JPH0452653A - 電子写真用感光体の光感度評価方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、機能分離型の積層型電子写真用感光体の光
感度評価方法に関する。

〔従来の技術〕

電子写真用感光体の光感度は、感光体表面を帯電させ、
波長既知の光で露光し、そのときの電位減衰量と露光量
とにより光電特性として評価される。

近年急速に普及してきているデジタル複写機光プリンタ
においては、露光光源として半導体レーザダイオード、
発光ダイオードなど比較的長波長光の光源が多用されて
いるが、これらの装置に用いられる感光体は、このよう
な比較的長波長の光に対して感度をもたせるために、そ
の層構成を比較的長波長領域に吸収ピークを有する電荷
発生物質からなる電荷発生層とその上に形成される電荷
輸送層との機能分離型の積層構造とするのが一般的であ
る。このような機能分離型の積層型感光体においても、
その光感度は従来の単層型感光体におけると同様に、完
成された感光体の光電特性で評価される。

〔発明が解決しようとする課題〕

機能分離型積層型感光体においては、光感度は主として
電荷発生層により決まる。従って、感光体の製造に際し
て、電荷発生層を形成した時点で光感度を評価すること
ができれば、その時点で情報をフィードバックして対策
をたてることができ、感度不良の感光体を製造する危険
性を大幅に低減することが可能となる。しかしながら、
電荷発生層を形成した段階では従来の光感度評価法では
、帯電位が数十ボルト程度にしかならないために、光感
度を評価することはできなかった。

この発明は、上述の点に鑑みてなされたものであって、
電荷発生層を形成した段階で、最終的に得られる感光体
の光感度を推定評価することができる方法を提供するこ
とを解決しようとする課題とする。

〔課題を解決するための手段〕

上記の課題は、この発明によれば、導電性基体上に少な
くとも電荷発生層、電荷輸送層をこの順に積層してなる
感光層を備えた電子写真用感光体の光感度を、その電子
写真用感光体の製造工程途上で、電荷発生層形成前に導
電性基体表面の光の反射率Ｒ，を測定し、電荷発生層形
成後にこの電荷発生層を介して導電性基体表面の光の反
射率Ｒ２を測定し、その差Ｒ，−Ｒ２の値により推定評
価することによって解決される。

反射率の測定には、実際に感光体の使用される電子写真
装置に用いられている露光光の波長に近い光を用いると
実使用上好適である。

〔作用〕

感光体の光感度は電荷発生層における光の吸収量に左右
され、光の吸収量が多い稈元感度は良くなる。従って、
光電特性のかわりに光の吸収量を測定することにより光
感度を推定評価することが可能であるが、製造工程途上
で電荷発生層の光吸収量を測定することは難しい。

本発明者らは、電荷発生層形成前の導電性基体表面の光
の反射率Ｒ１と、電荷発生層形成後この電荷発生層を介
しての導電性基体表面の光の反射率Ｒ２との差Ｒ，−Ｒ
２の値（電荷発生層を光が通過し吸収されることに起因
する差）と電荷発生層における光の吸収量との関係に着
目し、この差を測定して光感度を推定評価する方法を見
いだしたのである。

〔実施例〕

実施例１ 所要の寸法に加工されたアルミニウム合金円筒の外表面
を研磨テープにより表面粗さ０．８μｍに粗面加工し洗
浄を施して導電性基体とした。この基体表面に波長７８
０ｎｍの光を照射して反射率を測定したところ９０％で
あった。続いて、これらの基体上にフタロンアニン系材
料を電荷発生物質とする電荷発生層を塗布形成した。電
荷発生層膜厚をＱ、ｌｕｍ、　Ｏ，，２μｍ、　０．３
μｍ、　０．４ｕｒｎ、　０．５μｍと変化させたもの
について、それぞれ電荷発生層を介して基体表面に同様
に波長７８０ｎｍの光を照射して反射率を測定し、電荷
発生層を形成する前の基体表面の反射率（９（）％）と
の差を求めたところ、それぞれ２５％、３８％、５１％
、６１％１７１％であった。

