JPH0453902B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、水分に触れると室温下でエラストマ
ーを形成するシリコーン組成物に関するものであ
る。水分に触れると室温下でエラストマーを形成
するシリコーン組成物は、反応性末端基を有する
ジオルガノポリシロキサンおよび１分子当り少な
くとも３個のアシロキシ基、アミド基、アミノ
基、アミノキシ基、オキシム基が珪素原子に結合
している有機珪素化合物を必須成分として、さら
には必要に応じて充填剤等を混合することにより
製造され、建築関係、電気機器関係等で種々の接
合部の隙間等の弾性シーリング材等として使用さ
れている。 しかるにこれらの組成物は通常エラストマーの
形成に際し、水分として空気中の湿気を利用して
おり、エラストマーを形成する硬化が遅く、完成
までに長時間を要するばかりでなく、硬化途中の
塵埃の付着や硬化途中での変形が増す等の欠点を
有している。そこで一般に有機錫化合物等の縮合
触媒を使用している。一方これらの有機錫化合物
等は一般に生成したエラストマーの分解を促進
し、また接着性を低下させる等の欠点を有するの
で大量に使用することは困難で、硬化速度を充分
に改善することが不可能な場合が多い。また有機
錫化合物等の硬化促進剤の使用では、硬化速度と
可使時間を冬期、夏期の全てに満足させることが
一般には困難である。すなわち、例えば冬期の硬
化時間を満足できる程度に短縮すると、夏期の可
使時間が非常に短かくなり作業が不可能となる等
の場合が多い。 本発明者らは、これらの改良を種々検討した結
果、反応性末端基を有するジオルガノポリシロキ
サンおよび１分子当り少なくとも３個のアシロキ
シ基、アミド基、アミノ基、アミノキシ基、オキ
シム基が珪素原子に結合している有機珪素化合物
を必須成分とする組成物に少量の４個のアシロキ
シ基、アミド基、アミノ基やアミノキシ基が１個
の珪素原子に結合しているシラン類を配合するこ
とにより前記欠点を改良し得ることを知り本発明
に到達した。 すなわち、本発明の組成物では硬化後好ましく
ない作用を及ぼす有機錫化合物等の使用を減ら
し、可使時間と硬化時間の調節（両立）を容易に
するばかりでなく施工時のひび割れ発生が大幅に
低減する等の予想外の効果が得られる。 本発明は(イ)反応性末端基を有するジオルガノポ
リシロキサン、(ロ)アシロキシ基、アミド基、アミ
ノ基、アミノキシ基およびオキシム基から選ばれ
た基を１分子当り少なくとも３個有し、１個の珪
素原子にはこれらの基が３個以下結合している構
造を有する化合物よりなる有機珪素化合物および
(ハ)アシロキシ基、アミド基、アミノ基およびアミ
ノキシ基からから選ばれた基４個が１個の珪素原
子に結合しているシラン類を必須成分とすること
を特徴とする室温硬化型シリコーンエラストマー
組成物である。 本発明で使用する(イ)成分である反応性末端基を
有するジオルガノポリシロキサンは一般式 で通常示されている反応性末端基を有するジオル
ガノポリシロキサン類である。式中Ｒ基は、水素
または置換・非置換の１価の炭化水素基を示し、
その炭素数は通常１〜20であるが（但し、全てが
水素の場合を除く）、場合により部分的にスチレ
ン、アクリル酸、メタアクリル酸、それらのエス
テル類等の重合可能な有機化合物をグラクト重合
したと考えられる構造を有する炭素数の大きなＲ
基を有するものも使用でき、その場合にも、全Ｒ
基を平均すると炭素数は通常１〜20の範囲であ
る。 ｎは、25℃における粘度が少なくとも50mPas
であるような正の整数であり、Ｘは水酸基や後述
