JPH0453110B2 - - Google Patents
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- JPH0453110B2 JPH0453110B2 JP60137261A JP13726185A JPH0453110B2 JP H0453110 B2 JPH0453110 B2 JP H0453110B2 JP 60137261 A JP60137261 A JP 60137261A JP 13726185 A JP13726185 A JP 13726185A JP H0453110 B2 JPH0453110 B2 JP H0453110B2
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- Bipolar Transistors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高周波特性に優れたバイポーラトラン
ジスタの製造方法に関するものである。
ジスタの製造方法に関するものである。
従来の技術
従来のバイポーラトランジスタの代表的構造を
第５図に示す。図において、１２はｎ型シリコン
基板、１３はエピタキシヤル成長によつてその上
に設けられたｎ＋型コレクタ、１４は拡散によつ
て設けられたｐ型ベース、１５は拡散または合金
によつて設けられたｎ型エミツタ、１６はコレク
タ電極、１７はベース電極、１８はエミツタ電極
である。
第５図に示す。図において、１２はｎ型シリコン
基板、１３はエピタキシヤル成長によつてその上
に設けられたｎ＋型コレクタ、１４は拡散によつ
て設けられたｐ型ベース、１５は拡散または合金
によつて設けられたｎ型エミツタ、１６はコレク
タ電極、１７はベース電極、１８はエミツタ電極
である。
これはnpnトランジスタであるが、pnpトラン
ジスタでも同様に構成することができる。
ジスタでも同様に構成することができる。
この例は同一の半導体材料すなわちシリコンを
用いて、エミツタ、ベース、コレクタを形成して
いる。
用いて、エミツタ、ベース、コレクタを形成して
いる。
ところで、エミツタをベースよりも禁制帯エネ
ルギー幅の大きい半導体を用いて形成（ヘテロ接
合バイポーラトランジスタ）すると、非常に高い
電流利得の得られることが知られている。これは
材料を適当に選ぶことにより、エミツタ−ベース
接合部のバンド構造を、電子に対してはあまり障
壁にならず、ホールに対して大きな障壁となるよ
うに構成できることによる。その代表的な例は、
エミツタにAlxGa1-xAsを、ベースとコレクタに
GaAsを用いたものである。
ルギー幅の大きい半導体を用いて形成（ヘテロ接
合バイポーラトランジスタ）すると、非常に高い
電流利得の得られることが知られている。これは
材料を適当に選ぶことにより、エミツタ−ベース
接合部のバンド構造を、電子に対してはあまり障
壁にならず、ホールに対して大きな障壁となるよ
うに構成できることによる。その代表的な例は、
エミツタにAlxGa1-xAsを、ベースとコレクタに
GaAsを用いたものである。
更にこのような構造とすることにより、高周波
特性がいちじるしく改善されることが知られてい
る。バイポーラトランジスタの最大遮断周波数
Fcは Fc＝√１（8） (1) Rb；ベース抵抗 Cc；コレクタ容量 であらわされる。エミツタをベースよりも禁制帯
エネルギーの大きい半導体を用いて形成すると、
前述の如く、材料を適当に選ぶことにより、エミ
ツタ−ベース接合部のバンド構造を、電子に対し
てはあまり障壁にならず、ホールに対して大きな
障壁となるように構成できる。そのため、ベース
のキヤリア濃度（ホール濃度）を非常に高くする
ことができる。したがつて、ベース抵抗を極端に
小さくすることができ、その結果として最大遮断
周波数Fcの非常に大きな値が得られるものであ
る。しかしｐ型ベース層とｎ型コレクタ層との接
合面積が大きくコレクタ容量が大きいため、(1)式
からわかるように高周波特性の充分優れたものが
得られなかつた。
特性がいちじるしく改善されることが知られてい
る。バイポーラトランジスタの最大遮断周波数
Fcは Fc＝√１（8） (1) Rb；ベース抵抗 Cc；コレクタ容量 であらわされる。エミツタをベースよりも禁制帯
エネルギーの大きい半導体を用いて形成すると、
前述の如く、材料を適当に選ぶことにより、エミ
ツタ−ベース接合部のバンド構造を、電子に対し
てはあまり障壁にならず、ホールに対して大きな
障壁となるように構成できる。そのため、ベース
のキヤリア濃度（ホール濃度）を非常に高くする
ことができる。したがつて、ベース抵抗を極端に
小さくすることができ、その結果として最大遮断
周波数Fcの非常に大きな値が得られるものであ
