｏＩ２ ［ＰＷ１２０４０１２ 、ＭｎＯ
２［ＰＷｌ１０４［］ Ｈ８の繊維金属塩、（ＲＩＲ２
Ｒ３Ｒ４Ｎ）Ｈ２［ＰＷ１＋０４ｏ］（Ｒ１，Ｒ２、Ｒ
３、Ｒ４は、Ｈまたはアルキル基を表わす。）で表わさ
れるアンモニウム塩、（ＲＩＲ２Ｒ３Ｒ４Ｐ）Ｈ２［Ｐ
Ｗ１２０４ｏ］（Ｒ，、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は、アルキル
基を表わす。）で表わされるホスホニウム塩等か挙げら
れるがこれに限定されるものではない。
ヘテロポリ酸の酸性塩は、水溶液中で金属またはオニウ
ムのハロゲン塩、炭酸塩、酢酸塩、硫酸塩と反応させ、
沈澱または蒸発乾固させることにより得ることができる
。
ムのハロゲン塩、炭酸塩、酢酸塩、硫酸塩と反応させ、
沈澱または蒸発乾固させることにより得ることができる
。
本発明において触媒として用いるヘテロポリ酸又はその
酸性塩は物理吸着水を有さないものである。ヘテロポリ
酸は潮解性を有し、一般に多量の物理吸着水を有する。
酸性塩は物理吸着水を有さないものである。ヘテロポリ
酸は潮解性を有し、一般に多量の物理吸着水を有する。
ジシクロペンタジェンとアクリル酸からジシクロペンタ
ジェンアクリレートを製造する際には、この物理吸着水
を除去したヘテロポリ酸又はその酸性塩を用いることで
ＤＣＰＤ −０）１等の副生を抑制できる。ヘテロポリ
酸の物理吸着水の除去は、例えば常圧では８０°Ｃ以上
に加熱することにより行うことができる。この温度は、
ヘテロポリ酸及び酸性塩の種類により異なるが、熱分析
をすることにより容易に求めることができる。又、ヘテ
ロポリ酸は、多量の結晶水も有する。
ジェンアクリレートを製造する際には、この物理吸着水
を除去したヘテロポリ酸又はその酸性塩を用いることで
ＤＣＰＤ −０）１等の副生を抑制できる。ヘテロポリ
酸の物理吸着水の除去は、例えば常圧では８０°Ｃ以上
に加熱することにより行うことができる。この温度は、
ヘテロポリ酸及び酸性塩の種類により異なるが、熱分析
をすることにより容易に求めることができる。又、ヘテ
ロポリ酸は、多量の結晶水も有する。
例えばＨ３ＰＷＩ２０４ｏでは、１ユニツト当たり最大
２９コの結晶水を有する。そして加熱条件によっては物
理吸着水に次いで結晶水も離脱することがある。ジシク
ロペンタジェン及びアクリル酸の転化率並びにジシクロ
ペンタジェンアクリレートの選択率を考慮すると結晶水
の数が、ヘテロポリ酸１ユニツト当たり１〜２０コ、好
ましくは３〜１０コであることか特に好ましい。結晶水
の数と加熱処理条件との関係は、熱分析を行うことによ
り求めることができる。例えばＨ３ＰＷ、□Ｏ１゜の場
合、常圧で約１５０〜３００°Ｃ１好ましくは２００〜
３００℃で加熱することにより所望の数の結晶水を有す
るＨ３ＰＷ、□０４ｏを得ることができる。
２９コの結晶水を有する。そして加熱条件によっては物
理吸着水に次いで結晶水も離脱することがある。ジシク
ロペンタジェン及びアクリル酸の転化率並びにジシクロ
ペンタジェンアクリレートの選択率を考慮すると結晶水
の数が、ヘテロポリ酸１ユニツト当たり１〜２０コ、好
ましくは３〜１０コであることか特に好ましい。結晶水
の数と加熱処理条件との関係は、熱分析を行うことによ
り求めることができる。例えばＨ３ＰＷ、□Ｏ１゜の場
合、常圧で約１５０〜３００°Ｃ１好ましくは２００〜
３００℃で加熱することにより所望の数の結晶水を有す
るＨ３ＰＷ、□０４ｏを得ることができる。
尚、上記加熱脱水処理は、減圧下でも行うことができ、
但し、加熱温度は、減圧度に応じて、常圧の場合よりも
低くすることができる。
但し、加熱温度は、減圧度に応じて、常圧の場合よりも
低くすることができる。
また、ヘテロポリ酸の酸性塩は、反応の前に、脱水処理
されたヘテロポリ酸と、金属又はオニウムのハロゲン塩
、炭酸塩、酢酸塩又は硫酸塩とを反応系内へ導入するこ
とにより形成させることもできる。
されたヘテロポリ酸と、金属又はオニウムのハロゲン塩
、炭酸塩、酢酸塩又は硫酸塩とを反応系内へ導入するこ
とにより形成させることもできる。
触媒の使用量は、ジシクロペンタジェンとアクリル酸の
合計重量に対して０．５〜Ｓｗｔ％が好ましく、１〜３
ｗｔ％とすることが特に好ましい。この使用範囲を越え
