JPH0454508B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0454508B2 JPH0454508B2 JP60229508A JP22950885A JPH0454508B2 JP H0454508 B2 JPH0454508 B2 JP H0454508B2 JP 60229508 A JP60229508 A JP 60229508A JP 22950885 A JP22950885 A JP 22950885A JP H0454508 B2 JPH0454508 B2 JP H0454508B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wastewater
- added
- sio
- polymer flocculant
- iron powder
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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- Separation Of Suspended Particles By Flocculating Agents (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(イ) 技術分野
本発明は、微細粒子が懸濁する排水を処理する
方法に関するもので、特に半導体製造工程等から
排出される微細なSiO2（硅酸）粒子を処理するこ
とに特徴のあるものである。
方法に関するもので、特に半導体製造工程等から
排出される微細なSiO2（硅酸）粒子を処理するこ
とに特徴のあるものである。
(ロ) 従来技術
近年、半導体産業の発展と共に、この製造工程
においてモノシラン等のシランガスを使用する機
会が多くなり、それに伴つてそのガス処理が問題
となり、燃焼等によりSiO2として固定し、これ
を水洗によつて排液として処理するのが通常であ
る。
においてモノシラン等のシランガスを使用する機
会が多くなり、それに伴つてそのガス処理が問題
となり、燃焼等によりSiO2として固定し、これ
を水洗によつて排液として処理するのが通常であ
る。
この場合、排液中のSiO2は非常に微細な形態
であり、これを処理する方法としては、硫酸バン
ドを添加して共沈させる方法が良く知られている
が、充分な除去率を得るまでに至つていないのが
現状である。
であり、これを処理する方法としては、硫酸バン
ドを添加して共沈させる方法が良く知られている
が、充分な除去率を得るまでに至つていないのが
現状である。
(ハ) 発明の構成
本発明は、上述のような従来法における問題を
解決した新規な微細粒子含有排水の処理方法を提
供するものである。
解決した新規な微細粒子含有排水の処理方法を提
供するものである。
即ち、本発明は微細粒子懸濁排水を処理するに
際し、まず原液のPHを４以下好ましくは２〜４に
調整した後、鉄粉を添加して撹拌した後、アルカ
リ剤を添加してPHを７以上好ましくは８〜10に調
整して酸化処理した後、有機系の高分子凝集剤を
添加して固液分離することを特徴とするものであ
る。
際し、まず原液のPHを４以下好ましくは２〜４に
調整した後、鉄粉を添加して撹拌した後、アルカ
リ剤を添加してPHを７以上好ましくは８〜10に調
整して酸化処理した後、有機系の高分子凝集剤を
添加して固液分離することを特徴とするものであ
る。
更に良好な形態としては、例えばSiO2等の微
細粒子が懸濁する排水のPHをPH４以下好ましくは
２〜４に調整した後、鉄粉を添加して一定時間撹
拌し、次いでNaOH等のアルカリ剤を添加して
PHをアルカリ側好ましくは８〜10調整し、エアレ
ーションや撹拌等の酸化処理を施した後、有機系
でノニオン系の高分子凝集剤を添加して固液分離
するもので、これにより液中のSiO2はほとんど
除去される。
細粒子が懸濁する排水のPHをPH４以下好ましくは
２〜４に調整した後、鉄粉を添加して一定時間撹
拌し、次いでNaOH等のアルカリ剤を添加して
PHをアルカリ側好ましくは８〜10調整し、エアレ
ーションや撹拌等の酸化処理を施した後、有機系
でノニオン系の高分子凝集剤を添加して固液分離
するもので、これにより液中のSiO2はほとんど
除去される。
本発明において、鉄粉のSiO2に対する挙動は
充分には解明されていないが、鉄粉自体及び該鉄
粉が酸と反応して溶出した鉄イオンがアルカリ剤
と反応して生成した活性度を有する水酸化鉄によ
りSiO2を吸着し、かつアルカリ側において上記
の高分子凝集剤と反応して、充分に共沈するもの
と思われる。
充分には解明されていないが、鉄粉自体及び該鉄
粉が酸と反応して溶出した鉄イオンがアルカリ剤
と反応して生成した活性度を有する水酸化鉄によ
りSiO2を吸着し、かつアルカリ側において上記
の高分子凝集剤と反応して、充分に共沈するもの
と思われる。
以下に本発明法を実施例をもつて詳細に説明す
る。
る。
(ニ) 実施例
実施例
半導体製造工程から排出されたSiO2を1000
mg／含有する排水１に鉱酸を添加してPH3.0
とし、この排水に鉄粉を10ｇ添加して３分間撹拌
した後、NaOHを添加してPH8.2にし、エアレー
ションした後、高分子凝集剤としてポリアクリル
アミド（ノニオン系）を10mg／添加して30秒間
撹拌した。その後、３分間静置して固液分離を行
つた。
mg／含有する排水１に鉱酸を添加してPH3.0
