JPH0454193A - 2’,3’―ジデオキシ―2’,3’―ジデヒドロ―β―リボヌクレオシドの製造方法 - Google Patents
2’,3’―ジデオキシ―2’,3’―ジデヒドロ―β―リボヌクレオシドの製造方法Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、それ自体かエイズウィルス等に対して抗ウィ
ルス作用を有する化合物であると共に、他の医薬上有用
な関連化合物の原料である2°、3ジデオキン−2°、
3°−ジデヒドロ−β−リボヌクレオシドの製造方法に
関する。
ルス作用を有する化合物であると共に、他の医薬上有用
な関連化合物の原料である2°、3ジデオキン−2°、
3°−ジデヒドロ−β−リボヌクレオシドの製造方法に
関する。
従来、2°、3−ジテオキン−2’、3’−ジデヒドロ
β−リボヌクレオンドの製造方法としては、(i)リボ
ヌクレオシド誘導体、または(ii)2−デオキシリボ
ヌクレオシド誘導体から選択的に2゛位および3゛位の
水酸基を脱離する方法か知られている。
β−リボヌクレオンドの製造方法としては、(i)リボ
ヌクレオシド誘導体、または(ii)2−デオキシリボ
ヌクレオシド誘導体から選択的に2゛位および3゛位の
水酸基を脱離する方法か知られている。
(i)の例としては、例えばウリジンの2.3環状オル
トエステルを熱分解する方法(ジャーナル・オブ・オー
ガニックケミスト−CJ、OrgChe■、)1988
年第53巻第5170頁等)等か挙げられる。
トエステルを熱分解する方法(ジャーナル・オブ・オー
ガニックケミスト−CJ、OrgChe■、)1988
年第53巻第5170頁等)等か挙げられる。
(ii)の例としては、2′−デオキシリボヌクレオシ
ド誘導体を3゛、5“−シメシレートに変換し、さらに
3°、5゛−アンヒドロ体とした後、強塩基を用いて導
く方法(ジャーナル・オブ・メヂシナル・ケミストリー
(J、Mcd、Chcm、)、1989年第32巻第4
6頁等)等が挙げられる。
ド誘導体を3゛、5“−シメシレートに変換し、さらに
3°、5゛−アンヒドロ体とした後、強塩基を用いて導
く方法(ジャーナル・オブ・メヂシナル・ケミストリー
(J、Mcd、Chcm、)、1989年第32巻第4
6頁等)等が挙げられる。
しかしながら、前記の方法(1)においてはウリジン以
外には適用できない。また、方法(2)においては、原
料の2−デオキシリボヌクレオンドか資源的に制約を受
ける。さらに、両方法ともに、天然から得られるリボヌ
クレオシド誘導体を原料としており、また原料化合物に
化学的修飾を行って一旦非天然りボヌクレオシドを製造
した後に、目的の2′、3−ジデオキシ−2′、3−ジ
デヒドロ−β−リボヌクレオンド誘導体へと導く必要か
ある。
外には適用できない。また、方法(2)においては、原
料の2−デオキシリボヌクレオンドか資源的に制約を受
ける。さらに、両方法ともに、天然から得られるリボヌ
クレオシド誘導体を原料としており、また原料化合物に
化学的修飾を行って一旦非天然りボヌクレオシドを製造
した後に、目的の2′、3−ジデオキシ−2′、3−ジ
デヒドロ−β−リボヌクレオンド誘導体へと導く必要か
ある。
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、より
選択的かつ高収率に 2°、3°−ジテオキン2°、3
゛−ジデヒドロ−β−リボヌクレオシドを製造すること
できる製造方法を提供するものである。
選択的かつ高収率に 2°、3°−ジテオキン2°、3
゛−ジデヒドロ−β−リボヌクレオシドを製造すること
できる製造方法を提供するものである。
上記課題を解決するために、本発明の発明者等は、5−
置換ピリミジン誘導体と 2−オルガノチオ2.3−ジ
デオキシ−ペントフラノース誘導体をルイス酸の/f存
在下縮合することにより、効率よく且つ85%以上の高
いβ体選択率で反応か進行し、その後に酸化、熱分解及
び脱保護を行うことにより、2゛、3−ジデオキシ−2
゛、3−ジデヒドロ−βリボヌクレオシド誘導体か得ら
れることを見出たした。
置換ピリミジン誘導体と 2−オルガノチオ2.3−ジ
デオキシ−ペントフラノース誘導体をルイス酸の/f存
在下縮合することにより、効率よく且つ85%以上の高
いβ体選択率で反応か進行し、その後に酸化、熱分解及
び脱保護を行うことにより、2゛、3−ジデオキシ−2
゛、3−ジデヒドロ−βリボヌクレオシド誘導体か得ら
れることを見出たした。
すなわち、本発明は、(a)下記一般弐で示される5−
置換ピリミジン誘導体(VI)と、下記一般弐で示され
る2、3−ジデオキシ−2−(オルガノチオ)ペントフ
ラノース誘導体(V)とをルイス酸の存在下で反応させ
、下記一般弐で示される1−(2,3−ジデオキシ−2
−オルガノチオ−β−D−ペントフラノシル)ピリミジ
ン誘導体(■)を得る上程と、yR’ 但し、式中のR1−R5、X1YおよびZは次のものを
表す。
置換ピリミジン誘導体(VI)と、下記一般弐で示され
る2、3−ジデオキシ−2−(オルガノチオ)ペントフ
ラノース誘導体(V)とをルイス酸の存在下で反応させ
、下記一般弐で示される1−(2,3−ジデオキシ−2
−オルガノチオ−β−D−ペントフラノシル)ピリミジ
ン誘導体(■)を得る上程と、yR’ 但し、式中のR1−R5、X1YおよびZは次のものを
表す。
R】〜R3,アルキル基またはフェニル基。
これらは同じても異なってもよく、
また置換されていてもよい。
R4,水酸基の保護基。
R9,アルキル基またはフェニル基。これは置換されて
いてもよい。
いてもよい。
X:酸素原子または窒素1#子。窒素1皇子(よ他の原
子若しくは原子団を何する。
子若しくは原子団を何する。
Y・水素原子、)10ゲン1皇子、アルキルたはアルケ
ニル基。アルキル ルケニル基はノ10ケン原子て置換されていてもよい。
ニル基。アルキル ルケニル基はノ10ケン原子て置換されていてもよい。
Z.ハロゲン原子、アシロキシ基、アルキルオキシ
ルオキシ
置換されていてもよ(1。
(b)工程(a)で得?l:l−(2.3−ジデオキシ
2−オルガノチオ−βーDーペントフラノシル)ピリミ
ジン誘導体(IV)を、過酸化物の存在下で酸化し、下
記一般式で示されるl−(2.3−ジデオキシ−2−オ
ルガノスルフィニル−β−D−ペントフラノシル)ピリ
ミジン誘導体(III)を得る工程と、(C)工程(b
)で得たI−(2.3〜ジデオキシ−2−オルガノスル
フィニル−β−D−ペントフラノシル)ピリミジン誘導
体(m)を、熱離脱反応に付することにより下記一般式
で示される1−(2.3−ジデオキシ−2.3−ジデヒ
ドロ−β−D−ペントフラノシル)ピリミジン誘導体(
II)を得る工程と、及び (d)工程(c)で得た1−(2.3−ジデオキシ−2
.3−ジデヒドロ−βーDーペントフラノシル)ピリミ
ジン誘導体(n)を、保護基の脱保護反応に付すること
により下記一般式で示される2’.3 −ジデオキシ−
2′,3°−ジデヒドロ−βーIJボヌクレオシド誘導
体(1) 第二の化合物は、下記一般弐で示されるを得る工程とを
具備したことを特徴とする2°、3−ジデオキシ−2’
、3’−ジデヒドロ−β−リボヌクレオンド誘導体(1
)の製造方法である。
2−オルガノチオ−βーDーペントフラノシル)ピリミ
ジン誘導体(IV)を、過酸化物の存在下で酸化し、下
記一般式で示されるl−(2.3−ジデオキシ−2−オ
ルガノスルフィニル−β−D−ペントフラノシル)ピリ
ミジン誘導体(III)を得る工程と、(C)工程(b
)で得たI−(2.3〜ジデオキシ−2−オルガノスル
フィニル−β−D−ペントフラノシル)ピリミジン誘導
体(m)を、熱離脱反応に付することにより下記一般式
で示される1−(2.3−ジデオキシ−2.3−ジデヒ
ドロ−β−D−ペントフラノシル)ピリミジン誘導体(
II)を得る工程と、及び (d)工程(c)で得た1−(2.3−ジデオキシ−2
.3−ジデヒドロ−βーDーペントフラノシル)ピリミ
ジン誘導体(n)を、保護基の脱保護反応に付すること
により下記一般式で示される2’.3 −ジデオキシ−
2′,3°−ジデヒドロ−βーIJボヌクレオシド誘導
体(1) 第二の化合物は、下記一般弐で示されるを得る工程とを
具備したことを特徴とする2°、3−ジデオキシ−2’
、3’−ジデヒドロ−β−リボヌクレオンド誘導体(1
)の製造方法である。
また、本発明は上記製造方法の工程(a)で得られる特
定の中間体化合物を提供する。
定の中間体化合物を提供する。
第一の化合物は、下記一般弐で示される。
第三の化合物は、下記一般弐で示される。
又
但し、第三の化合物は下記一般弐で示される互変異性体
になりやすい。従って、第三の化合物はこの互変異性体
(下記一般弐)をも含むものとして解釈されるべきもの
である。
になりやすい。従って、第三の化合物はこの互変異性体
(下記一般弐)をも含むものとして解釈されるべきもの
である。
災
以下、本発明の製造方法をさらに詳細に説明する。
まず、出発原料の−っである5−置換ピリミジン誘導体
(VI)は、ピリミジン塩基の2位のカルボニル基及び
4位のX基をシリル化し、トリオルガノシリル基を導入
して得られる。5−置換ピリミジン誘導体のシリル化は
、例えば、H,vorb+ ggen。
(VI)は、ピリミジン塩基の2位のカルボニル基及び
4位のX基をシリル化し、トリオルガノシリル基を導入
して得られる。5−置換ピリミジン誘導体のシリル化は
、例えば、H,vorb+ ggen。
K、Kroliewicz、B、Bennua che
m、Ber、、114 、1234(1981)に記載
されている方法、すなわち、ピリミジン塩基のへキサメ
チルジシラザン懸濁液に、トリメチルシリルクロリドを
加え、アルゴンガス雰囲気下で加熱還流する方法により
行えるが、特にこの方法に限定されるものではない。
m、Ber、、114 、1234(1981)に記載
されている方法、すなわち、ピリミジン塩基のへキサメ
チルジシラザン懸濁液に、トリメチルシリルクロリドを
加え、アルゴンガス雰囲気下で加熱還流する方法により
行えるが、特にこの方法に限定されるものではない。
前記ピリミジン塩基としては、核酸から分解して得られ
るチミン、ウラノル、ントノン及び通常の方法により合
成して得られるそれ以外のピリミジン塩基を用いること
ができる。
るチミン、ウラノル、ントノン及び通常の方法により合
成して得られるそれ以外のピリミジン塩基を用いること
ができる。
シリル化により導入される5−置換ピリミンン誘導体(
VI)のトリオルガノシリル基は、通常の水酸基または
アミノ基の保護基として用いられるもの、例えば、トリ
メチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基、フェニ
ルジメチルンリル基等であるが、特に限定されない。
VI)のトリオルガノシリル基は、通常の水酸基または
アミノ基の保護基として用いられるもの、例えば、トリ
メチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基、フェニ
ルジメチルンリル基等であるが、特に限定されない。