て多量に使用すると、ジシクロペンタジェンのカチオン
重合が促進することかあり、好ましくない。
合計重量に対して０．５〜Ｓｗｔ％が好ましく、１〜３
ｗｔ％とすることが特に好ましい。この使用範囲を越え
て多量に使用すると、ジシクロペンタジェンのカチオン
重合が促進することかあり、好ましくない。
反応温度は、４０°Ｃ〜９０℃、好ましくは６０〜８０
°Ｃの範囲か好ましい。４０’Ｃ未満では反応を十分に
進行させるのに長時間を要することになる。マタ、１０
０°Ｃ以上では、オレフィンのカチオン重合および生成
したアクリレートの重合が促進されるので好ましくない
。反応時間は、通常２〜ＩＯ時間の範囲とすることが適
当である。
°Ｃの範囲か好ましい。４０’Ｃ未満では反応を十分に
進行させるのに長時間を要することになる。マタ、１０
０°Ｃ以上では、オレフィンのカチオン重合および生成
したアクリレートの重合が促進されるので好ましくない
。反応時間は、通常２〜ＩＯ時間の範囲とすることが適
当である。
本発明の方法においては、溶媒は特に必要としない。又
、使用できる溶媒には特に限定はなく、例えば芳香族炭
化水素を挙げることかできる。
、使用できる溶媒には特に限定はなく、例えば芳香族炭
化水素を挙げることかできる。
アクリル酸の使用量は、特に限定されないがジシクロペ
ンタジェン１に対してモル比で（１，５〜１．５、好ま
しくは０．８〜１．０とすることが適当である。
ンタジェン１に対してモル比で（１，５〜１．５、好ま
しくは０．８〜１．０とすることが適当である。
使用されるジシクロペンタジェン及びアクリル酸ならひ
に生成するエステルは、熱的に不安定な物質であるため
重合禁止剤を添加して反応を行うのが好ましい。重合禁
止剤としては、ヒドロキノン、メトキシフェノール、カ
テコール類、フェノチアジン、ナフトール類等が挙げら
れる。その使用量は、反応基質の合計重量に対して１０
０〜５０００ ｐｐｍか好ましい。この範囲以上の添加
は、反応液の着色および触媒活性の劣化か著しくなるの
で好ましくなく、この範囲以下の添加では効果かでない
。
に生成するエステルは、熱的に不安定な物質であるため
重合禁止剤を添加して反応を行うのが好ましい。重合禁
止剤としては、ヒドロキノン、メトキシフェノール、カ
テコール類、フェノチアジン、ナフトール類等が挙げら
れる。その使用量は、反応基質の合計重量に対して１０
０〜５０００ ｐｐｍか好ましい。この範囲以上の添加
は、反応液の着色および触媒活性の劣化か著しくなるの
で好ましくなく、この範囲以下の添加では効果かでない
。
反応手法は、バッチ式でも連続式でも実施されるがバッ
チ式が好ましい。バッチ式の場合は、触媒、アクリル酸
、重合禁止剤を仕込んだ系にジシクロペンタジェンを滴
下するのか好ましい。
チ式が好ましい。バッチ式の場合は、触媒、アクリル酸
、重合禁止剤を仕込んだ系にジシクロペンタジェンを滴
下するのか好ましい。
反応は、常圧下またはオートクレーブ中で加圧下で行う
ことができる。
ことができる。
反応終了後は、反応液容量に対して５〜１０倍量のノル
マルヘキサンに投入し、重合物を沈澱濾過する。回収さ
れるる液は、純水で洗浄後、１０ｗｔ％チオ硫酸水溶液
、および５ｗｔ％炭酸水素ナトリウム水溶液等のアルカ
リ水溶液で洗浄、さらに純水で洗浄した後、低沸点成分
を減圧除去することにより高純度の粗製品が高収率で回
収される。
マルヘキサンに投入し、重合物を沈澱濾過する。回収さ
れるる液は、純水で洗浄後、１０ｗｔ％チオ硫酸水溶液
、および５ｗｔ％炭酸水素ナトリウム水溶液等のアルカ
リ水溶液で洗浄、さらに純水で洗浄した後、低沸点成分
を減圧除去することにより高純度の粗製品が高収率で回
収される。
さらに必要であれば、減圧蒸留することにより更に高純
度の製品を回収することができる。
度の製品を回収することができる。
得られるエステルは、非常に重合性か高いためできるか
ぎり短時間で蒸留を行うことが好ましく、薄膜蒸留等の
方法を用いることが好ましい。この際、重合禁止剤を添
加して行うのかよい。重合禁止剤としては、ターシャリ
ブチルカテコール、Ｎニトロソフェニルアミン、Ｎ−ニ
トロソヒドロキシルアミン塩、フェノチアジン、ジ−β
−ナフトール、Ｎ、Ｎ−ジ−β−ナフチル−Ｐ−フェニ
