JPH0453819A - エポキシ(メタ)アクリレート、これを含む樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びこれらの硬化物 - Google Patents
エポキシ(メタ)アクリレート、これを含む樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びこれらの硬化物Info
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- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 title claims abstract description 27
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 title claims abstract description 26
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 18
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 title abstract description 22
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 claims abstract description 21
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 claims abstract description 21
- 239000000047 product Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 17
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 17
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims abstract description 11
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- -1 o-cresol Chemical class 0.000 abstract description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 8
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 abstract description 5
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract description 4
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 5
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 3
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- NIUZJTWSUGSWJI-UHFFFAOYSA-M triethyl(methyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(CC)CC NIUZJTWSUGSWJI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HVYVMSPIJIWUNA-UHFFFAOYSA-N triphenylstibine Chemical compound C1=CC=CC=C1[Sb](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 HVYVMSPIJIWUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 2-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3C(=O)C2=C1 FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POYODSZSSBWJPD-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoyloxy 2-methylprop-2-eneperoxoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OOOC(=O)C(C)=C POYODSZSSBWJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- GKIPXFAANLTWBM-UHFFFAOYSA-N epibromohydrin Chemical compound BrCC1CO1 GKIPXFAANLTWBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006241 epoxy vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 150000002357 guanidines Chemical class 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)C DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 1
- ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N triethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)CC ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、エポキシ(メタ)アクリレート、その硬化物
か耐熱性、耐薬品性及び電気絶縁性に優れ、プリント配
線基板の永久保護膜として使用されるソルダーレジスト
に適する樹脂組成物及びその硬化物に関する。
か耐熱性、耐薬品性及び電気絶縁性に優れ、プリント配
線基板の永久保護膜として使用されるソルダーレジスト
に適する樹脂組成物及びその硬化物に関する。
(従来の技術)
近年、省資源、省エネルギー、作業性向上、生産性向上
などの理由により紫外線硬化型組成物か多用されてきて
いる。プリント配線基板加工分野においても同様の理由
によりソルダーレジストインキ、マーキングインキなど
種々のインキが従来の熱硬化型組成物から紫外線硬化型
組成物へと移行してきている。ソルダーレジストインキ
はいち早く紫外線硬化型組成物へと移行した。
などの理由により紫外線硬化型組成物か多用されてきて
いる。プリント配線基板加工分野においても同様の理由
によりソルダーレジストインキ、マーキングインキなど
種々のインキが従来の熱硬化型組成物から紫外線硬化型
組成物へと移行してきている。ソルダーレジストインキ
はいち早く紫外線硬化型組成物へと移行した。
(発明か解決しようとする課題)
しかしながら、現在この紫外線硬化型組成物の適用され
ている用途としては、ラジオ、ビデオ、テレビ等に使用
されている民生用基板と称せられる分野に限られ、コン
ピューター、制御機器等の産業用基板といわれる分野へ
の適用は未だ行われていないのが実情である。これは産
業用基板に使用されるソルダーレジストインキには、民
生基板用ソルダーレジストインキに要求されていない高
電気絶縁性、加湿下におけるハンダ耐熱性、耐メツキ性
など高い性能を有する硬化物を与えるということが要求
されており、現在の民生基板用ソルダーレジストインキ
では、要求性能レベルに達していないためである。又、
最近のエレクトロニクス機器類の小型化、高機能化によ
り、産業用基板に於いても回路のパターン密度か高くな
り、そのため精度向上の要求が高くなっているか、従来
の紫外線硬化型ソルダーレジストインキを用いたスクリ
ーン印刷法では、印刷精度の限界から、満足すべき結果
は得られていない。更に、従来の紫外線硬化型ソルダー
レジストインキは、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート等の1〜
3官能モノマー及び各種アクリレートオリゴマーなど含
んでおり、スクリーン印刷時にこれらの物質かにしみ出
し、ハンダかつかない等のトラブルの発生かみられる。
ている用途としては、ラジオ、ビデオ、テレビ等に使用
されている民生用基板と称せられる分野に限られ、コン
ピューター、制御機器等の産業用基板といわれる分野へ
の適用は未だ行われていないのが実情である。これは産
業用基板に使用されるソルダーレジストインキには、民
生基板用ソルダーレジストインキに要求されていない高
電気絶縁性、加湿下におけるハンダ耐熱性、耐メツキ性
など高い性能を有する硬化物を与えるということが要求
されており、現在の民生基板用ソルダーレジストインキ
では、要求性能レベルに達していないためである。又、
最近のエレクトロニクス機器類の小型化、高機能化によ
り、産業用基板に於いても回路のパターン密度か高くな
り、そのため精度向上の要求が高くなっているか、従来
の紫外線硬化型ソルダーレジストインキを用いたスクリ
ーン印刷法では、印刷精度の限界から、満足すべき結果
は得られていない。更に、従来の紫外線硬化型ソルダー
レジストインキは、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート等の1〜
3官能モノマー及び各種アクリレートオリゴマーなど含
んでおり、スクリーン印刷時にこれらの物質かにしみ出
し、ハンダかつかない等のトラブルの発生かみられる。
前記した問題点の改善のこころみもなされており、例え
ば特開昭60−208377では、光重合可能なエポキ
シビニルエステル樹脂と光重合開始剤とアミン系エポキ
シ硬化剤からなる樹脂組成物か提案されており、これは
、耐熱性、密着性、耐化学薬品性、電気絶縁特性に優れ
た硬化物を与えるか、トリクロロエタン等の現像液によ
る現像性か悪く問題である。
ば特開昭60−208377では、光重合可能なエポキ
シビニルエステル樹脂と光重合開始剤とアミン系エポキ
