JPH0453952A - レチクル洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置製造工程中のフォトリソグラフィ工
程で使用されるレチクルの洗浄装置に関し、特に洗浄後
にレチクルを乾燥させる乾燥部の構成に関する。

〔従来の技術〕

従来、この種のレチクル洗浄装置は、第２図〜第４図の
ブロック図に示すようにブラシ、ジェット、超音波等に
よる純水洗浄を行なったあとのレチクル表面の乾燥方式
として、スピンドライヤーによる遠心乾燥方式（第２図
）、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）で置換した後の
フロン蒸気によるフロン蒸気乾燥方式（第３図）、ＩＰ
Ａ蒸気によるＩＰＡ蒸気乾燥方式（第４図）等が行なわ
れていた。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来の方式では、レチクル周辺の雰囲気に含ま
れる微小ごみ及び洗浄液中に含まれる微小ごみで、特に
有機系のごみがレチクルの乾燥時（レチクル表面の水分
の蒸発時）に凝縮され、しみ状となってレチクル面に残
ってしまうという欠点がある。

上述した従来方式によるレチクル洗浄装置に対し、本発
明は蒸溜水製造システムによって作り出された蒸溜水を
、不活性ガス雰囲気中に設置された蒸溜水シャワー槽内
でレチクル上に流し、レチクル表面を微小ごみが全くな
い蒸溜水で置換したあと自然乾燥させる乾燥部を設けた
という相違点を有する。

〔課題を解決するための手段〕

本発明のレチクル洗浄装置は、乾燥部に不活性ガス雰囲
気に満たされたチャンバーと、該チャンバー内に設置さ
れた蒸溜水シャワー槽と、該チャンバー外に設けられた
蒸溜水製造システムを有している。

〔実施例〕

次に本発明について図面を参照して説明する。

第１図は本発明の一実施例を示すブロック、図である。

レチクル収納部より取り出されたレチクルは洗浄部へ送
られ、洗浄液によりブラシ、ジェット、超音波等の手段
により洗浄され、レチクル上の有機及び無機系のごみが
物理的にレチクル上から剥離され洗浄液中へ浮遊する。

洗浄部より引き上げられたレチクルは未乾燥である為、
レチクル上に残る洗浄液中には前記ごみが浮遊している
。

次にレチクルは乾燥部へ運ばれ、ごみを全く含まない不
活性ガス３で満たされたチャンバー１内の蒸溜水シャワ
ー檜２で、蒸溜水製造システム５によって作りだされた
不純物を全く含まない蒸溜水をノズル４よりレチクル上
ヘシャワーする。レチクル表面の洗浄液を蒸溜水によっ
て置換した後にチャンバー１内で自然乾燥させ、その後
レチクル収納部へレチクルを送る。

〔発明の効果〕

以上説明した様に本発明は、ごみを全く含まない不活性
ガス雰囲気中で、不純物を全く含まない蒸溜水によって
レチクル表面を置換したあと自然乾燥させることにより
、レチクルの乾燥時にしみ等を発生させない効果がある
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示すブロック図、第２図〜
第４図は従来のレチクル洗浄装置を示すブロック図であ
る。 １・・・チャンバー、２・・・蒸溜水シャワー槽、３・
・・不活性ガス、４・・・蒸溜水シャワーノズル、５・
・・蒸溜水製造システム。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　洗浄後のレチクルを乾燥させる乾燥部を有するレチク
   ル洗浄装置において、乾燥部が不活性ガス雰囲気に満た
   されたチャンバーと、該チャンバー内に設けられた蒸溜
   水シャワー槽と、該チャンバー外に設けられた蒸溜水製
   造システムにより構成されることを特徴とするレチクル
   洗浄装置。