レンジアミン等が挙げられ、これらの単独または２種以
上の併用がよい。
ぎり短時間で蒸留を行うことが好ましく、薄膜蒸留等の
方法を用いることが好ましい。この際、重合禁止剤を添
加して行うのかよい。重合禁止剤としては、ターシャリ
ブチルカテコール、Ｎニトロソフェニルアミン、Ｎ−ニ
トロソヒドロキシルアミン塩、フェノチアジン、ジ−β
−ナフトール、Ｎ、Ｎ−ジ−β−ナフチル−Ｐ−フェニ
レンジアミン等が挙げられ、これらの単独または２種以
上の併用がよい。
以上の本発明の方法により、一般式（Ｉ）で表わされる
アクリレートを高収率で得ることができる。尚、一般式
（Ｉ）のアクリレートは、具体的には、以下の化合物で
ある。
アクリレートを高収率で得ることができる。尚、一般式
（Ｉ）のアクリレートは、具体的には、以下の化合物で
ある。
（発明の効果）
本発明によれば、ＤＣＰＤ−ＯＨを副生させず、かつ、
ＤＣＰＤ−ＯＨ以外の副生物の生成も抑制して高い選択
率でジシクロペンタジェンアクリレートを合成でき、そ
の結果高純度のジシクロペンタジェンを容易にかつ高収
率で製造することかできる。
ＤＣＰＤ−ＯＨ以外の副生物の生成も抑制して高い選択
率でジシクロペンタジェンアクリレートを合成でき、そ
の結果高純度のジシクロペンタジェンを容易にかつ高収
率で製造することかできる。
（実施例）
以下に実施例を示し本発明の効果を具体的に説明するが
、本発明はこれに限定されるものではない。
、本発明はこれに限定されるものではない。
実施例１
冷却装置は、撹拌器、温度計および１００７ｎｌの四つ
ロフラスコにアクリル酸２４ ｇ （０，３３ｍｏｌ）
、ハイドロキノン０．０３ ｇ、触媒としてＨ３［ＰＷ
１２０４゜０６７ｇを空気中で３００°Ｃで２時間加熱
処理したのち加え、７０°ＣでＤＣＰＤ （ジシクロペ
ンタジェン） ４４ ｇ （０，３３ｍｏｊ２ ）を
１時間かけて滴下した。
ロフラスコにアクリル酸２４ ｇ （０，３３ｍｏｌ）
、ハイドロキノン０．０３ ｇ、触媒としてＨ３［ＰＷ
１２０４゜０６７ｇを空気中で３００°Ｃで２時間加熱
処理したのち加え、７０°ＣでＤＣＰＤ （ジシクロペ
ンタジェン） ４４ ｇ （０，３３ｍｏｊ２ ）を
１時間かけて滴下した。
滴下終了後、更に２時間反応させた。冷却後、反応粗液
をｎ−ヘキサン中に投入し、重合物を沈澱ろ過した。ろ
液を回収し、５ｗｔ％Ｎａ２ＣＯ３水溶液で１回、純水
で２回洗浄した後、ｎ−ヘキサンおよび低沸点留分を減
圧除去し、粗製品を回収した。
をｎ−ヘキサン中に投入し、重合物を沈澱ろ過した。ろ
液を回収し、５ｗｔ％Ｎａ２ＣＯ３水溶液で１回、純水
で２回洗浄した後、ｎ−ヘキサンおよび低沸点留分を減
圧除去し、粗製品を回収した。
反応終了後の反応粗液および粗製品のガスクロマトグラ
フィによる分析により収率、転化率および選択率を求め
た。その結果を表１に示す。
フィによる分析により収率、転化率および選択率を求め
た。その結果を表１に示す。
実施例２
使用したヘテロポリ酸がＨ４Ｓ！ＷＢ０４ｏであること
以外は実施例１と同様の方法により反応を行なった。そ
の結果を表１に示す。
以外は実施例１と同様の方法により反応を行なった。そ
の結果を表１に示す。
実施例３
使用したヘテロポリ酸がＨ，ＰＷｌ１ＭＯＯ４０である
こと以外は実施例１と同様の方法により反応を行なった
。その結果を表１に示す。
こと以外は実施例１と同様の方法により反応を行なった
。その結果を表１に示す。
実施例４〜６
使用する触媒かへテロポリ酸の銅塩であり、その調製時
において異なる銅塩を使用して反応を行った。結果を表
１に示す。
において異なる銅塩を使用して反応を行った。結果を表
１に示す。
Ｃｕは、ヘテロポリ酸のケギンユニットあたり存在する
３つのＨのうち１つに対応する量を転化して塩を調製し
た。
３つのＨのうち１つに対応する量を転化して塩を調製し
た。
反応方法については、実施例１と同様の方法を行なった
。
。
実施例７〜８
ヘテロポリ酸の熱処理温度を２５０８Ｃ（実施例７）及
び１２０℃（実施例８）にした以外は実施例１と同様に
反応を行なった。反応条件及び結果を表１に示す。
び１２０℃（実施例８）にした以外は実施例１と同様に
反応を行なった。反応条件及び結果を表１に示す。
比較例１〜２