一般弐■中のXは、酸素原子または窒素原子を表す。こ
の窒素原子は、水素原子或いはアルキル基、アンル基等
の原子若しくは原子団をHする。
の窒素原子は、水素原子或いはアルキル基、アンル基等
の原子若しくは原子団をHする。
また、Yは、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子等のハロケン原子、アルキル基またはア
ルケニル基であり、このアルキル基及びアルケニル基は
、ハロゲン原子て置換されていてもよい。
子、ヨウ素原子等のハロケン原子、アルキル基またはア
ルケニル基であり、このアルキル基及びアルケニル基は
、ハロゲン原子て置換されていてもよい。
一方、もう一つの8発物質である2、3−ジデオキシ−
2−<オルガノチオ)ペントフラノース誘導体(V)は
、特開昭64−911号公報(ブリストルマイヤーズ社
出願)に開示されている方法等により得られる5−ヒド
ロキシペンクン−4−オリト誘導体に対し、トロスト等
の方法[ジャーナル・オブ・アメリカンケミカルソサイ
エティー(J、Ai、CheraSoc、) 、197
3年第95巻第8840頁等コ等を用いて2位にオルガ
ノチオ基を導入し、ラクトンカルボニル基を、先の特開
昭64−H号公報(ブリストルマイヤーズ社出願)に開
示されている方法等で還元した後、通常の方法で1位を
変換して得られる。
2−<オルガノチオ)ペントフラノース誘導体(V)は
、特開昭64−911号公報(ブリストルマイヤーズ社
出願)に開示されている方法等により得られる5−ヒド
ロキシペンクン−4−オリト誘導体に対し、トロスト等
の方法[ジャーナル・オブ・アメリカンケミカルソサイ
エティー(J、Ai、CheraSoc、) 、197
3年第95巻第8840頁等コ等を用いて2位にオルガ
ノチオ基を導入し、ラクトンカルボニル基を、先の特開
昭64−H号公報(ブリストルマイヤーズ社出願)に開
示されている方法等で還元した後、通常の方法で1位を
変換して得られる。
ここで、2.3−ジデオキシ−2−(オルガノチオ)ペ
ントフラノース誘導体(V)の5位の水酸基を保護する
理由は、誘導体(V)同士が5位の水酸基て縮合を起こ
すこと、及びペントフラノース形からピラノース形への
転化を防止するためである。
ントフラノース誘導体(V)の5位の水酸基を保護する
理由は、誘導体(V)同士が5位の水酸基て縮合を起こ
すこと、及びペントフラノース形からピラノース形への
転化を防止するためである。
また、5−置換ピリミジン誘導体(VI)との縮合にお
いて、誘導体(V)の5位の水酸基を保護しないと、2
,3〜ジデオキシ−2−(オルガノチオ)ペントフラノ
ースか5−置換ビリミシン菖導体(VI)のンノル保護
基を脱離してピリミジン塩基に変換する。
いて、誘導体(V)の5位の水酸基を保護しないと、2
,3〜ジデオキシ−2−(オルガノチオ)ペントフラノ
ースか5−置換ビリミシン菖導体(VI)のンノル保護
基を脱離してピリミジン塩基に変換する。
このピリミジン塩基そのものは反応性かない。従って、
ンリル保護基の脱離を防止するために誘導体(n)の5
位の水酸基か保護されている。
ンリル保護基の脱離を防止するために誘導体(n)の5
位の水酸基か保護されている。
2.3−ジデオキシ−2−(オルガノチオ)ペントフラ
ノース誘導体(V)の5位の水酸基の保護に用いられる
もの(一般弐■、■、■中のR4も同し)は、ベンジル
基、トリチル基等のアラルキル基、或いはアセチル基、
プロピオニル基、ピノ)ロイル基、ベンゾイル基等のア
シル基、エトキシカルボニル基等のアルキルオキシカル
ホキニル基、フェノキシカルボニル基等のアリールオキ
シカルボニル基、トリメチルシリル基、t〜ブチルジメ
チル基、t−ブチルジフェニル基等のトリオルガノシリ
ル基等、または、これらの保護基かフェニル基を有する
場合はその置換基としてアルキル基、ハロゲン原子、ニ
トロ基、アルコキン基等を有するもの等であるか、特に
限定されない。
ノース誘導体(V)の5位の水酸基の保護に用いられる
もの(一般弐■、■、■中のR4も同し)は、ベンジル
基、トリチル基等のアラルキル基、或いはアセチル基、
プロピオニル基、ピノ)ロイル基、ベンゾイル基等のア
シル基、エトキシカルボニル基等のアルキルオキシカル
ホキニル基、フェノキシカルボニル基等のアリールオキ
シカルボニル基、トリメチルシリル基、t〜ブチルジメ
チル基、t−ブチルジフェニル基等のトリオルガノシリ
ル基等、または、これらの保護基かフェニル基を有する
場合はその置換基としてアルキル基、ハロゲン原子、ニ
トロ基、アルコキン基等を有するもの等であるか、特に
限定されない。
2.3−ジデオキシ−2−(オルガノチオ)ペントフラ
ノース誘導体(V)の2位のオルガノチオ基として用い
られるもの(一般弐■、■中のR5も同し)は、例えば
、メチルチオ基、t−ブチルチオ基等のアルキルチオ基
、ペンンルチオ基等のアラルキルチオ基、フェニルチオ
基等のアリールチオ基等、または、これらの保護基がフ
ェニル基を6−する場合は、その置換基としてアルキル
基、ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシ基等を白−す
るもの等であるが、特に限定されない。
ノース誘導体(V)の2位のオルガノチオ基として用い
られるもの(一般弐■、■中のR5も同し)は、例えば
、メチルチオ基、t−ブチルチオ基等のアルキルチオ基
、ペンンルチオ基等のアラルキルチオ基、フェニルチオ
基等のアリールチオ基等、または、これらの保護基がフ
ェニル基を6−する場合は、その置換基としてアルキル
基、ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキシ基等を白−す
るもの等であるが、特に限定されない。
2.3−ジデオキシ−2−(オルガノチオ)ペントフラ
ノース誘導体(V)の1位の活性基として用いられるも
のは、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のl
\ロゲン原子、メトキシ基等のアルキルチオ基、フェノ
キシ基等のアラルキル基、アラルキル基、プロピオニル
オキシ基、ピバロイルオキシ基、ペンゾイルオキン基等
のアルコキン基、エトキシカルボニルオキシ基等のアル
キルカルボニルオキシ基、フェノキシカルボニルオキシ
基等のアリールオキン力ルポニルオキン基等、または、
これらの保護基かフェニル基を有する場合はその置換基
としてアルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキ
ン基等を有するもの等であるか、特に限定されない。
ノース誘導体(V)の1位の活性基として用いられるも
のは、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のl
\ロゲン原子、メトキシ基等のアルキルチオ基、フェノ
キシ基等のアラルキル基、アラルキル基、プロピオニル
オキシ基、ピバロイルオキシ基、ペンゾイルオキン基等
のアルコキン基、エトキシカルボニルオキシ基等のアル
キルカルボニルオキシ基、フェノキシカルボニルオキシ
基等のアリールオキン力ルポニルオキン基等、または、
これらの保護基かフェニル基を有する場合はその置換基
としてアルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、アルコキ
ン基等を有するもの等であるか、特に限定されない。
工程(a)の2.3−ジデオキシ−2−(オルガノチオ
)ペントフラノース誘導体(V)と5−置換ピリミシン
誘導体(VI)との縮合反応は、5−置換ピリミジン誘
導体(VI)を、2.3−ジデオキシ−2−(オルガノ
チオ)ペントフラノース誘導体(V)に対して等量以上
、好ましくは、1.5当量を用いて、ルイス酸類の存在
下で行われる。このルイス酸類としては、例えば、塩化
スズ(■)、塩化チタン(IV)、トリメチルシリルト
リフルオロメタンスルホナート等かある。この縮合反応
は、例えば、周囲温度で非プロトン性溶媒、例えば、塩
化メチレン、1.2−ジクロロエタン、アセトニトリル
、クロロホルム中において、触媒として有効に働く量、
例えば、20モル%から2.5当量のルイス酸類を用い
て行われる。この縮合反応は、通常3〜15時間で完結
する。その後、必要に応して飽和炭酸水素ナトリウム溶
液での処理および有機溶媒抽出等の後処理を行った後、
結晶化或いはクロマトグラフ等の公知の方法により精製
を行う。これによって、目的の純粋なl−<2.3−ジ
デオキシ−2−オルガノチオ−β−D−ベントフラノン
ル)ピリミジン誘導体(IV)か得られる。後述の実施
例の結果に支持されるように、この反応ではβ異性体の
選択性を極めて高くすることか可能である。これは、ペ
ントフラノース誘導体(V)の2−位に存在するオルガ
ノチオ基の立体効果若しくは隣接及関与によって説明す
ることができる。即ち、実施例で用いたペントフラノー
ス誘導体(V)のオルガノチオ基はα方向にあり、ピリ
ミジン誘導体(IV)のα方向からの接近が阻害される
ため、β異性体の選択性が高くなるものと思われる(但
し、物理的データによる置換方向の確認は未だ行われて
いない)。
)ペントフラノース誘導体(V)と5−置換ピリミシン
誘導体(VI)との縮合反応は、5−置換ピリミジン誘
導体(VI)を、2.3−ジデオキシ−2−(オルガノ
チオ)ペントフラノース誘導体(V)に対して等量以上
、好ましくは、1.5当量を用いて、ルイス酸類の存在
下で行われる。このルイス酸類としては、例えば、塩化
スズ(■)、塩化チタン(IV)、トリメチルシリルト
リフルオロメタンスルホナート等かある。この縮合反応
は、例えば、周囲温度で非プロトン性溶媒、例えば、塩
化メチレン、1.2−ジクロロエタン、アセトニトリル
、クロロホルム中において、触媒として有効に働く量、
例えば、20モル%から2.5当量のルイス酸類を用い
て行われる。この縮合反応は、通常3〜15時間で完結
する。その後、必要に応して飽和炭酸水素ナトリウム溶
液での処理および有機溶媒抽出等の後処理を行った後、
結晶化或いはクロマトグラフ等の公知の方法により精製
を行う。これによって、目的の純粋なl−<2.3−ジ
デオキシ−2−オルガノチオ−β−D−ベントフラノン
ル)ピリミジン誘導体(IV)か得られる。後述の実施
例の結果に支持されるように、この反応ではβ異性体の
選択性を極めて高くすることか可能である。これは、ペ
ントフラノース誘導体(V)の2−位に存在するオルガ
ノチオ基の立体効果若しくは隣接及関与によって説明す
ることができる。即ち、実施例で用いたペントフラノー
ス誘導体(V)のオルガノチオ基はα方向にあり、ピリ
ミジン誘導体(IV)のα方向からの接近が阻害される
ため、β異性体の選択性が高くなるものと思われる(但
し、物理的データによる置換方向の確認は未だ行われて
いない)。
なお、上記工程(a)の説明から明らかなように、工程
(a)においては、2,3−ジデオキシ−2−(オルガ
ノチオ)ペントフラノース誘導体(V)と5−置換ピリ
ミジン誘導体(VI)との縮合と共に、或いは後処理に