シ硬化剤からなる樹脂組成物か提案されており、これは
、耐熱性、密着性、耐化学薬品性、電気絶縁特性に優れ
た硬化物を与えるか、トリクロロエタン等の現像液によ
る現像性か悪く問題である。
(課題を解決するだめの手段)
本発明者らは、上記の問題点を解決するため鋭意研究の
結果、新規なエポキシ(メタ)アクリレートを開発し、
それを使用することにより、現像性が良好で、耐熱性、
密着性、耐薬品性及び電気絶縁性に優れた硬化物を与え
ることかできるソルダーレジストに適する樹脂組成物を
提供することに成功した。すなわち、本発明は、 1)フェノール化物ポリブタジェンとエピハロヒドリン
との反応物であるエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の
反応物であるエポキシ(メタ)アクリレート、 2)第1)項記載のエポキシ(メタ)アクリレート(A
)と光重合開始剤(B)とを含むことを特徴とする 特にソルダーレジスト樹脂組成物として有用な樹脂組成
物、 3)第2)項記載の樹脂組成物の硬化物、に関する。
結果、新規なエポキシ(メタ)アクリレートを開発し、
それを使用することにより、現像性が良好で、耐熱性、
密着性、耐薬品性及び電気絶縁性に優れた硬化物を与え
ることかできるソルダーレジストに適する樹脂組成物を
提供することに成功した。すなわち、本発明は、 1)フェノール化物ポリブタジェンとエピハロヒドリン
との反応物であるエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の
反応物であるエポキシ(メタ)アクリレート、 2)第1)項記載のエポキシ(メタ)アクリレート(A
)と光重合開始剤(B)とを含むことを特徴とする 特にソルダーレジスト樹脂組成物として有用な樹脂組成
物、 3)第2)項記載の樹脂組成物の硬化物、に関する。
本発明のエポキシ(メタ)アクリレート(A)は、フェ
ノール化物ポリブタジェンとエピハロヒドリンとの反応
物であるエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させ
ることによって得ることができる。
ノール化物ポリブタジェンとエピハロヒドリンとの反応
物であるエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させ
ることによって得ることができる。
本発明において用いるフェノール化物ポリブタジェンは
、ポリブタジェン(好ましい平均分子量は500〜20
00)とO−クレゾール等のアルキル基等で置換されて
いてもよいフェノール類の付加反応物であり、例えば、
P−LPB(OH価34o、軟化点170°C) 、P
−700−300(OH価333、軟化点130’C)
〔いずれも日本石油化学(株)製、商品名、ポリブタジ
ェンとO−クレゾールの付加反応物〕等として既に市販
されているので、エポキシ(メタ)アクリレート(A)
はかかる市販品を用いて製造することができる。フェノ
ール化物ポリブタジェンとエピハロヒドリンの反応物で
あるエポキシ樹脂は、フェノール化物ポリブタジェンと
エピクロルヒドリン、エピブロムヒドリン等のエピハロ
ヒドリンを反応させることによって得られるものである
。 フェノール化物ポリブタジェンとエピハロヒドリ
ンの反応は、公知の方法により行うことが出来る。
、ポリブタジェン(好ましい平均分子量は500〜20
00)とO−クレゾール等のアルキル基等で置換されて
いてもよいフェノール類の付加反応物であり、例えば、
P−LPB(OH価34o、軟化点170°C) 、P
−700−300(OH価333、軟化点130’C)
〔いずれも日本石油化学(株)製、商品名、ポリブタジ
ェンとO−クレゾールの付加反応物〕等として既に市販
されているので、エポキシ(メタ)アクリレート(A)
はかかる市販品を用いて製造することができる。フェノ
ール化物ポリブタジェンとエピハロヒドリンの反応物で
あるエポキシ樹脂は、フェノール化物ポリブタジェンと
エピクロルヒドリン、エピブロムヒドリン等のエピハロ
ヒドリンを反応させることによって得られるものである
。 フェノール化物ポリブタジェンとエピハロヒドリ
ンの反応は、公知の方法により行うことが出来る。
フェノール化物ポリブタジェンとフェノール化物ポリブ
タジェンの水酸基当量に対して過剰モル量のエピハロヒ
ドリンとをテトラメチルアンモニウムクロリド、テトラ
メチルアンモニウムプロミド、トリエチルアンモニウム
クロリドなどの第4級アンモニウム塩または水酸化ナリ
トリム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物な
どの存在下で反応させ、第4級アンモニウム塩などを用
いた場合は開環付加反応の段階で反応かとまるので、次
いて上記アルカリ金属水酸化物を加えて閉環反応させる
。また最初からアルカリ金属水酸化物を加えて反応させ
る場合は、開環付加反応および閉環反応か一気に行われ
る。エピハロヒドリンの使用割合は、フェノール化物ポ
リブタジェンの水酸基当量1に対して通常1〜50モル
、好ましくは3〜15モルの範囲である。アルカリ金属
水酸化物の使用量は、フェノール化物ポリブタジェンの