る。しかしｐ型ベース層とｎ型コレクタ層との接
合面積が大きくコレクタ容量が大きいため、(1)式
からわかるように高周波特性の充分優れたものが
得られなかつた。
発明が解決しようとする問題点
このような従来の構成では、コレクタ容量の小
さい素子を得ることが困難であり、高周波特性の
充分優れたものが得られない。
さい素子を得ることが困難であり、高周波特性の
充分優れたものが得られない。
本発明はかかる点に鑑みなされたもので、コレ
クタ容量の小さい構造を提供することを目的とし
ている。
クタ容量の小さい構造を提供することを目的とし
ている。
問題点を解決するための手段
本発明は上記問題点を解決するため、あらかじ
め半絶縁性半導体層を形成したのち、エツチング
によつて該半絶縁性半導体層の一部を除去し、そ
の上にベース層およびエミツタ層を分子線エピタ
キシーなどのエピタキシヤル成長技術を用いて再
成長させることによつて、コレクタ容量の小さい
構造を提供するものである。
め半絶縁性半導体層を形成したのち、エツチング
によつて該半絶縁性半導体層の一部を除去し、そ
の上にベース層およびエミツタ層を分子線エピタ
キシーなどのエピタキシヤル成長技術を用いて再
成長させることによつて、コレクタ容量の小さい
構造を提供するものである。
作 用
本発明は上記した構造により、コレクタ容量が
小さいので高周波特性が改善される。
小さいので高周波特性が改善される。
実施例
第１図は本発明の構造の一実施例を示したもの
である。第１図において、１は半絶縁性GaAs基
板、２はｎ＋型GaAsコレクタ１層（電極取り出
し層）、３はｎ型GaAsコレクタ２層、４はAly
Ga1-yAs（ｙ＝0.3）半絶縁性半導体層、５はｐ型
GaAsベース層、６はｎ型AlxGa1-xAs（0.3）エミ
ツタ１層、７はｎ＋型GaAsエミツタ２層（電極
取り出し層）、８はコレクタ電極、９はベース電
極、１０はエミツタ電極である。
である。第１図において、１は半絶縁性GaAs基
板、２はｎ＋型GaAsコレクタ１層（電極取り出
し層）、３はｎ型GaAsコレクタ２層、４はAly
Ga1-yAs（ｙ＝0.3）半絶縁性半導体層、５はｐ型
GaAsベース層、６はｎ型AlxGa1-xAs（0.3）エミ
ツタ１層、７はｎ＋型GaAsエミツタ２層（電極
取り出し層）、８はコレクタ電極、９はベース電
極、１０はエミツタ電極である。
各層の厚みは、１の半絶縁性GaAs基板が400μ
ｍ、２のｎ＋型GaAsコレクタ１層が4000Å、３
のｎ型GaAsコレクタ２層が2000Å、４のAly
Ga1-yAs半絶縁性半導体層が2000Å、５のｐ型
GaAsベース層が1000Å、６のｎ型AlxGa1-xAsエ
ミツタ１層は1500Å、７の電極取り出し用ｎ＋型
GaAsエミツタ２層は1500Åである。２〜７の各
層は、分子線エピタキシー（MBE）によつて形
成された。
ｍ、２のｎ＋型GaAsコレクタ１層が4000Å、３
のｎ型GaAsコレクタ２層が2000Å、４のAly
Ga1-yAs半絶縁性半導体層が2000Å、５のｐ型
GaAsベース層が1000Å、６のｎ型AlxGa1-xAsエ
ミツタ１層は1500Å、７の電極取り出し用ｎ＋型
GaAsエミツタ２層は1500Åである。２〜７の各
層は、分子線エピタキシー（MBE）によつて形
成された。
次に本実施例の素子の製造方法について述べ
る。第２図に示すように、まず１の半絶縁性
GaAs基板の上に分子線エピタキシーにより、２
〜４の各層を所定の厚みに形成した。次に通常の
ホトリソグラフイー法によりレジストマスクを形
成し、このレジストマスクによつて、第３図に示
すように、４のAlyGa1-yAs半絶縁性半導体層の
一部をエツチングして、３のコレクタ２層の一部
を露出させた。この場合エツチングは第３図の点
線で示したように、コレクタ層内まですすんでも
かまわない。AlyGa1-yAsのエツチングは、
H2SO4−H2O2−H2O混合液を用いて行なつた。
GaAs基板として、（001）を用いることにより、
〔110〕方向から見て第３図に示すような逆台形の
形にエツチング部を形成することができた。
る。第２図に示すように、まず１の半絶縁性
GaAs基板の上に分子線エピタキシーにより、２
〜４の各層を所定の厚みに形成した。次に通常の
ホトリソグラフイー法によりレジストマスクを形
成し、このレジストマスクによつて、第３図に示
すように、４のAlyGa1-yAs半絶縁性半導体層の
一部をエツチングして、３のコレクタ２層の一部
を露出させた。この場合エツチングは第３図の点
線で示したように、コレクタ層内まですすんでも
かまわない。AlyGa1-yAsのエツチングは、
H2SO4−H2O2−H2O混合液を用いて行なつた。
GaAs基板として、（001）を用いることにより、