おいて、ピリミジン誘導体(VI)からのトリオルガノ
シリル基の脱離か行われる。
(a)においては、2,3−ジデオキシ−2−(オルガ
ノチオ)ペントフラノース誘導体(V)と5−置換ピリ
ミジン誘導体(VI)との縮合と共に、或いは後処理に
おいて、ピリミジン誘導体(VI)からのトリオルガノ
シリル基の脱離か行われる。
しかし、ペントフラノース誘導体(V)の5−位にある
水酸基の保護基R4は脱離されずに残る。その結果、こ
の水酸基は次の酸化工程(b)においても保護される。
水酸基の保護基R4は脱離されずに残る。その結果、こ
の水酸基は次の酸化工程(b)においても保護される。
水酸基の保護基R4として、ピリミジン誘導体(Vf)
の保護基と同しトリオルガノシリル基を用いた場合にも
、R4に用いたトリオルガノシリル基は脱離しないで残
すことかできる。これは、R4のトリオルガノシリル基
はアルコール酸素に結合しており、ピリミジン誘導体(
VT)のトリオルガノシリル基よりも脱離し難いからで
ある。
の保護基と同しトリオルガノシリル基を用いた場合にも
、R4に用いたトリオルガノシリル基は脱離しないで残
すことかできる。これは、R4のトリオルガノシリル基
はアルコール酸素に結合しており、ピリミジン誘導体(
VT)のトリオルガノシリル基よりも脱離し難いからで
ある。
工程(b)の1−(2,3−ジテオキン−2−オルガノ
チオ−β−D−ペントフラノシル)ピリミジン誘導体(
IV)の酸化反応は、過酸化物類の存在下で行われる。
チオ−β−D−ペントフラノシル)ピリミジン誘導体(
IV)の酸化反応は、過酸化物類の存在下で行われる。
この過酸化物類は、−船釣にスルフィトからスルホキシ
ドへの酸化の際に用いられる過酸化物、例えばメタ過ヨ
ウ素酸ナトリウム、過酸化水素、過酢酸、過安e、6酸
誘導体等かある。例えば、この酸化反応は、周囲温度以
下の温度、好ましくは0℃で、適当な溶媒中で、1−(
2,3−ジテオキン−2−オルガノチオ−β−D−ペン
トフラノシル)ピリミジン誘導体(IV)に対して等量
から少過剰量、例えば、I、05当瓜の過酸化物類を用
いて行われる。この酸化反応は、通常3時間以内に完結
する。
ドへの酸化の際に用いられる過酸化物、例えばメタ過ヨ
ウ素酸ナトリウム、過酸化水素、過酢酸、過安e、6酸
誘導体等かある。例えば、この酸化反応は、周囲温度以
下の温度、好ましくは0℃で、適当な溶媒中で、1−(
2,3−ジテオキン−2−オルガノチオ−β−D−ペン
トフラノシル)ピリミジン誘導体(IV)に対して等量
から少過剰量、例えば、I、05当瓜の過酸化物類を用
いて行われる。この酸化反応は、通常3時間以内に完結
する。
上記の酸化反応により得られた反応混合物は、例えば、
炭酸水素ナトリウムで弱アルカリとし、ジクロロメタン
で抽出する等の通常の分岐操作により、目的の純粋な1
−(2,3−ジデオキシ−2−オルガノスルフィニル−
β−D−ペントフラノシル)ピリミジン誘導体(III
)を得ることができる。
炭酸水素ナトリウムで弱アルカリとし、ジクロロメタン
で抽出する等の通常の分岐操作により、目的の純粋な1
−(2,3−ジデオキシ−2−オルガノスルフィニル−
β−D−ペントフラノシル)ピリミジン誘導体(III
)を得ることができる。
工程(C)の1−(2,3−ジデオキシ−2−オルガノ
スルフィニル=β−〇−ペントフラノシル)ピリミジン
誘導体(m)の熱脱離反応は、塩基類の存在下で行われ
る。この塩基類は、例えば、トリ(n〜ブチル)アミン
、■、8−ジアザビシクロ−[5,4,0]−ウンデカ
−7−エン等の何機物塩基、炭酸水素ナトリウム等の無
機物塩基等である。この熱脱離反応は、例えばキンレン
、ジオキサン等の溶媒中、還流温度において、I−(2
,3−7デオキシー2−オルガノスルフィニル−β−D
−ペントフラノシル)ピリミジン誘導体(m)に対し等
量以上の塩基類を用いて行われ、通常1.5時間以内に
完結する。
スルフィニル=β−〇−ペントフラノシル)ピリミジン
誘導体(m)の熱脱離反応は、塩基類の存在下で行われ
る。この塩基類は、例えば、トリ(n〜ブチル)アミン
、■、8−ジアザビシクロ−[5,4,0]−ウンデカ
−7−エン等の何機物塩基、炭酸水素ナトリウム等の無
機物塩基等である。この熱脱離反応は、例えばキンレン
、ジオキサン等の溶媒中、還流温度において、I−(2
,3−7デオキシー2−オルガノスルフィニル−β−D
−ペントフラノシル)ピリミジン誘導体(m)に対し等
量以上の塩基類を用いて行われ、通常1.5時間以内に
完結する。
上記熱脱離反応により得られた反応混合物を、結晶化或
いはクロマトグラフを用いて分離することにより、目的
の純粋なL−(2,3−ジデオキシ−2,3−ジデヒド
ロ−β−叶ベントフラノシル)ピリミジン誘導体(n)
が得られる。
いはクロマトグラフを用いて分離することにより、目的
の純粋なL−(2,3−ジデオキシ−2,3−ジデヒド
ロ−β−叶ベントフラノシル)ピリミジン誘導体(n)
が得られる。
工程(d)の1−(2,3−ジデオキシ−2,3−ジデ
ヒドロ−β−D−ペントフラノシル)ピリミジン誘導体
(II)の脱保護は、全て公知の方法によって行うこと
かできる。但し、脱保護のための具体的な反応は保護基
の種類によって異なる。例えば、保護基がトリオルガノ
シリル基の場合、テトラ(n−ブチル)アンモニウムフ
ルオリドと無水テトラヒドロフラン中で脱保護を行うこ
とができる。また、アラルキル基の場合、ベンジル基は
水素ガス雰囲気下、接触水素添加触媒を用いて還元する
ことにより、またトリチル2+酢酸中で処理することに
より脱保護か可能である。
ヒドロ−β−D−ペントフラノシル)ピリミジン誘導体
(II)の脱保護は、全て公知の方法によって行うこと
かできる。但し、脱保護のための具体的な反応は保護基
の種類によって異なる。例えば、保護基がトリオルガノ
シリル基の場合、テトラ(n−ブチル)アンモニウムフ
ルオリドと無水テトラヒドロフラン中で脱保護を行うこ
とができる。また、アラルキル基の場合、ベンジル基は
水素ガス雰囲気下、接触水素添加触媒を用いて還元する
ことにより、またトリチル2+酢酸中で処理することに
より脱保護か可能である。
アシル基の場合は、アルカリ加水分解、アルコJンス、
アンモノリンス等を行うことで脱保護か可能である。
アンモノリンス等を行うことで脱保護か可能である。
アリールオキンカルボニル基及びアルキルオキンカルボ
ニル基の場合にも、アシル基と同様の方法で脱保護を行
うことができる 上記の脱保護反応により得られた反応a合物を、結晶化
或いはクロマトグラフを用いて分離することにより、目
的の純粋な2’、3’−ジテオキン−2゛、3−ジデヒ
ドロ−β−リボヌクレオンド誘導体(1)を得ることが
できる。
ニル基の場合にも、アシル基と同様の方法で脱保護を行
うことができる 上記の脱保護反応により得られた反応a合物を、結晶化
或いはクロマトグラフを用いて分離することにより、目
的の純粋な2’、3’−ジテオキン−2゛、3−ジデヒ
ドロ−β−リボヌクレオンド誘導体(1)を得ることが
できる。
以下、本発明の実施例について詳細に説明する。
(A ) 5−(L−ブチルジフェニルシリルオキシ
)−2−フェニルチオペンタン−4−オリドの製造シク
ロへキシル−(l−プロピル)アミンI1.7m1(7
1,1ミリモル)の無水テトラヒドロフラン80m1溶
液に、アルゴンカス雰囲気下、C1’Cて11当りn−
ブチルリチウム1.58ミリモルを含むn−/\キサン
溶液45m1 (71,1ミリモル)を滴下した。滴下
終了後、そのままの温度で10分間撹拌した後に一78
℃まで冷却した。これに5−(t−ブチルジフェニルシ
リルオキシ)ペンタ′・−4−オリト 1m5 g (
32,4ミリモル)のテトラヒドロフラン30m1溶液
を滴下し、そのまま30分間撹拌した。その後、さらに
ジフェニルジスルフィド7.80g (35,7ミリモ
ル)のテトラヒドロフラン30m1溶液を滴下し、冷凍
庫に一晩放置した。反応終了後、反応溶液を飽和硫酸ア
ンモニウム水溶液にあけ、酢酸エチルで抽出した。この
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上溶媒を
留去して残留物を得た。
)−2−フェニルチオペンタン−4−オリドの製造シク
ロへキシル−(l−プロピル)アミンI1.7m1(7
1,1ミリモル)の無水テトラヒドロフラン80m1溶
液に、アルゴンカス雰囲気下、C1’Cて11当りn−
ブチルリチウム1.58ミリモルを含むn−/\キサン
溶液45m1 (71,1ミリモル)を滴下した。滴下
終了後、そのままの温度で10分間撹拌した後に一78
℃まで冷却した。これに5−(t−ブチルジフェニルシ
リルオキシ)ペンタ′・−4−オリト 1m5 g (
32,4ミリモル)のテトラヒドロフラン30m1溶液
を滴下し、そのまま30分間撹拌した。その後、さらに
ジフェニルジスルフィド7.80g (35,7ミリモ
ル)のテトラヒドロフラン30m1溶液を滴下し、冷凍
庫に一晩放置した。反応終了後、反応溶液を飽和硫酸ア
ンモニウム水溶液にあけ、酢酸エチルで抽出した。この
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上溶媒を
留去して残留物を得た。
得られた残留物をシリカケルカラムクロマトグラフ(n
−ヘキサン、酢酸エチル−10=1から3=1)で精製
し、5−(t−ブチルジフェニルシリルオキシ)〜2−
フェニルチオペンタンー4−オリド8.24g (17
,!lミリモル)を得た(収率5596’ )。
−ヘキサン、酢酸エチル−10=1から3=1)で精製
し、5−(t−ブチルジフェニルシリルオキシ)〜2−
フェニルチオペンタンー4−オリド8.24g (17
,!lミリモル)を得た(収率5596’ )。
生成物の物理的データは以下の通りである。
If NMR(CDCl2 )ニア、66−7.6
1 (411,m、aramaHc−If)−7,5
!1−7.53 (2旧匝、aramatic−If
)、 7.46−7.35(911,i、arama
tic−11) 、4.47−4.42(111,rA
、ll−4)、412(IH,dd、J−9,3,7,
2Hz、H〜2)、 3.87(lH,dd、J−1
1,5゜2、91(z、H−5)、 3 、62 (l
H,dd、 J−11、5,2,8Hz、H−5)、
2.68(IH,ddd、J−13,6,9,2,4,
6Hz、H−3)、2.30(LH,ddd。
1 (411,m、aramaHc−If)−7,5
!1−7.53 (2旧匝、aramatic−If
)、 7.46−7.35(911,i、arama
tic−11) 、4.47−4.42(111,rA
、ll−4)、412(IH,dd、J−9,3,7,
2Hz、H〜2)、 3.87(lH,dd、J−1
1,5゜2、91(z、H−5)、 3 、62 (l
H,dd、 J−11、5,2,8Hz、H−5)、
2.68(IH,ddd、J−13,6,9,2,4,
6Hz、H−3)、2.30(LH,ddd。
J−1,3,5,8,0,7,3Hz、H−3)、1.