のアシロキシ基、アミド基、アミノ基、アミノキ
シ基、オキシム基およびアルコキシ基等の反応性
基を示す。上記(1)式は、いわゆる線状ポリシロキ
サン類を示すのに通常使用されているのと同様な
表現であり、通常工業用に使用されている線状ポ
リシロキサン類が含有している程度の少量のジオ
ルガノシロキサン

【式】単位でないシロ キサン単位を含有するものすなわち、例えばジオ
ルガノシロキサン単位の10モル％以下、通常１モ
ル％以下のごとき少量の

【式】単位

【式】単位や

【式】単位のごとき シロキサン単位を含有するものが、本発明の(イ)
成分として使用し得るのは当然である。また(イ)成
分のジオルガノポリシロキサンとしては、Ｘ基が
(1)式のごとく両末端に存在する場合が好ましい
が、末端に限らず中間の珪素原子に結合している
場合や両末端と中間に存在する場合でもある程度
のシロキサン結合を距てて、少なくとも２個のＸ
基が存在する限り使用し得る場合が多い。上式の
Ｒ基を例示すると、メチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、
sec−ブチル、tert−ブチル、オクタデシル、ビ
ニル、アリル等の脂肪族炭化水素基、シクロペン
チル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル、
シクロヘキセニル等の脂環式炭化水素基、フエニ
ル、キセニル、トリル、ベンジル、β−フエニル
エチル、β−フエニルプロピル等の芳香族炭化水
素基、γ−クロロプロピル、３，３，３−トリフ
ルオロプロピル、クロロフエニル、プロモフエニ
ル等のハロゲン置換炭化水素基およびβ−シアノ
エチル、γ−シアノプロピル、β−エトキシエチ
ル、Ｎ−アミノエチルアミノプロピル等のその他
の置換炭化水素基等である。上式中のＲ基は全て
同一である必要はなく、２種以上のＲ基を含有す
る場合も少なくない。一般に入手が容易等の理由
で、上式中のＲ基の少なくとも50％、通常90％は
メチル基である。その他、Ｒ基としてフエニル基
やビニル基等がメチル基と併用されることが多
い。また、Ｒ基の少量が水素原子であつても本発
明の(イ)成分として使用し得る場合が少なくない。 本発明で使用する(イ)成分の重合度は通常25℃で
の粘度で示して少なくとも50mPas好ましくは50
〜1000000mPas特に100〜500000mPasが好まし
い。50mPasより低粘度の場合には良好な物性の
エラストマーが得られにくい。また通常
1000000mPasを超える高重合体は通常の工業用
装置での他成分との均一な混合が困難である。 上式中の反応性末端基Ｘとしては後述の(ロ)成分
で詳述するアシロキシ基、アミド基、アミノ基、
アミノキシ基、オキシム基やアルコキシ基も使用
されるが、水酸基が主として使用される。勿論Ｘ
基についても全て同一である必要はなく、例えば
部分的にメトキシ基やβ−メトキシエトキシ基の
ごとき炭素原子１〜５個のアルコキシ基やさらに
炭素数の多いアルコキシ置換アルコキシ基で置換
されたごときものも本発明で使用し得るのは当然
である。 本発明の(イ)成分は、種々の重合度のポリシロキ
サン、種々の重合体および共重合体からの混合物
を使用することができる。 本発明の(ロ)成分として使用する有機珪素化合物
は架橋剤と一般に云われ、反応性末端基を有する
ジオルガノポリシロキサンと併用して、水分の存
在下、室温でエラストマーを形成させるのに通常
使用されている化合物である。アシロキシ基、ア
ミド基、アミノ基、アミノキシ基およびオキシム