とし、この排水に鉄粉を10ｇ添加して３分間撹拌
した後、NaOHを添加してPH8.2にし、エアレー
ションした後、高分子凝集剤としてポリアクリル
アミド（ノニオン系）を10mg／添加して30秒間
撹拌した。その後、３分間静置して固液分離を行
つた。
液中のSiO2を分析した結果は２mg／であ
つた。
つた。
比較例 １
上記実施例と同一の排水１に、鉄粉を添加す
ることなく、NaOHを添加してPHを約８に調整
し、３分間撹拌したのち高分子凝集剤（ポリアク
リルアミド）を10mg／添加して再び30秒間撹拌
後、３分間静置して固液分離を行ない、液中の
SiO2を分析した。
ることなく、NaOHを添加してPHを約８に調整
し、３分間撹拌したのち高分子凝集剤（ポリアク
リルアミド）を10mg／添加して再び30秒間撹拌
後、３分間静置して固液分離を行ない、液中の
SiO2を分析した。
その結果、SiO2は980mg／であり、ほとんど
除去されなかつた。
除去されなかつた。
比較例 ２
上記実施例の同一の排水１に、鉄粉を添加す
ることなく、NaOHを添加してPHを約８に調整
し、３分間撹拌したのち高分子凝集剤として硫酸
バンドを１％の割合で添加して再び30秒間撹拌
後、３分間静置して固液分離を行ない、液中の
SiO2を分析した。
ることなく、NaOHを添加してPHを約８に調整
し、３分間撹拌したのち高分子凝集剤として硫酸
バンドを１％の割合で添加して再び30秒間撹拌
後、３分間静置して固液分離を行ない、液中の
SiO2を分析した。
その結果SiO2は450mg／であり、更に液中
に懸濁粒子が残存していることが確認された。
に懸濁粒子が残存していることが確認された。
(ホ) 発明の効果
以上の如く、本発明法によれば従来の各種処理
法では不適当であつた微細粒子懸濁排水を低コス
トで完全に処理できる利点がある。
法では不適当であつた微細粒子懸濁排水を低コス
トで完全に処理できる利点がある。
Claims (1)
- １ 半導体製造工場等から排出されるSiO2微細
粒子懸濁排水を処理する際に、該排水のPHを４以
下好ましくは２〜４に調整し、鉄粉を添加して撹
拌した後、アルカリ剤を添加してPHを８〜10に調
節して酸化処理した後、有機系高分子凝集剤を添
加して固液分離することを特徴とする微細粒子懸
濁排水の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22950885A JPS6291288A (ja) | 1985-10-15 | 1985-10-15 | 微細粒子懸濁排水の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22950885A JPS6291288A (ja) | 1985-10-15 | 1985-10-15 | 微細粒子懸濁排水の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6291288A JPS6291288A (ja) | 1987-04-25 |
| JPH0454508B2 true JPH0454508B2 (ja) | 1992-08-31 |
Family
ID=16893272
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22950885A Granted JPS6291288A (ja) | 1985-10-15 | 1985-10-15 | 微細粒子懸濁排水の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6291288A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2800367B1 (fr) * | 1999-11-03 | 2001-12-28 | Air Liquide Electronics Sys | Procede pour eliminer les particules solides notamment de silice et/ou d'alumine d'effluents aqueux |
| DE10022561A1 (de) * | 2000-05-10 | 2001-11-22 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur Reinigung von Abwasser aus der Chipproduktion |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5016351A (ja) * | 1973-06-01 | 1975-02-20 | ||
| JPS5136757A (en) * | 1974-09-09 | 1976-03-27 | Lion Fat Oil Co Ltd | Gyoshuchindenhoho |
-
1985
- 1985-10-15 JP JP22950885A patent/JPS6291288A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6291288A (ja) | 1987-04-25 |
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Legal Events
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