02(9H,s、t−Bu)(B) l−0−アセチ
ル−5−0−(t−ブチルジフェニルシリル)−2−フ
ェニルチオ−2,3−ジデオキシ−D−ペントフラノー
スの製迅 工程Aで得た5−(t−ブチルジフェニルシリルオキシ
)−2−フェニルチオペンタン−4−オリド8.14g
(17,6ミリモル)の無水テトラヒドロフラン10
0m1溶液に、アルゴンガス雰囲気下、−78℃で、1
g当り1.0モルの水素化ジ(i−ブチル)アルミニウ
ムを含むトルエン溶液27.0ml (27,0ミリモ
ル)を滴下した。滴下終了後、そのまま4時間撹拌した
。反応終了後、反応溶液に少量の水を加えた後、室温ま
てWmし、無水硫酸マグネシウムを加えた。
02(9H,s、t−Bu)(B) l−0−アセチ
ル−5−0−(t−ブチルジフェニルシリル)−2−フ
ェニルチオ−2,3−ジデオキシ−D−ペントフラノー
スの製迅 工程Aで得た5−(t−ブチルジフェニルシリルオキシ
)−2−フェニルチオペンタン−4−オリド8.14g
(17,6ミリモル)の無水テトラヒドロフラン10
0m1溶液に、アルゴンガス雰囲気下、−78℃で、1
g当り1.0モルの水素化ジ(i−ブチル)アルミニウ
ムを含むトルエン溶液27.0ml (27,0ミリモ
ル)を滴下した。滴下終了後、そのまま4時間撹拌した
。反応終了後、反応溶液に少量の水を加えた後、室温ま
てWmし、無水硫酸マグネシウムを加えた。
生した結晶をセライトを用いて濾別した後、減圧ド溶媒
を留去して残留物を得た。
を留去して残留物を得た。
得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ(n
−ヘキサン:酢酸エチル−4:1)で精製し、5−0−
(L−ブチルジフェニルシリル)−2,3−ジテオキ
ン−2−フエニルチオ−D−ペントフラノースを得た。
−ヘキサン:酢酸エチル−4:1)で精製し、5−0−
(L−ブチルジフェニルシリル)−2,3−ジテオキ
ン−2−フエニルチオ−D−ペントフラノースを得た。
これを無水ジクロロメタン80m1に溶解した後に、無
水酢酸7.0 ml (74ミリモル) 、4−(N、
N−ジメチルアミノ)ピリジンloOmgを加え、無水
条件下、−晩撹拌した。反応終了後、反応溶液を飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液にあけ、クロロホルムで抽出し
た。この有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
上溶媒を留去して残留物を得た。
水酢酸7.0 ml (74ミリモル) 、4−(N、
N−ジメチルアミノ)ピリジンloOmgを加え、無水
条件下、−晩撹拌した。反応終了後、反応溶液を飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液にあけ、クロロホルムで抽出し
た。この有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
上溶媒を留去して残留物を得た。
得られた残留物をシリカケルカラムクロマトグラフ(n
−ヘキサン 酢酸エチル−9:1)で精製し、■−0−
アセチルー5−0− (t−ブチルジフェニルシリル)
−2−フェニルチオ−2,3−ジデオキン−〇−ペント
フラノース6.1Bg (12,2ミリモル)を得た。
−ヘキサン 酢酸エチル−9:1)で精製し、■−0−
アセチルー5−0− (t−ブチルジフェニルシリル)
−2−フェニルチオ−2,3−ジデオキン−〇−ペント
フラノース6.1Bg (12,2ミリモル)を得た。
(収率69%)
生成物の物理的データは以下の通りである。
11−NMR(CDCl2 )ニア、72−7.62
(411,m、aromatic−II)。
(411,m、aromatic−II)。
7.49−7.25 (II H,l、aroII
atic−H)、6.46 (0,2H,dJ−4,
2t(z、ll−I l1linor)、G、18(
0,g)1.s、H−1a+ajor)4.55−4.
38(LH,tn、H−4)、3.93−3.69(2
,8H,m、H−2,H−5Ilajor、H−5m1
nor)、3.59(0,2H,dd、J−11,1,
2,9)1zH−5m1nor)、2.54−2.41
(IH,m、)I−3) 、 2.32−2.17
(0,2H,1,)l−3,m1nor)、2.12(
0,6H,s、Ac m1nor)2.04(0,8H
,ddd、J−13,4,B、3.1.9Hz、H−3
l1ajor)。
atic−H)、6.46 (0,2H,dJ−4,
2t(z、ll−I l1linor)、G、18(
0,g)1.s、H−1a+ajor)4.55−4.
38(LH,tn、H−4)、3.93−3.69(2
,8H,m、H−2,H−5Ilajor、H−5m1
nor)、3.59(0,2H,dd、J−11,1,
2,9)1zH−5m1nor)、2.54−2.41
(IH,m、)I−3) 、 2.32−2.17
(0,2H,1,)l−3,m1nor)、2.12(
0,6H,s、Ac m1nor)2.04(0,8H
,ddd、J−13,4,B、3.1.9Hz、H−3
l1ajor)。
1.85(2,4H,s、Ac major)、 1
.06 (7,2H,s、t−Bumajor)、1
.00(1,gH,s、L−Bu m1nor)(C)
I−[5−O−(i−ブチルジフェニルシリル)−
2,3−ジデオキシ−2−フェニルチオ−β−D−ペン
トフラノシル]ウラシルの製造 まず、ウラシル0.512 g (4,57ミリモル)
のヘキサメチルシンラサン10m1懸濁液に、トリメチ
ルシリルクロリド0.1mlを加え、アルゴンガス雰囲
気下で30分間加熱還流した。懸濁していた結晶が完全
に溶解したところで、室温まで冷却した。冷却後に、真
空ポンプ減圧下で低沸点物を留去して油状の残留物を得
た。
.06 (7,2H,s、t−Bumajor)、1
.00(1,gH,s、L−Bu m1nor)(C)
I−[5−O−(i−ブチルジフェニルシリル)−
2,3−ジデオキシ−2−フェニルチオ−β−D−ペン
トフラノシル]ウラシルの製造 まず、ウラシル0.512 g (4,57ミリモル)
のヘキサメチルシンラサン10m1懸濁液に、トリメチ
ルシリルクロリド0.1mlを加え、アルゴンガス雰囲
気下で30分間加熱還流した。懸濁していた結晶が完全
に溶解したところで、室温まで冷却した。冷却後に、真
空ポンプ減圧下で低沸点物を留去して油状の残留物を得
た。
得られた残留物を無水1.2−シクロロエタ;15m1
に溶解した後、工程(B)で得た1−0−アセチル−5
−0−(t−ブチルジフェニルシリル)−2−フェニル
チオ−2,3−ジデオキンー〇−ペントフラノース1.
51sr (2,98ミリモル)を加え、アルゴンガス
雰囲気下、11当り1モルの塩化スズ(IV)を含む1
.2−ジクロロエタン溶t5.5 ml (5,5ミリ
モル)をゆっくり加え、周囲温度で3時間撹拌した。反
応終了後、反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に
あけ、クロロホルムで抽出した。この6機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去して残留物を
得た。
に溶解した後、工程(B)で得た1−0−アセチル−5
−0−(t−ブチルジフェニルシリル)−2−フェニル
チオ−2,3−ジデオキンー〇−ペントフラノース1.
51sr (2,98ミリモル)を加え、アルゴンガス
雰囲気下、11当り1モルの塩化スズ(IV)を含む1
.2−ジクロロエタン溶t5.5 ml (5,5ミリ
モル)をゆっくり加え、周囲温度で3時間撹拌した。反
応終了後、反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に
あけ、クロロホルムで抽出した。この6機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去して残留物を
得た。
得られた残留物をシリカケルカラムクロマトグラフ(ク
ロロホルム:メタノール−98・ 2)で精製した。得
られた精製物1.52gは、l−[5−0−(tブチル
ジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−2−フェニ
ルチオ−β−D−ペントフラノンル]ウラシルとその立
体異性体で、その比は、93ニアてあった(収率91%
)。
ロロホルム:メタノール−98・ 2)で精製した。得
られた精製物1.52gは、l−[5−0−(tブチル
ジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−2−フェニ
ルチオ−β−D−ペントフラノンル]ウラシルとその立
体異性体で、その比は、93ニアてあった(収率91%
)。
この精製物を高速液体クロマトグラフ(固定層YMC社
^−3fi3.ODS、直径3QraIIX長さ250
龍;移動層ニアセトニトリル、水= 80:20.流速
1.0ml/分検出、紫外線吸収、λ−254nm)を
用いて異性体を分離し、l−[5−O−(r−ブチルジ
フェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−2−フェニル
チオ−β−D−ペントフラノシル]ウラシル1.38
r (2,47ミリモル)を得た(収率83%)。
^−3fi3.ODS、直径3QraIIX長さ250
龍;移動層ニアセトニトリル、水= 80:20.流速
1.0ml/分検出、紫外線吸収、λ−254nm)を
用いて異性体を分離し、l−[5−O−(r−ブチルジ
フェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−2−フェニル
チオ−β−D−ペントフラノシル]ウラシル1.38
r (2,47ミリモル)を得た(収率83%)。
生成物の物理的データは、以下の通りである。
’ If−NMR(CDC1x ) : δ
(ppm)9J2(III、br、、NII)、77
2(lIl、d、J−8,1lIz、H−6)、 7
.67−7.61 (411,m。
(ppm)9J2(III、br、、NII)、77
2(lIl、d、J−8,1lIz、H−6)、 7
.67−7.61 (411,m。
aro4atlc−11)、7.50−7.36(81
1,*、aroIIatic−1f)。
1,*、aroIIatic−1f)。
7.28−7.24(3)1.m、aromatic−
H)、6.011(1)1.d、J−5,5H2,)I
−1°)、5.31(LH,dd、J−8,1,2,0
Hz、H−5)、4.38−4.30(IH,m、H−
4°)、4.1)8(l)1.dd、J−11,7,2
,1Hz。
H)、6.011(1)1.d、J−5,5H2,)I
−1°)、5.31(LH,dd、J−8,1,2,0
Hz、H−5)、4.38−4.30(IH,m、H−
4°)、4.1)8(l)1.dd、J−11,7,2
,1Hz。
H−5°)、3.90−3.73(LH,m、)I−2
’)、3.69(LH,dd。
’)、3.69(LH,dd。
J−11,7,2,2Hz、H−5°)、2.52(1
8,ddd、J−13,2゜7.2.[i、OHz、H
−3’)、 2.10(LH,dt、J−13,1,
7,4Hz。
8,ddd、J−13,2゜7.2.[i、OHz、H
−3’)、 2.10(LH,dt、J−13,1,
7,4Hz。
H−3°>、 1.10 (9H,s、t−Bu)3
C−NMR(CDCl2) : 6 (ppmH63,
10(C−4>、150.15(C−2) 、 139
.50 (C−6) 、 135.39 (arosa
t 1c−C)、 I 35.14(aromatfc
−C)、133.H(aroIIlatic−C)、
132.74(aromatic−C)、132.