基から選ばれた基を１分子当り少なくとも３個有
し、１個の珪素原子には、これらの基が３個以下
結合している構造を有する化合物としては例えば
一般式 RSiY₃ ……(2) で示されるシラン類や一般式 で示される鎖状または で示される環状のシロキサン類が主として使用さ
れる。(2)〜(4)式のＲ基は(1)式のＲ基と同じであ
り、とくに炭化水素基を示し、Ｙ基は アシロキシ基 R′COO− ……(5) アミド基

【式】 アミノ基

【式】 アミノキシ基

【式】 オキシム基

【式】 から選ばれた任意の基を示す。(7)〜(9)式のＲ基は
(1)式のＲ基と同じであり、とくに炭化水素基を示
す。また(5)〜(9)式のR′基は(1)式のＲ基と同じも
の、とくに炭化水素基または水素原子を示す。(3)
および(4)式のｎおよびｍは、０または正の整数を
示し、ｌは２以上の正の整数を示す。これらの
ｎ，ｍおよびｌが通常20以下、さらには10以下程
度のものを使用することが多い。 (3)式のａおよびｃは、０，１，２または３を示
し、ｂは０，１または２を示し、（ａ＋mb＋ｃ）
は少なくとも３である。また(4)式のｄは１または
２を示し、ldは少なくとも３である。 (5)式のアシロキシ基を例示すると、ホルミルオ
キシ、アセトキシ、プロピオニルオキシ、バレロ
イルオキシ、２−エチルヘキソイルオキシ、ミリ
スチルオキシおよびステアロイルオキシ等であ
り、とくにアセトキシを用いることが多い。 (6)式のアミド基を例示すると、上記各アシロキ
シ基に相当する各アミド基およびこれらの例えば
Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ−ブチルアセトアミ
ド、Ｎ−シクロヘキシルアセトアミド等のごと
き、Ｎ−炭化水素置換体等であり、アセトアミド
やＮ−アルキルアセトアミド類を用いることが多
い。 (7)式のアミノ基を例示すると、メチルアミノ、
ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチルアミ
ノ、プロピルアミノ、ジプロピルアミノ、イソプ
ロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ｎ−ブチ
ルアミノ、ジ−ｎ−ブチルアミノ、sec−ブチル
アミノ、ジ−sec−ブチルアミノ、オクチルアミ
ノ、ジオクチルアミノ、シクロヘキシルアミノ、
ジシクロヘキシルアミノ、エチルメチルアミノ、
secブチルシクロヘキシルアミノ、ジフエニルア
ミノおよびメチルフエニルアミノ等であり、ジエ
チルアミノ、ジ−ｎ−ブチルアミノ、ジsecブチ
ルアミノ、ジシクロヘキシルアミノ、secブチル
シクロヘキシルアミノ等を用いることが多い。 (8)式のアミノキシ基を例示すると、上記アミノ
基に相当する各アミノキシ基であり、ジメチルア
ミノキシ、ジエチルアミノキシ、ジブチルアミノ
キシ、ジオクチルアミノキシ等を用いることが多
い。 (9)式のオキシム基を例示すると、アセトアルド
キシム、ジメチルケトオキシム、メチルエチルケ
トオキシム、ジエチルケトオキシム、ジイソプロ
ピルケトオキシム、シクロヘキサノオキシム、ク
ロルシクロヘキサノオキシム、メチルフエニルケ
トオキシムおよびジフエニルケトオキシム等であ
り、ジメチルケトオキシムやメチルエチルケトオ
キシムを用いることが多い。 (2)式で示されるシラン類を例示すると、メチル
トリ（アセトキシ）シラン、エチルトリ（アセト
キシ）シラン、ビニルトリ（アセトキシ）シラ
ン、メチルトリ（Ｎ−メチルアセトアミド）シラ
ン、メチルトリ（Ｎ−ブチルアセトアミド）シラ