加熱処理をしていないヘテロポリ酸を触媒として用で反
応を行った。結果および反応条件を表１に示す。
応を行った。結果および反応条件を表１に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ジシクロペンタジエンとアクリル酸とを、物理吸着水を
有さないヘテロポリ酸又はその酸性塩の存在下、反応さ
せて一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） で表わされるジシクロペンタジエンアクリレートを製造
する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2108098A JPH045257A (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | ジシクロペンタジエンアクリレートの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2108098A JPH045257A (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | ジシクロペンタジエンアクリレートの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH045257A true JPH045257A (ja) | 1992-01-09 |
Family
ID=14475827
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2108098A Pending JPH045257A (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | ジシクロペンタジエンアクリレートの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH045257A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4953191A (en) * | 1989-07-24 | 1990-08-28 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | High intensity x-ray source using liquid gallium target |
| CN103664598A (zh) * | 2012-09-25 | 2014-03-26 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种丙烯酸双环戊烯酯的制备方法 |
| CN103980114A (zh) * | 2014-04-14 | 2014-08-13 | 武汉强丰新特科技有限公司 | 一种丙烯酸双环戊二烯酯的制备方法 |
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1990
- 1990-04-24 JP JP2108098A patent/JPH045257A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4953191A (en) * | 1989-07-24 | 1990-08-28 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | High intensity x-ray source using liquid gallium target |
| CN103664598A (zh) * | 2012-09-25 | 2014-03-26 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种丙烯酸双环戊烯酯的制备方法 |
| CN103980114A (zh) * | 2014-04-14 | 2014-08-13 | 武汉强丰新特科技有限公司 | 一种丙烯酸双环戊二烯酯的制备方法 |
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