水酸基当量1に対して通常0,8〜1.5モル、好まし
くは0.9〜1.3モルの範囲であり、第4級アンモニ
ウム塩を使用する場合、その使用量は、フェノール化物
ポリブタジェンの水酸基当量1に対して通常0.001
〜1モル、好ましくは0.005〜0.5モルの範囲で
ある。反応温度は、通常30〜130°C好ましくは4
0〜120°Cてあり、反応時間は通常1〜10時間で
ある。また反応で生成した水を反応系外に除去しなから
反応を進行させることもてきる。
タジェンの水酸基当量に対して過剰モル量のエピハロヒ
ドリンとをテトラメチルアンモニウムクロリド、テトラ
メチルアンモニウムプロミド、トリエチルアンモニウム
クロリドなどの第4級アンモニウム塩または水酸化ナリ
トリム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物な
どの存在下で反応させ、第4級アンモニウム塩などを用
いた場合は開環付加反応の段階で反応かとまるので、次
いて上記アルカリ金属水酸化物を加えて閉環反応させる
。また最初からアルカリ金属水酸化物を加えて反応させ
る場合は、開環付加反応および閉環反応か一気に行われ
る。エピハロヒドリンの使用割合は、フェノール化物ポ
リブタジェンの水酸基当量1に対して通常1〜50モル
、好ましくは3〜15モルの範囲である。アルカリ金属
水酸化物の使用量は、フェノール化物ポリブタジェンの
水酸基当量1に対して通常0,8〜1.5モル、好まし
くは0.9〜1.3モルの範囲であり、第4級アンモニ
ウム塩を使用する場合、その使用量は、フェノール化物
ポリブタジェンの水酸基当量1に対して通常0.001
〜1モル、好ましくは0.005〜0.5モルの範囲で
ある。反応温度は、通常30〜130°C好ましくは4
0〜120°Cてあり、反応時間は通常1〜10時間で
ある。また反応で生成した水を反応系外に除去しなから
反応を進行させることもてきる。
反応終了後、副生じた塩を水洗、ろ過等により除去し過
剰のエピハロヒドリンを留去することによりエポキシ樹
脂が得られる。
剰のエピハロヒドリンを留去することによりエポキシ樹
脂が得られる。
前記、フェノール化物ポリブタジェンとエピハロヒドリ
ンの反応物であるエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸と
の反応は、エポキシ樹脂のエポキシ基の1化学当量に対
して(メタ)アクリル酸約0.1〜1.1化学当量好ま
しくは0.5〜1.0化学当量となる比で反応させ、反
応時に希釈剤(例えば、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、酢酸ブチル、エチルセロソルブアセテ
ート、ブチルセロソルブアセテート、ベンゼン、トルエ
ン、石油エーテル等の溶剤類、又はカルピトール(メタ
)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、
トリス(ヒト0キシエチル)イソシアヌレートトリ (
メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(
メタ)アクリレート、ポリペンタエリスリトールポリ(
メタ)アクリレート等の反応主単量体類等)を使用する
のか好ましい。更に、反応促進させるために、触媒(例
えば、トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、メ
チルトリエチルアンモニウムクロライド、トリフェニル
スチビン等)を使用することか好ましく、該触媒の使用
量は、原料混合物に対して、好ましくは0.1〜10重
量%、特に好ましくは0.3〜5重量%である。反応中
の(メタ)アクリロイル基における重合反応を防止する
ために、重合防止剤(例えば、メトキノン、ハイドロキ
ノン、フェノチアジン等)を使用するのか好ましく、そ
の使用量は、原料混合物に対して好ましくは、0.01
〜1重量%、特に好ましくは0.05〜0.5重量%で
ある。
ンの反応物であるエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸と
の反応は、エポキシ樹脂のエポキシ基の1化学当量に対
して(メタ)アクリル酸約0.1〜1.1化学当量好ま
しくは0.5〜1.0化学当量となる比で反応させ、反
応時に希釈剤(例えば、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、酢酸ブチル、エチルセロソルブアセテ
ート、ブチルセロソルブアセテート、ベンゼン、トルエ
ン、石油エーテル等の溶剤類、又はカルピトール(メタ
)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、
トリス(ヒト0キシエチル)イソシアヌレートトリ (
メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(
メタ)アクリレート、ポリペンタエリスリトールポリ(
メタ)アクリレート等の反応主単量体類等)を使用する
のか好ましい。更に、反応促進させるために、触媒(例
えば、トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、メ