13 (aroIlatic−C)、 132.
00(aromatic−C)、129.93(aro
satic−C)、 121!、99(aroma
tic−C)、127.83 (aromatic−
C)、102.25(C−5)、89.62(C−1°
)、78.98(C−4°)、65.20(C−5°)
。
C−NMR(CDCl2) : 6 (ppmH63,
10(C−4>、150.15(C−2) 、 139
.50 (C−6) 、 135.39 (arosa
t 1c−C)、 I 35.14(aromatfc
−C)、133.H(aroIIlatic−C)、
132.74(aromatic−C)、132.
13 (aroIlatic−C)、 132.
00(aromatic−C)、129.93(aro
satic−C)、 121!、99(aroma
tic−C)、127.83 (aromatic−
C)、102.25(C−5)、89.62(C−1°
)、78.98(C−4°)、65.20(C−5°)
。
51.21 (C−2’)、32.18(C−3°
)、27.00(t−Bu)、19.34(t−Bu)
IR(KBr): v (am−’) 1B8
8,1462,1429゜1383.1280.111
4.1083,822,743,702,503.48
7(D ) 1−[5−O−(i−ブチルジフェニル
シリル)−2,3−ジデオキシ−2,3−ジデヒドロ−
β−D−ペントフラノシル〕ウラシルの製造 工程(C)で得られたl−[5−O−(i−ブチルジフ
ェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−2−フェニルチ
オ−β−D−ベントフラノジルコウラシル1.57 g
(2,81ミリモル)の無水ジクロロメタン25m1溶
液に、無水条件下、0℃で■−クロロ過安息香酸(純度
80%) 0.[H40g (2,95ミリモル)の無
水ジクロロメタン25m1溶液をゆっくり加え、0℃で
6時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液にあけ、ジクロロメタンて抽出した。
)、27.00(t−Bu)、19.34(t−Bu)
IR(KBr): v (am−’) 1B8
8,1462,1429゜1383.1280.111
4.1083,822,743,702,503.48
7(D ) 1−[5−O−(i−ブチルジフェニル
シリル)−2,3−ジデオキシ−2,3−ジデヒドロ−
β−D−ペントフラノシル〕ウラシルの製造 工程(C)で得られたl−[5−O−(i−ブチルジフ
ェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−2−フェニルチ
オ−β−D−ベントフラノジルコウラシル1.57 g
(2,81ミリモル)の無水ジクロロメタン25m1溶
液に、無水条件下、0℃で■−クロロ過安息香酸(純度
80%) 0.[H40g (2,95ミリモル)の無
水ジクロロメタン25m1溶液をゆっくり加え、0℃で
6時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液にあけ、ジクロロメタンて抽出した。
この釘機層を無水硫酸マグ不ノウムで乾燥し、減圧ド溶
媒を留去して1−[5−〇−(t−ブチルジフェニルシ
リル)−2,3−ジデオキシ−2−フェニルスルフィニ
ル− ンルを得た。
媒を留去して1−[5−〇−(t−ブチルジフェニルシ
リル)−2,3−ジデオキシ−2−フェニルスルフィニ
ル− ンルを得た。
得られたl−[5−0−(L−ブチルジフェニルシリル
)=2.3−ジデオキシ−2−フェニルスルフィニル−
βーDーペントフラノシル]ウラシルをキシレン50m
lに溶解した後、トリ(n−ブチル)アミン1.5ml
(6.3ミリモル)を加え、アルゴンガス雰囲気下、1
時間加熱還流した。反応終了後、減圧上溶媒を留去して
残留物を得た。
)=2.3−ジデオキシ−2−フェニルスルフィニル−
βーDーペントフラノシル]ウラシルをキシレン50m
lに溶解した後、トリ(n−ブチル)アミン1.5ml
(6.3ミリモル)を加え、アルゴンガス雰囲気下、1
時間加熱還流した。反応終了後、減圧上溶媒を留去して
残留物を得た。
得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ(ク
ロロホルム メタノール− 90 : 4)で精製し
、l−[5−0−(t−ブチルジフェニルシリル)2、
3−ジチオキン−2,3−ジデヒドロ ーβーDーペン
トフラノシル]ウラシル1.25g (2.79 ミリ
モル)を得た(収率1009o)。
ロロホルム メタノール− 90 : 4)で精製し
、l−[5−0−(t−ブチルジフェニルシリル)2、
3−ジチオキン−2,3−ジデヒドロ ーβーDーペン
トフラノシル]ウラシル1.25g (2.79 ミリ
モル)を得た(収率1009o)。
生成物の物理的データは、以下の通りである。
H−NMR(CDCl2 ’) : δ(+)pTl)
9.12(IH.br.、NO)7、7111−7.[
io(5H,m,月−[i,aroIlatic−H)
、 7.55−7J7(811,Ill.aroma
tic−)1)、7.03(I)1.t.J−1.8H
z.H−l ’)8、30(11(−dL,J−6.0
−1.6)11−11−2°)、5.86(lH.qu
asi−d.J−5.8)1z. H−3’)、5.
20(IH.d.J−8.3Hz,H−5)4、90
(IH.br.、H−4°)、3.99(If(、d
d.J−11.5.3.IHzll−5’)、3.87
(ItLdd.J−1 l 、7.3.011z.t+
づ’)、 1.(’7(9H.s. t−Bu) (E) 2’.3’−ジデオキシ−2,3゛−ジデヒ
ドロβ−ウリジンの製造 工程1)で得られたl−[5−0−(t−ブチルジフェ
ニルシリル)−2.3−ジチオキン−2,3−ジデヒド
ロ−β−D−ベントフラノンルコウラシル 99:3m
g(2.21 ミリモル)の無水テトラヒドロフラン1
0ml溶液に、14?当り1モルのテトラ(n−ブチル
)アンモニウムフルオリドを含むテトラヒドロフラン溶
液2.5 ml(2.5ミリモル)を加え、無水条件下
、室温で80分撹拌した。反応終了後、減圧上溶媒を留
去して残留物を得た。
9.12(IH.br.、NO)7、7111−7.[
io(5H,m,月−[i,aroIlatic−H)
、 7.55−7J7(811,Ill.aroma
tic−)1)、7.03(I)1.t.J−1.8H
z.H−l ’)8、30(11(−dL,J−6.0
−1.6)11−11−2°)、5.86(lH.qu
asi−d.J−5.8)1z. H−3’)、5.
20(IH.d.J−8.3Hz,H−5)4、90
(IH.br.、H−4°)、3.99(If(、d
d.J−11.5.3.IHzll−5’)、3.87
(ItLdd.J−1 l 、7.3.011z.t+
づ’)、 1.(’7(9H.s. t−Bu) (E) 2’.3’−ジデオキシ−2,3゛−ジデヒ
ドロβ−ウリジンの製造 工程1)で得られたl−[5−0−(t−ブチルジフェ
ニルシリル)−2.3−ジチオキン−2,3−ジデヒド
ロ−β−D−ベントフラノンルコウラシル 99:3m
g(2.21 ミリモル)の無水テトラヒドロフラン1
0ml溶液に、14?当り1モルのテトラ(n−ブチル
)アンモニウムフルオリドを含むテトラヒドロフラン溶
液2.5 ml(2.5ミリモル)を加え、無水条件下
、室温で80分撹拌した。反応終了後、減圧上溶媒を留
去して残留物を得た。
得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ(ク
ロロホルム、メタノール− 919)て精製し、2,3
−ジチオキン−2,3−ジデヒドロ−β−ウリノン44
2 eag(2.11 ミリモル)を得た(収率95
9o)。
ロロホルム、メタノール− 919)て精製し、2,3
−ジチオキン−2,3−ジデヒドロ−β−ウリノン44
2 eag(2.11 ミリモル)を得た(収率95
9o)。
生成物の物理的データは、以下の通りである。
’ II−NMR (1)MSO−d 、 ) : δ
( ppm) l 1.30(Itl.brNll)、
7.73(IIl.d.J−8.1肚浦−6) 6.8
2−6.L8(lIl.m。
( ppm) l 1.30(Itl.brNll)、
7.73(IIl.d.J−8.1肚浦−6) 6.8
2−6.L8(lIl.m。
11刊’)、6.38(111.dL.J−6.0.1
.711z.ll−2’)、 5.90(lit 、Q
uasi−d 、 J−6.[)Ilz.II−3 ’
) 、5. 58 (IIl.d 、 J−8 、 1
11z。
.711z.ll−2’)、 5.90(lit 、Q
uasi−d 、 J−6.[)Ilz.II−3 ’
) 、5. 58 (IIl.d 、 J−8 、 1
11z。
H−5)、4. 97 (Ill, t.J−5.3t
lz,Off) 、4. 79−4. 73(III,
+n。
lz,Off) 、4. 79−4. 73(III,
+n。
H−4°)、 3.57(2H.dd,J−5.3.3
.6Hz,II−5’)(C−2ン 1−[5−0−(
t−ブチルジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−
2−フェニルチオ−β−D−ペントフラノンルコチミン
の製造 まず、チミン0.569 g (4.51ミリモル)の
1,2−ジクロロエタン30ml懸濁液にヘキサメチル
ジシラザン5ml、トリメチルシリルクロリド4mlを
加え、アルゴンガス雰囲気下で3時間加熱還流した。懸
濁していた結晶か完全に溶解したところで、室温まで冷
却した。冷却後に、真空ポ〉ブ減圧下で低沸点物を留去
して油状の残留物を得た。
.6Hz,II−5’)(C−2ン 1−[5−0−(
t−ブチルジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−
2−フェニルチオ−β−D−ペントフラノンルコチミン
の製造 まず、チミン0.569 g (4.51ミリモル)の
1,2−ジクロロエタン30ml懸濁液にヘキサメチル
ジシラザン5ml、トリメチルシリルクロリド4mlを
加え、アルゴンガス雰囲気下で3時間加熱還流した。懸
濁していた結晶か完全に溶解したところで、室温まで冷
却した。冷却後に、真空ポ〉ブ減圧下で低沸点物を留去
して油状の残留物を得た。
得られた残留物を無水1.2−ジクロロエタン15ml
に溶解した後、実施例1の工程(B)で得た1−〇ーア
セチルー5−0− (t−ブチルジフェニルシリル)−
2−フェニルチオ−2,3−ジデオキシ−D−ペントフ
ラノース1.51 g ( 2.98ミリモル)を加え
、アルゴンガス雰囲気下、1p当り1モルの塩化スズ(
IV)を含む1.2−ジクロロエタン溶液5.5 ml
(5.5 ミリモル)をゆっくり加え、周囲温度で3
時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液にあけ、クロロホルムで抽出した。この