ン、メチルトリ（Ｎ−シクロヘキシルアセトアミ
ド）シラン、メチルトリ（ｎ−ブチルアミノ）シ
ラン、メチルトリ（sec−ブチルアミノ）シラン、
メチルトリ（シクロヘキシルアミノ）シラン、メ
チルsec−ブチルアミノジ（シクロヘキシルアミ
ノ）シラン、メチルジ（sec−ブチルアミノ）シ
クロヘキシルアミノシラン、メチルトリ（NN−
ジエチルアミノキシ）シラン、メチルトリ（ジメ
チルケトオキシム）シラン、メチルトリ（メチル
エチルケトオキシム）シラン、ビニルトリ（ジメ
チルケトオキシム）シラン、ビニルトリ（メチル
エチルケトオキシム）シラン、メチルトリ（メト
キシ）シラン、メチルトリ（エトキシ）シラン、
メチルトリ（エトキシメトキシ）シラン、メチル
トリ（ビニルオキシ）シラン、メチルトリ（イソ
プロペニルオキシ）シラン、Ｎ−アミノエチルア
ミノプロピルトリ（エトキシ）シラン、メチルシ
クロヘキシルアミノジ（メチルエチルケトオキシ
ム）シランおよびメチルジ（シクロヘキシルアミ
ノ）（メチルエチルケトオキシム）シラン等であ
る。 (3)および(4)式で示されるシロキサン類としては
１般式 RpSiY₄−ｐ ……(11) で示されるシラン類の部分加水分解により生成し
たと考えられる構造を有するシロキサン類が通常
使用される。(11)式のＲ基およびＹ基は(2)ないし(4)
式のＲ基およびＹ基とそれぞれ同じであり、ｐは
０，１，２または３を示す。 (3)および(4)式で示されるシロキサン類をジエチ
ルアミノキシタイプにつき比較的簡単な例を各２
例示すと および のごとくである。 (ロ)成分として使用される(2)〜(4)式の化合物にお
いて、１分子中に種々のＲ基やＹ基を有する化合
物、さらにはこれらの混合物や種々のｎ，ｍ，ｌ
値を有する化合物の混合物が使用し得るのは当然
であり、また(3)または(4)式の化合物としてＲ基の
ごとく一部が水酸基である化合物も一般に使用可
能である。また(2)〜(4)式には該当しないがイソプ
ロペニルオキシ基について例示する次式 や のごとき化合物も本発明の(ロ)成分として使用し得
るのは当然である。なお〓式のｎは正の整数を示
す。 これらの(ロ)成分の使用量は使用する(ロ)成分の種
類、他の成分の種類や使用量、製造方法、生成組
成物の使用方法や使用条件その他により異なる
が、通常(イ)成分に対し0.2〜30重量％好ましくは、
0.5〜15重量％使用する。0.2重量％以下では非常
に短時間に組成物がゲル化して、製造や使用が困
難であり、また30重量％以上では一般に硬化に長
時間を要し使用困難である。 本発明で使用する(ハ)成分であるアシロキシ基、
アミド基、アミノ基およびアミノキシ基から選ば
れた基４個が１個の珪素原子に結合しているシラ
ン類は一般式 SiZ₄ ……(19) で示されるシラン類である。(19)式のＺ基は(5)式の
アシロキシ基、(6)式のアミド基、(7)式のアミノ基
および(8)式のアミノキシ基から選ばれた任意の基
を示し、その例は(ロ)成分の説明で示した各基であ
る。(19)式で示されるシラン類を例示すると、テト
ラ（アセトキシ）シラン、テトラ（Ｎ−メチルア
セトアミド）シラン、テトラ（Ｎ−ブチルアセト
アミド）シラン、テトラ（Ｎ−シクロヘキシルア
セトアミド）シラン、テトラ（ｎ−ブチルアミ
ノ）シラン、テトラ（sec−ブチルアミノ）シラ
ン、テトラ（シクロヘキシルアミノ）シラン、
secブチルアミノトリ（シクロヘキシルアミノ）
シラン、ジ（secブチルアミノ）ジ（シクロヘキ
シルアミノ）シラン、トリ（secブチルアミノ）
（シクロヘキシルアミノ）シラン、テトラ（NN