チルトリエチルアンモニウムクロライド、トリフェニル
スチビン等)を使用することか好ましく、該触媒の使用
量は、原料混合物に対して、好ましくは0.1〜10重
量%、特に好ましくは0.3〜5重量%である。反応中
の(メタ)アクリロイル基における重合反応を防止する
ために、重合防止剤(例えば、メトキノン、ハイドロキ
ノン、フェノチアジン等)を使用するのか好ましく、そ
の使用量は、原料混合物に対して好ましくは、0.01
〜1重量%、特に好ましくは0.05〜0.5重量%で
ある。
反応温度は好ましくは60〜150°C1特に好ましく
は、80〜120°Cである。又、反応時間は好ましく
は5〜60時間、特に好ましくは、10〜50時間であ
る。
は、80〜120°Cである。又、反応時間は好ましく
は5〜60時間、特に好ましくは、10〜50時間であ
る。
本発明のエポキシ(メタ)アクリレート(A)の好まし
い平均分子量は700〜5000である。
い平均分子量は700〜5000である。
本発明の樹脂組成物及びソルダーレジスト樹脂組成物(
以下併せて組成物という)で使用されるエポキシ(メタ
)アクリレート(A)の使用量は組成物中10〜99重
量%か好ましく、特に20〜95重量%が好ましい。
以下併せて組成物という)で使用されるエポキシ(メタ
)アクリレート(A)の使用量は組成物中10〜99重
量%か好ましく、特に20〜95重量%が好ましい。
光重合開始剤(B)としては、公知のとのような光重合
開始剤でも使用できるか、配合後の貯蔵安定性の良いも
のか望ましい。この様な光重合開始剤としては、例えば
、2,2−ジェトキシアセトフェノン、4°−フェノキ
シ−2,2−ジクロロアセトフェノン、ベンゾフェノン
、2−ヒドロキシ2−メチルプロピオフェノン、4°
−イソプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオ
フェノン、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシ
シクロへキシルフェニルケトン、2−エチルアントラキ
ノン、2−クロロアントラキノン、2−クロロチオキサ
ントン、2.4−ジエチルチオキサントン等があげられ
る。これら光重合開始剤(B)は、一種または二種以上
を任意の割合で混合して使用することかできる。好まし
い光重合開始剤(B)としては、2−エチルアントラキ
ノン、2.4−ジエチルチオキサントン等があげられる
。
開始剤でも使用できるか、配合後の貯蔵安定性の良いも
のか望ましい。この様な光重合開始剤としては、例えば
、2,2−ジェトキシアセトフェノン、4°−フェノキ
シ−2,2−ジクロロアセトフェノン、ベンゾフェノン
、2−ヒドロキシ2−メチルプロピオフェノン、4°
−イソプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオ
フェノン、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシ
シクロへキシルフェニルケトン、2−エチルアントラキ
ノン、2−クロロアントラキノン、2−クロロチオキサ
ントン、2.4−ジエチルチオキサントン等があげられ
る。これら光重合開始剤(B)は、一種または二種以上
を任意の割合で混合して使用することかできる。好まし
い光重合開始剤(B)としては、2−エチルアントラキ
ノン、2.4−ジエチルチオキサントン等があげられる
。
本発明の組成物に使用される光重合開始剤(B)の使用
量は組成物中0.1〜10重量%か好ましく、特に1〜
5重量%であることか好ましい。
量は組成物中0.1〜10重量%か好ましく、特に1〜
5重量%であることか好ましい。
本発明の組成物には、更に、フェノール・ノボラック型
エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エポキシ樹脂
、ビスフェノール型エポキシ樹脂等のエポキシ化合物、
これらのエポキシ化合物を硬化させるための硬化剤(例
えば、ジシアンジアミド、イミダゾール類、グアニジン
類、ヒドラジド化合物、芳香族ポリアミン類、及び光カ
チオン重合触媒であるトリフェニルスルホニウムへキサ
フルオロホスフェ−ト、ジフェニルスルホニウムヘキサ
フルオロアンチモネート、ジフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムへキ
サフルオロホスフェート、(2,4−シクロペンタジェ
ン−1−イル)〔(1メチルエチル)−ベンセンクーア
イロン−ヘキサフルオロホスフェート(チバ・ガイギー
(株)製、イルガキュアー261)等を挙げることかで
きる。)及び前記エポキシ化合物と(メタ)アクリル酸
の反応物であるエポキシ(メタ)アクリレート、前記し
た反応性単量体類等を含有させることがてきる。これら
の使用量は、組成物中0〜90重量%か好ましく、特に
10〜80重量%か好ましい。
エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エポキシ樹脂
、ビスフェノール型エポキシ樹脂等のエポキシ化合物、
これらのエポキシ化合物を硬化させるための硬化剤(例
えば、ジシアンジアミド、イミダゾール類、グアニジン