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上溶媒を
留去して残留物を得た。
に溶解した後、実施例1の工程(B)で得た1−〇ーア
セチルー5−0− (t−ブチルジフェニルシリル)−
2−フェニルチオ−2,3−ジデオキシ−D−ペントフ
ラノース1.51 g ( 2.98ミリモル)を加え
、アルゴンガス雰囲気下、1p当り1モルの塩化スズ(
IV)を含む1.2−ジクロロエタン溶液5.5 ml
(5.5 ミリモル)をゆっくり加え、周囲温度で3
時間撹拌した。反応終了後、反応溶液を飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液にあけ、クロロホルムで抽出した。この
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上溶媒を
留去して残留物を得た。
得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ(ク
ロロホルム:メタノール−98: 2)で精製した。
ロロホルム:メタノール−98: 2)で精製した。
得られた精製物1.48gは、l−[5−0−(t−ブ
チルジフェニルシリル)−2.3−ジデオキシ−2−フ
ェニルチオ−β−D−ペントフラノンルコチミンとその
立体異性体で、その比は、92:8であった(収率g7
0o11゜ この精製物をn−ヘキサン−塩化メチレンより再結晶し
て異性体を分離し、I−[5−O−(t−ブチルジフェ
ニルシリル)−2,3−ンデオキンー2−フェニルチオ
=β−D−ベントフラノンル]チミン1.25g(2,
18ミリモル)を得た(収率739o)。
チルジフェニルシリル)−2.3−ジデオキシ−2−フ
ェニルチオ−β−D−ペントフラノンルコチミンとその
立体異性体で、その比は、92:8であった(収率g7
0o11゜ この精製物をn−ヘキサン−塩化メチレンより再結晶し
て異性体を分離し、I−[5−O−(t−ブチルジフェ
ニルシリル)−2,3−ンデオキンー2−フェニルチオ
=β−D−ベントフラノンル]チミン1.25g(2,
18ミリモル)を得た(収率739o)。
生成物の物理的データは、以下の通りである。
融点+ 152.0−154.0℃
H−NMl?(CDC1,、) : δ(+)pm)9
.53(lH,br、 、NH) 。
.53(lH,br、 、NH) 。
7、70−7.62 (411,m 、 aromat
i c−H) 、 7.52−7.33 (811,
maromat 1c−H) 、 7 、27−7 、
I 5 (4H、to 、11−6 、arolla
L 1c−H)。
i c−H) 、 7.52−7.33 (811,
maromat 1c−H) 、 7 、27−7 、
I 5 (4H、to 、11−6 、arolla
L 1c−H)。
6.12(IIl、d、J−7,611z、ll−1°
)、 4.28−4.21 (IIl、m。
)、 4.28−4.21 (IIl、m。
It−4’)、4.02(III、dd、J−11,5
,1,811Z、If−5°>、 3,893.72(
IIl、m、ll−2’)、 3.68 (lIl、d
d、J−11,5,2,11IZ。
,1,811Z、If−5°>、 3,893.72(
IIl、m、ll−2’)、 3.68 (lIl、d
d、J−11,5,2,11IZ。
1ト5°)、2.54(IIl、ddd、J=12.5
.8.0.4.211z、ll−3’)。
.8.0.4.211z、ll−3’)。
2、14 (111,dt、J−12,9、9,211
z、 +1−3 ’ )、 1.50 (3+1. S
、 Me) 。
z、 +1−3 ’ )、 1.50 (3+1. S
、 Me) 。
1.13(9H,s、t−Bu)
’C−NMR(CDCh ) : δ(ppm)163
.41(C−4)、150.39(C−2) 、 13
5 、36 (aromat 1c−C) 、 135
、11 (aromat 1c−C)。
.41(C−4)、150.39(C−2) 、 13
5 、36 (aromat 1c−C) 、 135
、11 (aromat 1c−C)。
134.72(C−6>、133.59(aromat
ic−C)、 132.98(aroiatic−C
)、 13:!、31 (aromatic−C)
、 131.94(aroaa日c−C)、 12
9.87 (aromatic−C) 、 128
.89(aromatic−C)、 128.07
(arorAatic−C)、 127.83(a
romatic−C)、111.+5(C−5)、89
.07(C−「)、 77.58(C−4’)、65
.81(C−5’)、49.77(C−2’)、32.
55(C−3’)27.06(t−Bu)、19.47
(L−Bu)、 11.1!I(Me)IR(KBr
): ν(am−1)3210.3072.2956
.2934゜28B2.1702.16g2.1466
.1286.+253.1216.lll6゜1083
.1067.1044.1023.99B、g30.7
97.745.712.698505.487 M5(El−DI) : rA/z 515(M
−−t−Bu)。
ic−C)、 132.98(aroiatic−C
)、 13:!、31 (aromatic−C)
、 131.94(aroaa日c−C)、 12
9.87 (aromatic−C) 、 128
.89(aromatic−C)、 128.07
(arorAatic−C)、 127.83(a
romatic−C)、111.+5(C−5)、89
.07(C−「)、 77.58(C−4’)、65
.81(C−5’)、49.77(C−2’)、32.
55(C−3’)27.06(t−Bu)、19.47
(L−Bu)、 11.1!I(Me)IR(KBr
): ν(am−1)3210.3072.2956
.2934゜28B2.1702.16g2.1466
.1286.+253.1216.lll6゜1083
.1067.1044.1023.99B、g30.7
97.745.712.698505.487 M5(El−DI) : rA/z 515(M
−−t−Bu)。
389 (M ” −thyminc−t−Bu
)< D−2)i−c5−o−(t−ブチルジフェニル
シリル)−2,3−ジテオキン−2,3−ジデヒドロ−
β−D−ヘントフラノシル]チミンの製造 工程(C−2)で得られtこl−[5−O−(t−ブチ
ルジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−2−フェ
ニルチオ−β−D−ペントフラノシル]チミン 1.5
3 g(2,68ミリモル)の無水ジクロロメタン25
m1溶液に、無水条件下、0℃でに一クロロ過安息香酸
(純度809o ) 0.810 g (2,81ミリ
モル)の無水ジクロロメタン25m1溶液をゆっくり加
え、0℃で2.5時間撹拌した。反応終了後、反応溶液
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にあけ、ジクロロメタ
ンで抽出した。この釘機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧上溶媒を留去して1−[5−O−(t−ブチ
ルジフェニルシリル)−2,3−ジブオキ/−2−フエ
ニルスルフイニル−β−D−ベントフラノジルコチミン
を得た。
)< D−2)i−c5−o−(t−ブチルジフェニル
シリル)−2,3−ジテオキン−2,3−ジデヒドロ−
β−D−ヘントフラノシル]チミンの製造 工程(C−2)で得られtこl−[5−O−(t−ブチ
ルジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−2−フェ
ニルチオ−β−D−ペントフラノシル]チミン 1.5
3 g(2,68ミリモル)の無水ジクロロメタン25
m1溶液に、無水条件下、0℃でに一クロロ過安息香酸
(純度809o ) 0.810 g (2,81ミリ
モル)の無水ジクロロメタン25m1溶液をゆっくり加
え、0℃で2.5時間撹拌した。反応終了後、反応溶液
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にあけ、ジクロロメタ
ンで抽出した。この釘機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧上溶媒を留去して1−[5−O−(t−ブチ
ルジフェニルシリル)−2,3−ジブオキ/−2−フエ
ニルスルフイニル−β−D−ベントフラノジルコチミン
を得た。
得られた1−c5−o−(t−ブチルジフェニルシリル
)−2,3−ジチオキン−2−フェニルスルフィニル−
β−D−ベントフラノンル]チミンをキンレン50m1
に溶解した後、1,8−ジアザビシクロ−[5,4,0
]−ウンデカ−7−ニン0.90m1 (5,9ミリモ
ル)を加え、アルゴンガス雰囲気下、1.5時間加熱還
流した。反応終了後、減圧上溶媒を留去して残留物を得
た。
)−2,3−ジチオキン−2−フェニルスルフィニル−
β−D−ベントフラノンル]チミンをキンレン50m1
に溶解した後、1,8−ジアザビシクロ−[5,4,0
]−ウンデカ−7−ニン0.90m1 (5,9ミリモ
ル)を加え、アルゴンガス雰囲気下、1.5時間加熱還
流した。反応終了後、減圧上溶媒を留去して残留物を得
た。
得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ(ク
ロロホルム・メタノール−97: 3)で精製し、I
−[5−O−(t−ブチルジフェニルシリル)−2,3
−ジデオキシ−2,3−ジデヒドロ−β−D−ペントフ
ラノジルコチミン1.05g (2,27ミリモル)を
得た(収率85%)。
ロロホルム・メタノール−97: 3)で精製し、I
−[5−O−(t−ブチルジフェニルシリル)−2,3
−ジデオキシ−2,3−ジデヒドロ−β−D−ペントフ
ラノジルコチミン1.05g (2,27ミリモル)を
得た(収率85%)。
生成物の物理的データは、以下の通りである。
’ 11−NMR(CDeh) : δ(+)pra>
9.13(18,br、、Ni1)。
9.13(18,br、、Ni1)。
7.68−7.60(4H,m、aromatic−I
f)、 7.45−7.33 (611,maroIi
at 1c−H) 、 7.16 (LH,d 、 J
−1,1)1z、 H−6)、7 、05−7.00(
LH,Ig、H−1’)、 6.35 (IH,dt、
J−5,9,1,6Hz、H−2°)。
f)、 7.45−7.33 (611,maroIi
at 1c−H) 、 7.16 (LH,d 、 J
−1,1)1z、 H−6)、7 、05−7.00(
LH,Ig、H−1’)、 6.35 (IH,dt、
J−5,9,1,6Hz、H−2°)。
5.87(IH,quasi−d 、J−5,9Hz、
H−3’)、 4.97−4.90(IH。
H−3’)、 4.97−4.90(IH。
m、H−4’)、3.92(LH,dd、J−11,1