−ジエチルアミノキシ）シラン、テトラ（ジメチ
ルケトオキシム）シラン、等である。 上記例のごとく(ハ)成分としては(19)式のシラン類
において種々のＺ基を有するシラン類や２種以上
のシラン類の混合物の使用も可能である。(19)式の
シラン類は一般に原料として例えば、RSiCl₃の
代りにSiCl₄を用いることにより(2)式のシラン類
と同様の方法で製造することができる。 これらの(ハ)成分の使用量は、使用する(ハ)成分の
種類、他の成分の種類や使用量、製造方法、生成
組成物の使用方法や使用条件その他により異なる
が通常(ロ)成分に対し、0.1〜100重量％、好ましく
は0.5〜70重量％使用する。0.1重量％以下では(ハ)
成分使用の効果が、ほとんど認められず、また
100重量％を越えても(ハ)成分使用の効果は、ほと
んど向上せず、さらに硬化後のエラストマーが硬
くなる等のエラストマーとしての物性が低下する
場合が多い。従つて(ハ)成分は(ロ)成分に比し一般に
高価なこともあり、(イ)成分と(ハ)成分からなる組成
物は一般的には製造が難しくまた使用困難であ
る。 本発明のシリコーン組成物には従来公知の水分
に触れると室温下でエラストマーを形成するシリ
コーン組成物に使用されている他の物質を配合す
ることができ、これらの他の物質を配合すること
が多い。かかる物質の例としては、充填剤、縮合
触媒、顔料、染料、香料、殺菌剤、防カビ剤、腐
蝕防止剤、帯電防止剤、酸化防止剤、熱安定剤、
難燃剤、溶剤、可塑剤、鎖延長剤、接着性改良
剤、安定剤、オルガノポリシロキサン樹脂、有機
樹脂、遮光剤および発泡剤等である。 本発明組成物に使用し得る充填剤としては、従
来公知の水分に触れると室温下でエラストマーを
形成するシリコーン組成物に使用されている充填
剤は、全て使用することができる。かかる充填剤
としては、まず補強性充填剤と称されている例え
ば、少なくとも20m²／ｇ好ましくは50m²／ｇ通常
150〜400m²／ｇのごとき、大きな表面積を有する
熱分解法二酸化珪素、沈降法二酸化珪素、二酸化
チタン、酸化第二鉄、酸化アルミニウム、酸化亜
鉛、カーボンブラツク等や非補強性充填剤と称さ
れる例えば、20m²／ｇ未満のごとき、小さな表面
積を有する石英粉末、珪藻土、珪酸カルシウム、
珪酸ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシ
ウムマグネシウム、モレキユラー特性を有する焼
成珪酸アルミニウム、粉末状珪酸アルミニウムナ
トリウム、チヨーク、タルク、ベントナイト等が
ある。また石綿、ガラス繊維、アルミナ繊維、金
属繊維等の無機繊維および各種有機繊維等の例え
ば、0.5mmの平均長を有する繊維等の各種繊維状
充填剤も使用することができる。さらにこれらの
充填剤を例えば、ジメチルジクロルシラン、トリ
メチルエトキシシランやステアリン酸または、こ
れらの混合物等のいわゆる疎水化剤で処理したも
のを使用することが多い。 本発明の組成物を製造する場合、補強性充填剤
の混合物、非補強性充填剤の混合物または、これ
ら両者の混合物等を使用できる。これらの充填剤
は、本発明の目的を損なわない範囲の任意の量を
使用することができるが、通常(イ)成分の１〜300
重量％程度使用していることが多い。 また、本発明の組成物においては、可使時間と
硬化時間の調節（両立）を容易にするため等の目
的で少量の縮合触媒を用いるが、その使用量は従
来公知の組成物に比べて少なくすることができ
る。また縮合触媒を使用しなくてもよい場合もあ
る。 これらの縮合触媒としては、ジブチル錫ジアセ