類、ヒドラジド化合物、芳香族ポリアミン類、及び光カ
チオン重合触媒であるトリフェニルスルホニウムへキサ
フルオロホスフェ−ト、ジフェニルスルホニウムヘキサ
フルオロアンチモネート、ジフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムへキ
サフルオロホスフェート、(2,4−シクロペンタジェ
ン−1−イル)〔(1メチルエチル)−ベンセンクーア
イロン−ヘキサフルオロホスフェート(チバ・ガイギー
(株)製、イルガキュアー261)等を挙げることかで
きる。)及び前記エポキシ化合物と(メタ)アクリル酸
の反応物であるエポキシ(メタ)アクリレート、前記し
た反応性単量体類等を含有させることがてきる。これら
の使用量は、組成物中0〜90重量%か好ましく、特に
10〜80重量%か好ましい。
本発明の組成物には、更に、種々の添加剤、例えば、タ
ルク、シリカ、アルミナ、硫酸バリウム、酸化マグネシ
ウムなどの体質顔料、アエロジルなとのチキソトロピー
剤、シリコンアクリル共重合体等のレベリング剤、消泡
剤、および着色剤などを加えてもかまわない。又、組成
物の取り扱いを容易にするために前記した溶剤類を更に
任意量含有することかできる。
ルク、シリカ、アルミナ、硫酸バリウム、酸化マグネシ
ウムなどの体質顔料、アエロジルなとのチキソトロピー
剤、シリコンアクリル共重合体等のレベリング剤、消泡
剤、および着色剤などを加えてもかまわない。又、組成
物の取り扱いを容易にするために前記した溶剤類を更に
任意量含有することかできる。
本発明の組成物は、各成分を均一に混合することにより
得ることが出来る。
得ることが出来る。
本発明の樹脂組成物は、特にソルダーレジスト樹脂組成
物として有用であるか、その他にも絶縁材料、含浸材、
表面被覆材、塗料、接着剤等としても使用できる。
物として有用であるか、その他にも絶縁材料、含浸材、
表面被覆材、塗料、接着剤等としても使用できる。
本発明の組成物は、常法により紫外線を照射し、その後
必要に応じて100〜200°Cに加熱することによっ
て硬化し、硬化物が得られる。
必要に応じて100〜200°Cに加熱することによっ
て硬化し、硬化物が得られる。
本発明の樹脂組成物を例えばソルダーレジスト樹脂組成
物として用いる場合、次のようにして硬化することによ
りその硬化物が得られる。即ち、プリント配線板にスク
リーン印刷法、スプレー法、ロールコート法、静電塗装
法、カーテンフローコート法等の方法により10〜10
0μmの膜厚で本発明のソルダーレジスト樹脂組成物を
塗布し、塗膜を60〜80℃で乾燥する。その後、゛ネ
ガフィルムを塗膜に直接接触させ又接触させずに置き、
次いて紫外線を照射し、さらにトリクロロエタン、ブチ
ルセロソルブアセテート、メチルエチルケトン等の有機
溶剤で、塗膜の未照射部分を溶解除去した後、120〜
170°Cで加熱硬化することにより硬化塗膜が得られ
る。
物として用いる場合、次のようにして硬化することによ
りその硬化物が得られる。即ち、プリント配線板にスク
リーン印刷法、スプレー法、ロールコート法、静電塗装
法、カーテンフローコート法等の方法により10〜10
0μmの膜厚で本発明のソルダーレジスト樹脂組成物を
塗布し、塗膜を60〜80℃で乾燥する。その後、゛ネ
ガフィルムを塗膜に直接接触させ又接触させずに置き、
次いて紫外線を照射し、さらにトリクロロエタン、ブチ
ルセロソルブアセテート、メチルエチルケトン等の有機
溶剤で、塗膜の未照射部分を溶解除去した後、120〜
170°Cで加熱硬化することにより硬化塗膜が得られ
る。
(実施例)
以下、本発明を実施例により具体的に説明する。
〔フェノール化物ポリブタジェンとエピハロヒドリンの
反応物であるエポキシ樹脂の合成例(合成例1.2)) 合成例1 フェノール化物ポリブタジェン(日本石油化学(株)製
、P−LPB、 OH当量340、軟化点170°C)
340gをエピクロルヒドリン740gに溶解させた後
、60°Cで48%NaOH水溶液87.5gを5時間
かけて滴下した。滴下中は、反応温度60°C1圧力1
00〜150mmHgの条件下で生成水及びNaOH水
溶液中の水をエピクロルヒドリンとの共沸により連続的
に反応系外に除去し、エピクロルヒドリンは系内に戻し
た。
反応物であるエポキシ樹脂の合成例(合成例1.2)) 合成例1 フェノール化物ポリブタジェン(日本石油化学(株)製
、P−LPB、 OH当量340、軟化点170°C)
340gをエピクロルヒドリン740gに溶解させた後
、60°Cで48%NaOH水溶液87.5gを5時間
かけて滴下した。滴下中は、反応温度60°C1圧力1
00〜150mmHgの条件下で生成水及びNaOH水
溶液中の水をエピクロルヒドリンとの共沸により連続的
に反応系外に除去し、エピクロルヒドリンは系内に戻し
た。
次いで過剰の未反応エピクロルヒドリンを減圧下に回収
した後、メチルイソブチルケトン760gを加え均一に
溶解させ、さらに30%NaOH水溶液13.4gを加
え70〜75°Cで1時間反応させた。反応終了後、水
300gを加えて水洗した後、油水分離し油層からメチ
ルイソブチルケトンを蒸留回収して、エポキシ当量44
8、軟化点155°Cのエポキシ樹脂390gを得た。