〔110〕方向から見て第３図に示すような逆台形の
形にエツチング部を形成することができた。
次にレジストをアセトンで除去し、分子線エピ
タキシーにより、1000Åのｐ型GaAsベース層お
よび1500Åのｎ型AlxGa1-xAsエミツタ１層、
1500Åのｎ＋型GaAsエミツタ２層を第４図に示
すように再成長させた。
タキシーにより、1000Åのｐ型GaAsベース層お
よび1500Åのｎ型AlxGa1-xAsエミツタ１層、
1500Åのｎ＋型GaAsエミツタ２層を第４図に示
すように再成長させた。
次にホトリソグラフイー法によつて、該半絶縁
性半導体層のある部分の一部をH2SO4−H2O2−
H2O混合液を用いてエツチングし、ベース層お
よびコレクタ１層の一部を露出させた。
性半導体層のある部分の一部をH2SO4−H2O2−
H2O混合液を用いてエツチングし、ベース層お
よびコレクタ１層の一部を露出させた。
次に、レジスト部をアセトン除去し、通常のホ
トリソグラフイーおよび真空蒸着および熱処理技
術により、該半絶縁性半導体層のない部分に１０
のエミツタ電極を、露出させたベース、コレクタ
層に、それぞれ９，８のベース電極、コレクタ電
極を形成した。
トリソグラフイーおよび真空蒸着および熱処理技
術により、該半絶縁性半導体層のない部分に１０
のエミツタ電極を、露出させたベース、コレクタ
層に、それぞれ９，８のベース電極、コレクタ電
極を形成した。
本実施例の構造のコレクタ容量Ccは５と３の
pn接合部の接合容量と、４と３の接合部の接合
容量の和となる。
pn接合部の接合容量と、４と３の接合部の接合
容量の和となる。
一般にpn接合の容量Cpnは
ａ；接合部面積
ｑ；電荷
NA1；ｐ型半導体のアクセプタ濃度
ND2；ｎ型半導体のドナー濃度
ε1；ｐ型半導体の誘電率
ε2；ｎ型半導体の誘電率
Vb；バイアス電圧
で与えられる。
これより、アクセプタ濃度とドナー濃度の差が
大きい場合には、近似的にその大きさの小さい方
で決ることがわかる。本実施例のｐ型GaAsベー
ス層のアクセプタ濃度は１・1019／cm3、ｎ型
GaAsコレクタ層のドナー濃度は５・1017／cm3で
ある。したがつてコレクタ容量は近似的に Cpn∝√2 (3) となる。
大きい場合には、近似的にその大きさの小さい方
で決ることがわかる。本実施例のｐ型GaAsベー
ス層のアクセプタ濃度は１・1019／cm3、ｎ型
GaAsコレクタ層のドナー濃度は５・1017／cm3で
ある。したがつてコレクタ容量は近似的に Cpn∝√2 (3) となる。
一方、ｎ型GaAs層と、AlyGa1-yAs半絶縁性半
導体層との接合容量は、半絶縁性半導体層のアク
セプタ濃度が１・1014／cm3以下であるため、接合
容量は、このアクセプタ濃度の平方根に比例し、
その値は、(3)式の値よりもはるかに小さいものと
なる。もし半絶縁性半導体層がない場合には、４
と３の接合容量は、ｎ型GaAs層のキヤリア濃度
が、１・1018／cm3と大きいため、この部分のコレ
クタ容量が大きなものとなる。ｐ型GaAsに代え
てｐ型AlxGa1-xAsを用いても、接合容量はほと
んどかわらない。以上の理由から、本実施例のよ
うに、ｐ型ベース層とｎ型GaAsコレクタ層との
間に、半絶縁性半導体層を形成することにより、
同一面積の構成であればコレクタ容量をはるかに
小さくできる。コレクタ容量がちいさくなれば、
(1)式より高周波特性の改善されることは明らかで
ある。
導体層との接合容量は、半絶縁性半導体層のアク
セプタ濃度が１・1014／cm3以下であるため、接合
容量は、このアクセプタ濃度の平方根に比例し、
その値は、(3)式の値よりもはるかに小さいものと
なる。もし半絶縁性半導体層がない場合には、４
と３の接合容量は、ｎ型GaAs層のキヤリア濃度
が、１・1018／cm3と大きいため、この部分のコレ
クタ容量が大きなものとなる。ｐ型GaAsに代え
てｐ型AlxGa1-xAsを用いても、接合容量はほと
んどかわらない。以上の理由から、本実施例のよ
うに、ｐ型ベース層とｎ型GaAsコレクタ層との
間に、半絶縁性半導体層を形成することにより、
同一面積の構成であればコレクタ容量をはるかに
小さくできる。コレクタ容量がちいさくなれば、
(1)式より高周波特性の改善されることは明らかで
ある。
本実施例では、ヘテロ接合バイポーラトランジ
スタの特徴を生かして、ベース領域のキヤリア濃
度を極めて高くできる（実施例では１・1019／cm3
のキヤリア濃度を用いた）ため、ベース抵抗Rb
は極めて小さい。そのため最大遮断周波数の極め
て高い高周波特性に優れたトランジスタを得るこ
とができる。
スタの特徴を生かして、ベース領域のキヤリア濃
度を極めて高くできる（実施例では１・1019／cm3
のキヤリア濃度を用いた）ため、ベース抵抗Rb