テート、ジブチル錫ジラウレート、ブチル錫トリ
−２−エチルヘキソエート、カプリル酸第一錫、
ナフテン酸錫、オレイン酸錫、酪酸錫、ナフテン
酸チタン、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸コバル
ト、ステアリン酸亜鉛、鉛−２−エチルオクトエ
ート、鉄−２−エチルヘキソエート、コバルト−
２−エチルヘキソエート、マンガン−２−エチル
ヘキソエート、亜鉛−２−エチルヘキソエート等
のカルボン酸金属塩類、テトラブチルチタネー
ト、テトラ−２−エチルヘキシルチタネート、テ
トラオクタデシルチタネート、テトラフエニルチ
タネート、トリエタノールアミンチタネート、テ
トラ（イソプロペニルオキシ）チタネート等の有
機チタン酸エステル類、トリイソプロポキシアル
ミニウム等のアルコキシアルミニウム化合物類、
ヘキシルアミン、リン酸ドデシルアミン等のアミ
ン化合物およびその塩類、ベンジルトリエチルア
ンモニウムアセテート等の第四級アンモニウム塩
類、酢酸カリウム、酢酸ナトリウム、蓚酸リチウ
ム等のアルカリ金属の低級脂肪酸塩類、ジメチル
ヒドロキシルアミン、ジエチルヒドロキシルアミ
ン等のジアルキルヒドロキシルアミン類、テトラ
メチルグアニジン等のグアニジン化合物、ジブチ
ル錫ブトキシクロライド、ビス（ジブチル錫アセ
テート）オキサイド、ビス（ジブチル錫ラウレー
ト）オキサイド、ビス（ジブチル錫ステアレー
ト）オキサイド、ビス（ジメチル錫オレエート）
オキサイド、ビス（ブチルフエニル錫アセテー
ト）オキサイド、ビス（トリベンジル錫）オキサ
イド、ビス（ジエチル錫クロライド）オキサイ
ド、ビス（ジブチル錫クロライド）オキサイド、
ビス（ジアミル錫クロライド）オキサイド、ブチ
ルフエニルベンジル錫ハイドロオキサイド、トリ
ス（Ｐ−クロロフエニル）錫ハイドロオキサイ
ド、（ジメチル錫マレエート）ハイドロオキサイ
ド、（ジブチル錫クロライド）ハイドロオキサイ
ド、Si〔OSn（ｎ−C₄H₉）₂OOC CH₃〕₄，CH₃Si
〔OSn（ｎ−C₄H₉）₂OOC CH₃〕₃，C₆H₆Si〔Ｏ Sn
（ｎ−C₄H₉）₂OOC CH₃〕₃等の錫化合物類および
錫、チタン、グアニジル基等を含有するオルガノ
シロキサン類等を単独または混合して使用する。 これらの触媒を使用する場合には通常(イ)成分の
0.0001〜10重量％好ましくは0.001〜２重量％使
用する。 その他の配合物のいくつかについて若干の例を
示すと、室温で液状のトリメチルシロキサン基等
の末端を有するジメチルポリシロキサン類、燐酸
エステル類、石油ワツクスやポリエチレンワツク
ス等の可塑剤、γ−グリシジルオキシプロピルド
基、γ−アミノプロピル基等の極性基含有炭化水
素基を有するシラン類等の接着改良剤、ポリアル
キレングリコール類等の安定剤および塩化ビニ
ル、アクリロニトリル、スチレン、酢酸ビニル、
エチレン等の単独重合体や共重合体等の有機樹脂
等である。 本発明の組成物は、一般に従来公知の水分に触
れると、室温下でエラストマーを形成するシリコ
ーン組成物と同様の方法で製造することができ
る。すなわち、本発明の組成物は必要に応じて任
意の順番に混合することができるが、通常(ハ)成分
は(ロ)成分と、さらに必要なら可塑剤や溶剤等の他
の不活性成分と、予かじめ混合して(イ)成分等と混
合するのが便利な場合が多い。また、この混合は
通常室温下で好ましくは、水分の排除下で行なう
が、水分の排除が充分であれば、高温での混合が
可能な場合も多く、均一な混合が得易い等の利点
がある場合がある。 本発明の組成物は、調製後チユブやカートリツ