した後、メチルイソブチルケトン760gを加え均一に
溶解させ、さらに30%NaOH水溶液13.4gを加
え70〜75°Cで1時間反応させた。反応終了後、水
300gを加えて水洗した後、油水分離し油層からメチ
ルイソブチルケトンを蒸留回収して、エポキシ当量44
8、軟化点155°Cのエポキシ樹脂390gを得た。
合成例2
フェノール化物ポリブタジェンを日本石油化学(株)製
、P−700−300(OH当量333、軟化点130
°C)に変え、その使用量を333gにした以外は、合
成例1と同様にして、エポキシ当量476、軟化点98
.4°Cのエポキシ樹脂380gを得た。
、P−700−300(OH当量333、軟化点130
°C)に変え、その使用量を333gにした以外は、合
成例1と同様にして、エポキシ当量476、軟化点98
.4°Cのエポキシ樹脂380gを得た。
〔エポキシ(メタ)アクリレート(A)の実施例1〜3
〕 実施例1 合成例1で得たエポキシ樹脂448g 、アクリル酸6
7g1 メチルハイドロキノン0.3g、トリフェニル
スチピン2.6g、カルピトールアセテート155g及
びソルベントナフサ66、8gを加え、95°Cまで昇
温させ24時間反応させた。
〕 実施例1 合成例1で得たエポキシ樹脂448g 、アクリル酸6
7g1 メチルハイドロキノン0.3g、トリフェニル
スチピン2.6g、カルピトールアセテート155g及
びソルベントナフサ66、8gを加え、95°Cまで昇
温させ24時間反応させた。
粘度170ポイズ(25℃)、酸価(溶剤をのぞいた成
分) 5.1mgKOH/g、エポキシ当量(溶剤をの
ぞいた成分) 19000の生成物を得た。得られた生
成物(エポキシアクリレート)の平均分子量は2900
であった。
分) 5.1mgKOH/g、エポキシ当量(溶剤をの
ぞいた成分) 19000の生成物を得た。得られた生
成物(エポキシアクリレート)の平均分子量は2900
であった。
実施例2
合成例2て得たエポキシ樹脂476g 、アクリル酸4
3.2g、メチルハイドロキノン0.3g、トリフェニ
ルスチビン2.6g、カルピトールアセテート157g
及びソルベントナフサ66、6gを加え、95°Cまて
昇温させ200時間反応せた。
3.2g、メチルハイドロキノン0.3g、トリフェニ
ルスチビン2.6g、カルピトールアセテート157g
及びソルベントナフサ66、6gを加え、95°Cまて
昇温させ200時間反応せた。
粘度120ポイズ(25°C)、酸価(溶剤をのぞいた
成分) 0.9mgKOH/g、エポキシ当量(溶剤を
のそいた成分) 1298の生成物を得た。得られた生
成物(エポキシアクリレート)の平均分子量は230o
てあった。
成分) 0.9mgKOH/g、エポキシ当量(溶剤を
のそいた成分) 1298の生成物を得た。得られた生
成物(エポキシアクリレート)の平均分子量は230o
てあった。
実施例3
合成例2て得たエポキシ樹脂476g、メタクリル酸8
6g1 メチルハイド0キノン0.3g、メチルトリエ
チルアンモニウムクロライド1.7g、カルピトールア
セテート169g及びツルヘントナフサ72.6gを加
え、95°Cまで昇温させ、35時間反応させた。
6g1 メチルハイド0キノン0.3g、メチルトリエ
チルアンモニウムクロライド1.7g、カルピトールア
セテート169g及びツルヘントナフサ72.6gを加
え、95°Cまで昇温させ、35時間反応させた。
粘度90ボイズ(25°C)、酸価(溶剤をのそいだ成
分) 2.5mg/KOH/g 、エポキシ当量(溶剤
をのぞいた成分) 24000の生成物を得た。得られ
た生成物(エポキシメタクリレート)の平均分子量は2
400てあった。
分) 2.5mg/KOH/g 、エポキシ当量(溶剤
をのぞいた成分) 24000の生成物を得た。得られ
た生成物(エポキシメタクリレート)の平均分子量は2
400てあった。
実施例4〜7、比較例1
第1表に示す配合組成に従って各成分を均一に混合し、
ソルダーレジスト樹脂組成物を得た。これを銅スルホー
ルプリント配線板にスクリーン印刷法にて25μmの膜
厚て塗布し、塗膜を70℃で60分間乾燥した後、ネガ
フィルムを塗膜に直接接触させる様にして当てる。次い
て、5kw超高圧水銀灯を使用して紫外線を照射し、次
いで25°Cのトリクロロエタンで塗膜の未照射部分を
溶解除去し溶解性の評価試験を行った。その後、熱風乾
燥器で150°C130分間加熱硬化を行い、硬化塗膜
を有する供試体を得た。それぞれの供試体について、各
種の性能試験(耐ハンダ性、密着性、絶縁抵抗)を行っ
た。
ソルダーレジスト樹脂組成物を得た。これを銅スルホー
ルプリント配線板にスクリーン印刷法にて25μmの膜
厚て塗布し、塗膜を70℃で60分間乾燥した後、ネガ
フィルムを塗膜に直接接触させる様にして当てる。次い
て、5kw超高圧水銀灯を使用して紫外線を照射し、次
いで25°Cのトリクロロエタンで塗膜の未照射部分を
溶解除去し溶解性の評価試験を行った。その後、熱風乾
燥器で150°C130分間加熱硬化を行い、硬化塗膜
を有する供試体を得た。それぞれの供試体について、各
種の性能試験(耐ハンダ性、密着性、絶縁抵抗)を行っ
た。
それらの結果を第1表に示す。
なお、各試験方法は次のとおりである。