は極めて小さい。そのため最大遮断周波数の極め
て高い高周波特性に優れたトランジスタを得るこ
とができる。
本実施例で得られたヘテロ接合トランジスタは
予想されたようにコレクタ容量が大幅に小さくな
つたことから、同一寸法の場合、従来のものに比
べて高周波特性が非常に向上した。
予想されたようにコレクタ容量が大幅に小さくな
つたことから、同一寸法の場合、従来のものに比
べて高周波特性が非常に向上した。
本実施例分子線エピタキシー技術を用いたが、
そのほかに、例えば、有機金属化学気相成長
（MO−CVD）法を用いても同様に作成すること
ができる。
そのほかに、例えば、有機金属化学気相成長
（MO−CVD）法を用いても同様に作成すること
ができる。
また本実施例では、半導体としてGaAs−Alx
Ga1-xAsを用いたが、他の半導体材料、例えば
InP−InGaAsP等を用いても作成することができ
る。またAl濃度として、ｘ＝0.3、ｙ＝0.3を用い
たが、これは０〜１の範囲で任意に選ぶことがで
きる。
Ga1-xAsを用いたが、他の半導体材料、例えば
InP−InGaAsP等を用いても作成することができ
る。またAl濃度として、ｘ＝0.3、ｙ＝0.3を用い
たが、これは０〜１の範囲で任意に選ぶことがで
きる。
本実施例では、半絶縁性層としてAlyGa1-yAs
（0.3）を用いたが、ｙ＝０すなわちGaAsを用い
ても、コレクタ容量を低減させるということで
は、同じ効果を有することは明らかである。
（0.3）を用いたが、ｙ＝０すなわちGaAsを用い
ても、コレクタ容量を低減させるということで
は、同じ効果を有することは明らかである。
本実施例では、ｙ＝0.3を用いたが、AlyGa1-y
AsはGaAsよりも禁制帯エネルギーが大きいた
め、これによりｐ型ベース電極取り出し用GaAs
層とｎ型コレクタ層との間のもれ電流を、更に少
なくすることができる。もれ電流はトランジスタ
の電流増幅率を低下させるため、もれ電流を低減
させることにより電流増幅率を向上させることが
できる。
AsはGaAsよりも禁制帯エネルギーが大きいた
め、これによりｐ型ベース電極取り出し用GaAs
層とｎ型コレクタ層との間のもれ電流を、更に少
なくすることができる。もれ電流はトランジスタ
の電流増幅率を低下させるため、もれ電流を低減
させることにより電流増幅率を向上させることが
できる。
本実施例では、−化合物半導体を用いた
が、シリコン（Si）を用いても分子線エピタキシ
ーにより同様のプロセスを用いて、コレクタ容量
の極めて小さいバイポーラトランジスタを得るこ
とができた。得られたSiバイポーラトランジスタ
も優れた高周波特性を示した。
が、シリコン（Si）を用いても分子線エピタキシ
ーにより同様のプロセスを用いて、コレクタ容量
の極めて小さいバイポーラトランジスタを得るこ
とができた。得られたSiバイポーラトランジスタ
も優れた高周波特性を示した。
本実施例では、エミツタ、コレクタをｎ型に、
ベースをｐ型にしたが、エミツタ、コレクタをｐ
型に、ベースをｎ型にすることもできる。
ベースをｐ型にしたが、エミツタ、コレクタをｐ
型に、ベースをｎ型にすることもできる。
発明の効果
以上述べた如く、本発明は、コレクタ容量を著
しく小さくすることにより、高周波特性に優れた
バイポーラトランジスタを、提供するものであ
る。
しく小さくすることにより、高周波特性に優れた
バイポーラトランジスタを、提供するものであ
る。
第１図は本発明の一実施例を示す図、第２図〜
第４図は本発明の構造を実現するための製造途中
の構造を示す図、第５図は従来のバイポーラトラ
ンジスタの構造を示す図である。 １……半絶縁性GaAs基板、２……ｎ＋GaAs
コレクタ１層（電極取り出し層）、３……ｎ型
GaAsコレクタ２層、４……AlyGa1-yAs半絶縁性
半導体層、５……ｐ型GaAsベース層、６……ｎ
型AlxGa1-xAsエミツタ１層、７……ｎ＋GaAsエ
ミツタ２層（電極取り出し層）、８……コレクタ
電極、９……ベース電極、１０……エミツタ電
極、１１……レジスト。
第４図は本発明の構造を実現するための製造途中
の構造を示す図、第５図は従来のバイポーラトラ
ンジスタの構造を示す図である。 １……半絶縁性GaAs基板、２……ｎ＋GaAs
コレクタ１層（電極取り出し層）、３……ｎ型
GaAsコレクタ２層、４……AlyGa1-yAs半絶縁性
半導体層、５……ｐ型GaAsベース層、６……ｎ
型AlxGa1-xAsエミツタ１層、７……ｎ＋GaAsエ
ミツタ２層（電極取り出し層）、８……コレクタ
電極、９……ベース電極、１０……エミツタ電
極、１１……レジスト。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 半導体基板の上にコレクタ層を形成し、その