ジ等の容器中に密封し、水分を遮断して保存し必
要に応じて容器より取出して使用する一液性室温
硬化型シリコーン組成物としてとくに有用である
が、また使用時に混合するいわゆる二液性室温硬
化型シリコーン組成物としても使用することがで
きる。一液性組成物として使用する場合には、本
発明の組成物は、またとくに保存時の安定性が良
い。すなわち、硬化等の変質なしでの長時間の保
存が可能であり、また高温での貯蔵が可能である
等の利点も有しており、使用時には室温下で容易
に優れたゴム弾性体を形成する。二液性組成物と
して使用する場合には、二成分の各成分は種々の
組合せが可能であるが、(ロ)および(ハ)成分を使用時
に(イ)成分と混合するのが有利な場合が多い。 本発明の組成物は、空気中の通常の湿気で充分
硬化し、高湿度、低湿度下等かなり広範囲の湿度
域での使用が可能である。また温度も室温下はも
ちろん高温下、低温下等広範囲での使用が可能で
あり、とくに低温例えば−10〜10℃のごとき温度
での利点が大きい。 次に実施例を示す。 実施例 １ 25℃における粘度が、500000mPasである未端
ヒドロキシル基を有するジメチルポリシロキサン
100重量部、23℃における粘度が35mPasのトリ
メチルシロキシ基によつて末端ブロツキングされ
たジメチルポリシロキサン40重量部、疎水処理を
した熱分解法二酸化珪素10重量部、ジ−ｎ−ブチ
ル錫ジラウレート0.2重量部、メチルトリ（メチ
ルエチルケトオキシム）シラン５重量部およびテ
トラ（アセトキシ）シラン0.1重量部から成る組
成物をプラネタリ−ミキサーを使用し、常法によ
り調製し、アルミ製チユーブに充填し供試体とし
た。この組成物についてJIS Ａ−5758に準じ、タ
ツクフリータイムを測定した。また硬化の状態を
測定するため５℃、60％RHの条件下で、２枚の
基材の一定の隙間に組成物を詰め、所定時間放置
した後、隙間の長さの10％の引張変形を与えた際
に、表面被膜にひび割れを生じなくなる時間（す
なわち、伸びのある強靭な被膜を形成する時間、
被膜形成時間と称す）を測定した。その結果、60
％RH、５℃および30℃の条件下のタツクフリー
タイムは、19分および８分と温度依存性が少な
く、また被膜形成時間も170分と非常に良好な組
成物を得た。一般的なゴム物性についてもJIS Ａ
−5758に準じて測定した結果、最大引張応力14
Kg／cm²、破断時の伸び350％、100％引張応力5.2
Kg／／cm²であり、また硬度は22と良好なゴム物性
を有するエラストマーを形成した。 比較例 １ 実施例１でテトラ（アセトキシ）シラン無添加
の場合の組成物は、タツクフリータイムは32分
（５℃）および４分（30℃）と温度依存性が大き
く、また被膜形成時間は24時間以上と長く、良好
な組成物ではなかつた。 また硬化後のエラストマーのゴム物性は、最大
引張応力14Kg／cm²、破断時の伸び500％、100％引
張応力3.7Kg／cm²、硬度21であつた。 比較例 ２ 実施例１でテトラ（アセトキシ）シランおよび
メチルトリ（メチルエチルケトオキシム）シラン
の代りに、テトラ（メチルエチルケトオキシム）
シランを５重量部使用した組成物を５℃、40％の
条件下でプラネタリーミキサーを用いて調製を試
みたが表面の硬化が早いため、部分的に硬化物の
混ざつた組成物しか得られなかつた。 実施例 ２ 25℃における粘度が、300000mPasである末端
ヒドロキシル基を有するジメチルポリシロキサン
100重量部、疎水処理をした熱分解法二酸化珪素
10重量部、ジ−ｎ−ブチル錫ジアセテート0.03重