25°Cのトリクロロエタンで未照射部分を溶解除去す
る際の未照射部分の溶解性について判定した。
る際の未照射部分の溶解性について判定した。
〇 −−−−−一−−溶解速度が速い。
x −一−−−溶解しないか又は極めて遅い。
供試体を260°Cの溶融ハンダに2分間浸漬した後の
硬化塗膜の状態について判定した。
硬化塗膜の状態について判定した。
〇 −・−・−外観に異常なし。
× −・−・−ふくれ、溶融又は剥離あり。
供試体の硬化塗膜にI X i mmの大きさのゴバン
目を100個刻み、セロハンテープを用いて剥離試験を
行った際の硬化塗膜の配線板に対する密着性を評価した
。
目を100個刻み、セロハンテープを用いて剥離試験を
行った際の硬化塗膜の配線板に対する密着性を評価した
。
○ ・−・・−硬化塗膜の配線板からの剥離なし× −
・・−あり 〔絶縁抵抗〕 供試体を80°C195%RHの雰囲気中に240時間
放置し、その塗膜の絶縁抵抗を測定した。
・・−あり 〔絶縁抵抗〕 供試体を80°C195%RHの雰囲気中に240時間
放置し、その塗膜の絶縁抵抗を測定した。
(発明の効果)
本発明のエポキシ(メタ)アクリレートを含有する組成
物は、トリクロロエタンで現像か可能で、その硬化物は
耐熱性、耐溶剤性、密着性、耐湿性、電気絶縁性に優れ
ており、ソルダーレジスト樹脂組成物に適する。
物は、トリクロロエタンで現像か可能で、その硬化物は
耐熱性、耐溶剤性、密着性、耐湿性、電気絶縁性に優れ
ており、ソルダーレジスト樹脂組成物に適する。
特許出願人 日本化薬株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、フェノール化物ポリブタジエンとエピハロヒドリン
との反応物であるエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の
反応物であるエポキシ(メタ)アクリレート。 2、請求項1記載のエポキシ(メタ)アクリレート(A
)と光重合開始剤(B)とを含むことを特徴とする樹脂
組成物。 3、請求項1記載のエポキシ(メタ)アクリレート(A
)と光重合開始剤(B)とを含むことを特徴とするソル
ダーレジスト樹脂組成物。 4、請求項2又は請求項3記載の樹脂組成物の硬化物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16125890A JP2764459B2 (ja) | 1990-06-21 | 1990-06-21 | エポキシ(メタ)アクリレート、これを含む樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びこれらの硬化物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16125890A JP2764459B2 (ja) | 1990-06-21 | 1990-06-21 | エポキシ(メタ)アクリレート、これを含む樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びこれらの硬化物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0453819A true JPH0453819A (ja) | 1992-02-21 |
| JP2764459B2 JP2764459B2 (ja) | 1998-06-11 |
Family
ID=15731677
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16125890A Expired - Fee Related JP2764459B2 (ja) | 1990-06-21 | 1990-06-21 | エポキシ(メタ)アクリレート、これを含む樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びこれらの硬化物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2764459B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113402955A (zh) * | 2021-05-12 | 2021-09-17 | 林培炎 | 一种环保建筑防腐材料及其制备方法 |
-
1990
- 1990-06-21 JP JP16125890A patent/JP2764459B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113402955A (zh) * | 2021-05-12 | 2021-09-17 | 林培炎 | 一种环保建筑防腐材料及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2764459B2 (ja) | 1998-06-11 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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