上に半絶縁性半導体層を形成した後、該半絶縁性
半導体層の一部を除去して、該コレクタ層の一部
を露出させ、その上にベース層、エミツタ層を順
次エピタキシヤル成長させ、次に該半絶縁性半導
体層のない部分に形成された該エミツタ層の上
に、エミツタ電極を、また該半絶縁性半導体層の
ある部分の一部を除去して、該ベース層、該コレ
クタ層の一部を露出させ、それぞれにベース電
極、コレクタ電極を形成したことを特徴とするバ
イポーラトランジスタの製造方法。 ２ 少なくともエミツタの禁制帯エネルギー幅が
ベースの禁制帯エネルギー幅よりも大きいことを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載のバイポー
ラトランジスタの製造方法。 ３ 半絶縁性半導体層の禁制帯エネルギー幅がベ
ースの禁制帯エネルギー幅よりも大きいことを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載のバイポーラ
トランジスタの製造方法。 ４ −化合物半導体を用いたことを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載のバイポーラトラン
ジスタの製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60137261A JPS61294862A (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | バイポ−ラトランジスタの製造方法 |
| EP86304785A EP0206787B1 (en) | 1985-06-21 | 1986-06-20 | Heterojunction bipolar transistor and method of manufacturing same |
| DE8686304785T DE3682959D1 (de) | 1985-06-21 | 1986-06-20 | Bipolarer transistor mit heterouebergang und verfahren zu seiner herstellung. |
| US07/048,470 US4746626A (en) | 1985-06-21 | 1987-05-08 | Method of manufacturing heterojunction bipolar transistors |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60137261A JPS61294862A (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | バイポ−ラトランジスタの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61294862A JPS61294862A (ja) | 1986-12-25 |
| JPH0453110B2 true JPH0453110B2 (ja) | 1992-08-25 |
Family
ID=15194530
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60137261A Granted JPS61294862A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-24 | バイポ−ラトランジスタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61294862A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH031542A (ja) * | 1989-05-29 | 1991-01-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | バイポーラトランジスタの製造方法 |
| JPH031543A (ja) * | 1989-05-29 | 1991-01-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | パイポーラトランジスタの製造方法 |
-
1985
- 1985-06-24 JP JP60137261A patent/JPS61294862A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61294862A (ja) | 1986-12-25 |
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