次に、これら電荷発生層上にそれぞれ電荷輸送層を塗布
形成して感光体を作製した。

このようにして得られた感光体の光感度を従来の光電特
性による方法で評価したところ、電荷発生層の膜厚０．
１μｍ、０．２μｍ、０．３μｍ、０．４μｍ。

０．５μｍの感光体の順に、半減衰露光量で１．０μＪ
／ｃａｔ、　　０．７μＪ／ｃＪ、　　０．５μＪ／ｃ
ｌＩ！、　　０．４１μＪ／ａｎｔ。

０．３２μＪ　／　ｃｒｌであり、第１図に示すように
、前述の反射率差との間に、半減衰露光量が少なくなる
程、すなわち光感度が良くなる程反射率差が大きくなる
良好な対応が見られる。従って、この方法によれば、感
光体製造に際して、電荷発生層形成段階で最終的に得ら
れる感光体の光感度を推定評価することが可能となり、
製造工程上早い段階で光感度不良の発生を防ぐ対策をと
ることができ、感度不良の感光体を多量に製造してしま
う危険性を避けることができる。

実施例２ 所要の寸法に加工されたアルミニウム合金円筒の外表面
を旋盤により鏡面加工し、洗浄を施して導電性基体とし
た。基体の表面粗さは０．１μｍであった。この基体表
面の光反射率を実施例１と同様にして測定したところ９
５％であった。続いて、この基体上にフタロシアニン系
材料を電荷発生物質とする電荷発生層をデイツプ法で塗
布して電荷発生層を形成した。このとき、膜厚をばらつ
かせるために基体両端では塗布スピードを遅くした。こ
のようにして電荷発生層を形成した基体表面の光反射率
を基体軸方向ｌＱｍｍ間隔で実施例１と同様にして測定
し、各位置における電荷発生層形成前の反射率（９５％
）との差を求めたところ、第２図に示したパターンのよ
うにばらついていた。なお、測定時間は４２秒と短時間
であった。

この電荷発生層上に電荷輸送層を塗布形成して感光体と
し、プリンタ（ｉｉ光波長７８０ｎｍ）により印字を行
ったところ、第２図に示した反射率差パターンと同様の
印字パターンが反射率差の少ない位置が黒くなって現れ
た。

このような一つの感光体内の光感度のばらつきを従来の
光電特性による方法で調べるためには、感光体の長さを
電位測定プローブ幅で割った回数。

例えばＡ４用紙印字幅を２１０ｍｍとし電位測定プロー
ブ幅をｌ　Ｑｍｍとすると２１回の帯電・露光を繰り返
して測定しなければならず、非常に時間がかかっていた
が、上述の方法によれば約４０秒と短時間で感度ばらつ
きを調べることができ極めて有効である。

また、比較的長波長光に感度を有する感光体は機能分離
型積層型の構造であるために、露光時多重干渉が生じ、
印字品質を低下させることがあるが、このような干渉を
調べることは感度ばらつきを調べることと同じであり、
干渉の発生状況を事前に調べる方法としても上述の方法
は非常に有効である。

〔発明の効果〕

この発明によれば、導電性基体上に少なくとも電荷発生
層、電荷輸送層をこの順に積層してなる感光層を備えた
感光体の光感度を、製造工程途上で導電性基体表面の光
反射率を電荷発生層形成前後で測定し、両者の差により
推定評価する。

この発明の方法によれば、感光体の製造に際して、導電
性基体上に電荷発生層を形成した段階で最終的に得られ
る感光体の光感度を推定評価することができ、製造工程
上早い段階で情報をフィードバックして対策をたて、光
感度不良の感光体を多量に製造してしすう危険性を避け
ることが可能となる。また、一つの感光体内の光感度ば
らつき。

あるいは干渉の発生状況を容易に調べることができる利
点があり、得られる効果は極めて大きい。

【図面の簡単な説明】

第１図は導電性基体表面の電荷発生層形成前後の光の反
射率の差と感光体の半減衰露光量との関係の一例を示す
線図、第２図は一つの感光体内の基体円筒軸方向での反
射率差のばらつきの一例を半減衰露光量＜ｐＪ／ｃｍ”
） 第　　１　区 基体円筒軸方向位置（ｍｍ） 第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １）導電性基体上に少なくとも電荷発生層、電荷輸送層
   をこの順に積層してなる感光層を備えた電子写真用感光
   体の光感度を、その電子写真用感光体の製造工程途上で
   、電荷発生層形成前に導電性基体表面の光の反射率Ｒ＿
   １を測定し、電荷発生層形成後にこの電荷発生層を介し
   た導電性基体表面の光の反射率Ｒ２を測定し、その差Ｒ
   ＿１−Ｒ＿２の値により推定評価することを特徴とする
   電子写真用感光体の光感度評価方法。