,3,7Hz、H−5’)、3.88(IH,dd、J
−11,2,3,9Hz、H−5°)、1.48(3)
1.S、Me)、1.08(9)1 、 s 、 L−
Bu) (E−2) 2’、3°−ジデオキシ−2′、3°−
ジデヒドロ−β−チミジンの製造 工程(D−2)で得られたI−[5−O−(L−ブチル
ジフェニルシリル トローβーDーペントフラノシル]チミン1.05g(
2.27 ミリモル)の無水テトラヒト0フランIOm
l溶液に、111当り1モルのテトラ(n−ブチル)ア
ンモニウムフルオリドを含むテトラヒドロフラン溶液2
.5 ml (2.5 ミリモル)を加え、無水条件下
、室温で70分撹拌した。反応終了後、減圧下溶媒を留
去して残留物を得た。
,3,7Hz、H−5’)、3.88(IH,dd、J
−11,2,3,9Hz、H−5°)、1.48(3)
1.S、Me)、1.08(9)1 、 s 、 L−
Bu) (E−2) 2’、3°−ジデオキシ−2′、3°−
ジデヒドロ−β−チミジンの製造 工程(D−2)で得られたI−[5−O−(L−ブチル
ジフェニルシリル トローβーDーペントフラノシル]チミン1.05g(
2.27 ミリモル)の無水テトラヒト0フランIOm
l溶液に、111当り1モルのテトラ(n−ブチル)ア
ンモニウムフルオリドを含むテトラヒドロフラン溶液2
.5 ml (2.5 ミリモル)を加え、無水条件下
、室温で70分撹拌した。反応終了後、減圧下溶媒を留
去して残留物を得た。
得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ(ク
ロロホルム メタノール= 91 + 9)で精製
し、2’、3’−シデオキンー2′、3−ジデヒドロ−
β−チミジン50B LIg(2,2[i ミリモル)
を得た(収率100%)。
ロロホルム メタノール= 91 + 9)で精製
し、2’、3’−シデオキンー2′、3−ジデヒドロ−
β−チミジン50B LIg(2,2[i ミリモル)
を得た(収率100%)。
生成物の物理的データは、以下の通りである。
’ II−NMR(DMSO−d 6 ) : δ(p
piNl、28(lIl、br、。
piNl、28(lIl、br、。
Ni1)、 7.63(III、 s、 H−6)、6
.82−6.77(LH,w、ll−1’)。
.82−6.77(LH,w、ll−1’)。
6.37(lII、quasi−d、l=6.011z
、H−2°)、5.89(lLquasi−d、J−5
,91(2,)I−3’)、5.00(LH,br、、
OH)、 4.79−4.73(1旧−、If−4’)
、3.59(211,d、J−3,111z、)l−5
°)、1.71(3H,s、Mc) (C−3)N’−アセチル−1−[5−O−(t−ブチ
ルジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−2−フェ
ニルチオ−β−D−ペントフラノシル]シトシンの製造 まず、N4−アセチルントンン0.892 g (4,
52ミリモル)の1.2=ジクロロ工タン30m1懸濁
液にヘキサメチルジシラザン5 ml、トリメチルシリ
ルクロリド4 mlを加え、 アルゴンカス雰囲気下で
1.5時間加熱還流した。懸濁していた結晶か完全に溶
解したところで、室温まで冷却した。冷却後に、真空ポ
ンプ減圧下で低沸点物を留去して油状の残留物を得た。
、H−2°)、5.89(lLquasi−d、J−5
,91(2,)I−3’)、5.00(LH,br、、
OH)、 4.79−4.73(1旧−、If−4’)
、3.59(211,d、J−3,111z、)l−5
°)、1.71(3H,s、Mc) (C−3)N’−アセチル−1−[5−O−(t−ブチ
ルジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−2−フェ
ニルチオ−β−D−ペントフラノシル]シトシンの製造 まず、N4−アセチルントンン0.892 g (4,
52ミリモル)の1.2=ジクロロ工タン30m1懸濁
液にヘキサメチルジシラザン5 ml、トリメチルシリ
ルクロリド4 mlを加え、 アルゴンカス雰囲気下で
1.5時間加熱還流した。懸濁していた結晶か完全に溶
解したところで、室温まで冷却した。冷却後に、真空ポ
ンプ減圧下で低沸点物を留去して油状の残留物を得た。
得られた残留物を無水1.2−ジクロロエタン15m1
に溶解した後、実施例1の工程(B)で得た1−0−ア
セチル−5−0−(t−ブチルジフェニルシリル)−2
−フェニルチオ−2,3−ジデオキシ−D−ペントフラ
ノース1.51 g (2,98ミリモル)を加え、ア
ルゴンガス雰囲気下、1g当り1モルの塩化スズ(IV
)を含むジクロロエタン溶液5.5 ml (5,5ミ
リモル)をゆっくり加え、周囲温度で3時間撹拌した。
に溶解した後、実施例1の工程(B)で得た1−0−ア
セチル−5−0−(t−ブチルジフェニルシリル)−2
−フェニルチオ−2,3−ジデオキシ−D−ペントフラ
ノース1.51 g (2,98ミリモル)を加え、ア
ルゴンガス雰囲気下、1g当り1モルの塩化スズ(IV
)を含むジクロロエタン溶液5.5 ml (5,5ミ
リモル)をゆっくり加え、周囲温度で3時間撹拌した。
反応終了後、反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
にあけ、クロロホルムで抽出した。この有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去して残留物
を得た。
にあけ、クロロホルムで抽出した。この有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去して残留物
を得た。
得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ(ク
ロロホルム メタノール= 98 二2)で精製した。
ロロホルム メタノール= 98 二2)で精製した。
得られた精製物1.66gは、N4−アセチル−1−[
5−O−(t−ブチルジフェニルシリル) −2,3−
ジデオキシ−2−フェニルチオ−β−D−ペントフラノ
シル]ントシンとその立体異性体て、その比は、89:
11であった(収率939ii)。
5−O−(t−ブチルジフェニルシリル) −2,3−
ジデオキシ−2−フェニルチオ−β−D−ペントフラノ
シル]ントシンとその立体異性体て、その比は、89:
11であった(収率939ii)。
この精製物を高速液体クロマトグラフ(固定層YMC社
^−363,0DS、直径30龍×長さ250關:移動
層ニアセトニトリル:水−75:25.流速10m1/
分;検出二紫外線吸収、λ−254nm)を用いて異性
体を分離し、目的とするN4−アセチル−1−[5−0
−(tブチルジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ
−2フェニルチオ−β−D−ペントフラノシル〕シトン
ン1.45g (2,42ミリモル)を得たく収率81
9c+)。
^−363,0DS、直径30龍×長さ250關:移動
層ニアセトニトリル:水−75:25.流速10m1/
分;検出二紫外線吸収、λ−254nm)を用いて異性
体を分離し、目的とするN4−アセチル−1−[5−0
−(tブチルジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ
−2フェニルチオ−β−D−ペントフラノシル〕シトン
ン1.45g (2,42ミリモル)を得たく収率81
9c+)。
生成物の物理的データは、以下の通りである。
H−MR(CDCh ) : δ(1)pm)10.5
2(I)1.br、、NH)。
2(I)1.br、、NH)。
8.34 (lH,d、J−7,5Hz、)l−6)、
7.68−7.61 (4H,i。
7.68−7.61 (4H,i。
aroaat 1c−H) 、 7.50−7.35
(81(、tx 、 aroiat 1c−H) 、
7.30−7.2415(31(、g、aromaLi
c−H)、7.20 (I)I、d、J−7,5Hz。
(81(、tx 、 aroiat 1c−H) 、
7.30−7.2415(31(、g、aromaLi
c−H)、7.20 (I)I、d、J−7,5Hz。
ll−5)、6.08(111,d、J=2.611z
、Il−ド)、4.55−4.45(lIl、*。
、Il−ド)、4.55−4.45(lIl、*。
H−4’)、4.18(111,dd、J−11,9,
2,211z、lト5°)、3.88(IH。
2,211z、lト5°)、3.88(IH。
dt、 J=6.3.3.0llz、ll−2’)、
3.72(III、dd 、J−12,0、2,611
z、1I−5°)、2.40(111,ddd、J−1
3,3,9,2,6,611z、ll−3’)。
3.72(III、dd 、J−12,0、2,611
z、1I−5°)、2.40(111,ddd、J−1
3,3,9,2,6,611z、ll−3’)。
2.27(311,s、Ac)、1.94(ltl、d
d、J−13,3,5,7,3,211z。
d、J−13,3,5,7,3,211z。
H−3’)、1.11(9H,S、t−BU)’C−N
MR(CDCIi ): δ (ppll)171
.09(Ac)、182.92(C−4)、154.9
0 (C−2)、144.11 (C−[i)、1
35.48(aromatic−C)、 135.3
3 (aroIIlatic−C)、 133.0
1(aromatic−C)、 132.88 (
aromatic−C)、 132.81(arom
atic−C)、132.34 (aromatic
−C)、129.99(aromatic−C)、
128.99 (aromatic−C)、 12
7.88(arosaLie−C)、96.64(C−
5)、9!、15(C−1’)、81.21(C−4’
)、64.19(C−so)、53.22(C−2°)
、31.48(C−3°)。
MR(CDCIi ): δ (ppll)171
.09(Ac)、182.92(C−4)、154.9
0 (C−2)、144.11 (C−[i)、1
35.48(aromatic−C)、 135.3
3 (aroIIlatic−C)、 133.0
1(aromatic−C)、 132.88 (
aromatic−C)、 132.81(arom
atic−C)、132.34 (aromatic
−C)、129.99(aromatic−C)、
128.99 (aromatic−C)、 12
7.88(arosaLie−C)、96.64(C−
5)、9!、15(C−1’)、81.21(C−4’
)、64.19(C−so)、53.22(C−2°)
、31.48(C−3°)。
27.03(t−Bu)、24.92(Ac)、19.
34(L−Bu)IR(KBr): ν(am−’)
1719.1671.1626.15BO。
34(L−Bu)IR(KBr): ν(am−’)
1719.1671.1626.15BO。
1495.1392.1317.1238.1114.