量部、メチルトリ（アセトキシ）シラン５重量部
およびテトラ（アセトキシ）シラン0.1重量部よ
りなる組成物はタツクフリータイムが、22分（５
℃）および７分（30℃）と温度依存性が小さくま
た被膜形成時間も180分と短かく良好な組成物で
あつた。ゴム物性についても、最大引張応力17
Kg／cm²、破断時の伸び230％、100％引張応力7.1
Kg／cm²、硬度32と良好な値を得た。 実施例 ３ 実施例２のジ−ｎ−ブチル錫ジアセテートを
0.1重量部とする以外は同じである組成物は、タ
ツクフリータイムは20分（５℃）および３分（30
℃）、被膜形成時間が160分であつた。 実施例 ４ 25℃における粘度が、300000mPasである末端
ヒドロキシル基を有するジメチルポリシロキサン
100重量部、熱分解性二酸化珪素10重量部、ジ−
ｎ−ブチル錫ジラウレート0.1重量部、テトラ
（シクロヘキシルアミノ）シラン0.2重量部および
メチルトリ（Ｎ−メチルアセトアミド）シラン５
重量部からなる組成物においても良好な結果が得
られた。 実施例 ５ 実施例４でメチルトリ（Ｎ−メチルアセトアミ
ド）シランの代りにメチルトリ（シクロヘキシル
アミノ）シラン５重量部を使用し、ジ−ｎ−ブチ
ル錫ジラウレートを使用しない組成物も実施例７
と同様良好な結果を得た。 実施例 ６ 実施例５でメチルトリ（シクロヘキシルアミ
ノ）シランの半分をメチルトリ（メチルエチルケ
トオキシム）シランに代え、ジ−ｎ−ブチル錫ジ
ラウレートを0.1重量部使つた組成物についても
良好な結果を得た。 実施例 ７ 実施例４でメチルトリ（Ｎ−メチルアセトアミ
ド）シランの代りにメチルトリ（NN−ジエチル
アミノキシ）シラン５重量部を使用した組成物も
良好な結果を得た。 実施例 ８ 実施例１でテトラ（アセトキシ）シランの代り
にテトラ（シクロヘキシルアミノ）シラン0.3重
量部を使つた組成物は、実施例１と同様良好な組
成物であつた。 実施例 ９ 実施例１でテトラ（アセトキシ）シランの代り
にテトラ（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノキシ）シラン
0.3重量部を使つた組成物も、実施例１と同様良
好な結果を示した。 実施例 10 実施例４でテトラ（シクロヘキシルアミノ）シ
ランの代りにテトラ（Ｎ−メチルアセトアミド）
シラン0.5重量部を用いて同様に良好な組成物を
得た。 実施例 11 実施例５でメチルトリ（シクロヘキシルアミ
ノ）シランの半量をメチルトリ（sec−ブチルア
ミノ）シランに代えた組成物でも、同様な好結果
を得た。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ (イ) 反応性末端基を有するジオルガノポリシ
   ロキサン (ロ) アシロキシ基、アミド基、アミノ基、アミノ
   キシ基およびオキシム基から選ばれた基を１分
   子当り少なくとも３個有し、１個の珪素原子に
   は、これらの基が３個以下結合している構造を
   有する化合物よりなる有機珪素化合物および (ハ) アシロキシ基、アミド基、アミノ基およびア
   ミノキシ基から選ばれた基４個が１個の珪素原
   子に結合しているシラン類を必須成分とするこ
   とを特徴とする室温硬化型シリコーンエラスト
   マー組成物。 ２ (イ) 成分が水酸基末端ジオルガノポリシロキ
   サン (ロ) 成分が少なくとも３個のオキシム基を有する
   有機珪素化合物および (ハ) 成分が４個のアシロキシ基またはアミノ基を
   有するシラン類である特許請求の範囲１項記載
   の組成物。