1093.789.743.704゜(D−3)
N’−アセチル−1−[5−O−(t−ブチルジフェニ
ルシリル)−2,3−ジデオキシ−2,3−ジデヒトロ
ーβ−D−ペントフラノシル]シトンンの製月2 工程(C3)で得られたN4−アセチル−1[5−O−
(t−ブチルジフェニルシリル)−2,3−ジテオキン
−2−フェニルチオ−β−〇−ペントフラノシル]シト
シン 1.75 g (2,93ミリモル)の無水ジク
ロロメタン25m1溶液に、無水条件下、0℃で■−ク
ロロ過安息香酸(純度80%) o、eeo g (3
,06ミリモル)の無水ジクロロメタン25m【溶液を
ゆっくり加え、0℃で3時間撹拌した。反応終了後、反
応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にあけ、ジクロ
ロメタンで抽出した。この有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧下溶媒を留去してN4−アセチル−1
−[5−O−(t−ブチルジフェニルシリル)−2,3
−ジデオキシ−2−フェニルスルフィニル−β−D−ペ
ントフラノシル]シトシンを得た。
1093.789.743.704゜(D−3)
N’−アセチル−1−[5−O−(t−ブチルジフェニ
ルシリル)−2,3−ジデオキシ−2,3−ジデヒトロ
ーβ−D−ペントフラノシル]シトンンの製月2 工程(C3)で得られたN4−アセチル−1[5−O−
(t−ブチルジフェニルシリル)−2,3−ジテオキン
−2−フェニルチオ−β−〇−ペントフラノシル]シト
シン 1.75 g (2,93ミリモル)の無水ジク
ロロメタン25m1溶液に、無水条件下、0℃で■−ク
ロロ過安息香酸(純度80%) o、eeo g (3
,06ミリモル)の無水ジクロロメタン25m【溶液を
ゆっくり加え、0℃で3時間撹拌した。反応終了後、反
応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にあけ、ジクロ
ロメタンで抽出した。この有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧下溶媒を留去してN4−アセチル−1
−[5−O−(t−ブチルジフェニルシリル)−2,3
−ジデオキシ−2−フェニルスルフィニル−β−D−ペ
ントフラノシル]シトシンを得た。
得られたN4−アセチル−1−[5−O−(t−ブチル
ジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−2−フェニ
ルスルフィニル−β−D−ベントフラノジルコシトシン
をキンレン50m1に溶解した後、トリ(n−ブチル)
アミン1.5 ml (6,3ミリモル)を加え、アル
ゴ、カス雰囲気下、1時間加熱還流した。反応終了後、
減圧下溶媒を留去して残留物を得た。
ジフェニルシリル)−2,3−ジデオキシ−2−フェニ
ルスルフィニル−β−D−ベントフラノジルコシトシン
をキンレン50m1に溶解した後、トリ(n−ブチル)
アミン1.5 ml (6,3ミリモル)を加え、アル
ゴ、カス雰囲気下、1時間加熱還流した。反応終了後、
減圧下溶媒を留去して残留物を得た。
得られた残留物をシリカケルカラムクロマトグラフ(ク
ロロホルム:メタノール−9L3)で精製し、N4−ア
セチル−1−[5−O−(t−プチルンフエニルシリル
)−2,3−ンデオキンー2.3−ジデヒドロ−β−D
−ベントフラノンJレコシトンン0.804 g(1,
64ミリモル)を得た(収率569(1)。
ロロホルム:メタノール−9L3)で精製し、N4−ア
セチル−1−[5−O−(t−プチルンフエニルシリル
)−2,3−ンデオキンー2.3−ジデヒドロ−β−D
−ベントフラノンJレコシトンン0.804 g(1,
64ミリモル)を得た(収率569(1)。
生成物の物理的データは、以下の通りである。
1)1−MI?(CDCh ) : δ(ppIIl)
10.08(1)1.br、、NH)。
10.08(1)1.br、、NH)。
11(lH,d、J−7,5Hz、H−8)−7,H−
7,BO(4H,+narotxat jc−H) 、
7.48−7.33 (6H,i 、 aromat
1c−H) 、 7.13(I)1.d、J−7,5
Hz、H−5>、7.02 (l)Ibr、、H−1’
)、 8.18(IH,quasi−d、J−5,9
Hz、H−2’)、6.01(I)I、quasi−d
J=6.011z、H−3’)、5.00−4.92(
lIl、i、H−4°)、3.99(IIIdd、 J
−11,7,3,0117,、H−5’)、3.83(
lH,dd、J−12,0,3,3Hz、tl−5’)
、2.28(311,s、Ac) 、 1.07(91
1,s、t−+3u)(E−3) 2’、3’−ジデ
オキシ−2“、3−ンデヒドローβ−N4−アセチルシ
チジンの製造工程(D−3)で得られた 〜4−アセチ
ルー1[5−O−(L−ブチルジフェニルシリル)−2
,3−ジデオキシ−2,3−/デヒドローβ−D−ペン
トフラノンルコントンン804 mg(1,[i4 ミ
リモル)の無水テトラヒドロフラン8 ml溶液に、1
Ω当り1モルのテトラ(n−ブチル)アンモニウムフル
オリトを含むテトラヒドロフラン溶液2m1(2ミリモ
ル)を加え、無水条件下、室温で45分撹拌した。反応
終了後、減圧下溶媒を留去して残留物を得た。
7,BO(4H,+narotxat jc−H) 、
7.48−7.33 (6H,i 、 aromat
1c−H) 、 7.13(I)1.d、J−7,5
Hz、H−5>、7.02 (l)Ibr、、H−1’
)、 8.18(IH,quasi−d、J−5,9
Hz、H−2’)、6.01(I)I、quasi−d
J=6.011z、H−3’)、5.00−4.92(
lIl、i、H−4°)、3.99(IIIdd、 J
−11,7,3,0117,、H−5’)、3.83(
lH,dd、J−12,0,3,3Hz、tl−5’)
、2.28(311,s、Ac) 、 1.07(91
1,s、t−+3u)(E−3) 2’、3’−ジデ
オキシ−2“、3−ンデヒドローβ−N4−アセチルシ
チジンの製造工程(D−3)で得られた 〜4−アセチ
ルー1[5−O−(L−ブチルジフェニルシリル)−2
,3−ジデオキシ−2,3−/デヒドローβ−D−ペン
トフラノンルコントンン804 mg(1,[i4 ミ
リモル)の無水テトラヒドロフラン8 ml溶液に、1
Ω当り1モルのテトラ(n−ブチル)アンモニウムフル
オリトを含むテトラヒドロフラン溶液2m1(2ミリモ
ル)を加え、無水条件下、室温で45分撹拌した。反応
終了後、減圧下溶媒を留去して残留物を得た。
得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ(ク
ロロホルム:メタノール−90: 10)で精製し、2
°、3′−ジデオキシ−2′、3°−ジデヒドロ−β−
N4〜アセチルンチジン275 a+g(1,09ミリ
モル)を得た(収率fi796)。
ロロホルム:メタノール−90: 10)で精製し、2
°、3′−ジデオキシ−2′、3°−ジデヒドロ−β−
N4〜アセチルンチジン275 a+g(1,09ミリ
モル)を得た(収率fi796)。
生成物の物理的データは、以下の通りである。
+1−NMI? (DMSO−d 、 ) :
δ (ppm)10.g9(IH,br、。
δ (ppm)10.g9(IH,br、。
NH) 、8.20(IH,d、J−7,5Hz、H−
6) 、7.15(IH,d、J−7,5Hz、H−5
>、6.8g−8,83(IN、+w、H−1’)、8
.38 (L)1.dt、J−fi、0,1.5t(z
、H−2’)、5.98(IH,dd、ノー8.0,1
.4)1z、)I−3’)。
6) 、7.15(IH,d、J−7,5Hz、H−5
>、6.8g−8,83(IN、+w、H−1’)、8
.38 (L)1.dt、J−fi、0,1.5t(z
、H−2’)、5.98(IH,dd、ノー8.0,1
.4)1z、)I−3’)。
5.02 (IH,L、J”5.3)1z、OH)、4
.87−4.83(I)1.c、H−4’)。
.87−4.83(I)1.c、H−4’)。
3.59 (2H,t、 ノー5.0Hz、H−5
’ )、2.O8(38、s 、Ac)〔発明の効果〕 以上説明した如くに、本発明の製造h゛法によれば、2
’、3’−ンデオキシー2゛、3−ジデヒドロ−β−リ
ボヌクレオシドを簡便nつ高いβ体選択率で合成できる
。これにより、それ自体エイズウィルス等に対する抗ウ
ィルス作用を何する化合物であると共に、他の医薬上有
用な関連化合物の原料である本化合物を大量且つ安定に
供給することが可能である。
’ )、2.O8(38、s 、Ac)〔発明の効果〕 以上説明した如くに、本発明の製造h゛法によれば、2
’、3’−ンデオキシー2゛、3−ジデヒドロ−β−リ
ボヌクレオシドを簡便nつ高いβ体選択率で合成できる
。これにより、それ自体エイズウィルス等に対する抗ウ
ィルス作用を何する化合物であると共に、他の医薬上有
用な関連化合物の原料である本化合物を大量且つ安定に
供給することが可能である。
出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
Claims (4)
- (1)(a)下記一般式で示される5−置換ピリミジン
誘導体(VI)と、下記一般式で示される2,3−ジデオ
キシ−2−(オルガノチオ)ペントフラノース誘導体(
V)とをルイス酸の存在下で反応させ、下記一般式で示
される1−(2,3−ジデオキシ−2−オルガノチオ−
β−D−ペントフラノシル)ピリミジン誘導体(IV)を
得る工程と、 ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) ▲数式、化学式、表等があります▼(V) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) 但し、式中のR^1〜R^5、X、YおよびZは次のも
のを表す。 R^1〜R^3:アルキル基またはフェニル基。 これらは同じでも異なってもよく、 また置換されていてもよい。 R^4:水酸基の保護基。 R^5:アルキル基またはフェニル基。これは置換され
ていてもよい。 X:酸素原子または窒素原子。窒素原子は他の原子若し
くは原子団を有する。 Y:水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルケ
ニル基。アルキル基およびア ルケニル基はハロゲン原子で置換されて いてもよい。 Z:ハロゲン原子、アシロキシ基、アルキルオキシ基ま
たはフェニルオキシ基。アル キルオキシ基およびフェニルオキシ基は 置換されていてもよい。 (b)工程(a)で得た1−(2,3−ジデオキシ−2
−オルガノチオ−β−D−ペントフラノシル)ピリミジ
ン誘導体(IV)を、過酸化物の存在下で酸化し、下記一
般式で示される1−(2,3−ジデオキシ−2−オルガ
ノスルフィニル−β−D−ペントフラノシル)ピリミジ
ン誘導体(III)を得る工程と、▲数式、化学式、表等
があります▼(III) (c)工程(b)で得た1−(2,3−ジデオキシ−2
−オルガノスルフィニル−β−D−ペントフラノシル)
ピリミジン誘導体(III)を、熱離脱反応に付すること
により下記一般式で示される1−(2,3−ジデオキシ
−2,3−ジデヒドロ−β−D−ペントフラノシル)ピ
リミジン誘導体(II)を得る工程と、▲数式、化学式、
表等があります▼(II) 及び (d)工程(c)で得た1−(2,3−ジデオキシ−2
,3−ジデヒドロ−β−D−ペントフラノシル)ピリミ
ジン誘導体(II)を、保護基の脱保護反応に付すること
により下記一般式で示される2′,3′−ジデオキシ−
2′,3′−ジデヒドロ−β−リボヌクレオシド誘導体
( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) を得る工程とを具備したことを特徴とする2′,3′−
ジデオキシ−2′,3′−ジデヒドロ−β−リボヌクレ
オシド誘導体( I )の製造方法。 - (2)下記一般式で示される化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼
- (3)下記一般式で示される化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼
- (4)下記一般式で示される化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2133913A JPH0454193A (ja) | 1990-05-25 | 1990-05-25 | 2’,3’―ジデオキシ―2’,3’―ジデヒドロ―β―リボヌクレオシドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2133913A JPH0454193A (ja) | 1990-05-25 | 1990-05-25 | 2’,3’―ジデオキシ―2’,3’―ジデヒドロ―β―リボヌクレオシドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0454193A true JPH0454193A (ja) | 1992-02-21 |
Family
ID=15116023
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2133913A Pending JPH0454193A (ja) | 1990-05-25 | 1990-05-25 | 2’,3’―ジデオキシ―2’,3’―ジデヒドロ―β―リボヌクレオシドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0454193A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1992022548A1 (fr) * | 1991-06-14 | 1992-12-23 | Japan Tobacco Inc. | PROCEDE DE PRODUCTION DE 2',3'-DIDESOXY-β-NUCLEOSIDES |
| WO1993018051A1 (fr) * | 1992-03-11 | 1993-09-16 | Japan Tobacco Inc. | Procede de production de derive de nucleosides |
| WO2005066160A1 (en) | 2004-01-08 | 2005-07-21 | Medivir Ab | Dutpase inhibitors |
| JP2015523337A (ja) * | 2012-05-23 | 2015-08-13 | ブリストル−マイヤーズ スクイブ カンパニーBristol−Myers Squibb Company | フェスチナビルを製造するためのスルフィリミンおよびスルホキシド方法 |
-
1990
- 1990-05-25 JP JP2133913A patent/JPH0454193A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1992022548A1 (fr) * | 1991-06-14 | 1992-12-23 | Japan Tobacco Inc. | PROCEDE DE PRODUCTION DE 2',3'-DIDESOXY-β-NUCLEOSIDES |
| EP0544010B1 (en) * | 1991-06-14 | 1995-12-13 | Japan Tobacco Inc. | Process for producing 2',3'-dideoxy-beta-nucleoside |
| WO1993018051A1 (fr) * | 1992-03-11 | 1993-09-16 | Japan Tobacco Inc. | Procede de production de derive de nucleosides |
| WO2005066160A1 (en) | 2004-01-08 | 2005-07-21 | Medivir Ab | Dutpase inhibitors |
| US7601702B2 (en) | 2004-01-08 | 2009-10-13 | Medivir Ab | Dutpase Inhibitors |
| JP2015523337A (ja) * | 2012-05-23 | 2015-08-13 | ブリストル−マイヤーズ スクイブ カンパニーBristol−Myers Squibb Company | フェスチナビルを製造するためのスルフィリミンおよびスルホキシド方法 |
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