JPH0457368A - A/d変換器 - Google Patents
A/d変換器Info
- Publication number
- JPH0457368A JPH0457368A JP2169470A JP16947090A JPH0457368A JP H0457368 A JPH0457368 A JP H0457368A JP 2169470 A JP2169470 A JP 2169470A JP 16947090 A JP16947090 A JP 16947090A JP H0457368 A JPH0457368 A JP H0457368A
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- JP
- Japan
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- source
- drain
- mos
- regions
- fets
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- Pending
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- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)
- Analogue/Digital Conversion (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明は、コンパレータ素子としてMOS・FET
(MOS型電界効果型トランジスタ)を使用したA/D
変換器に関する。
(MOS型電界効果型トランジスタ)を使用したA/D
変換器に関する。
「従来の技術」
A/D変換器用コンパレータを構成するコンパレータ素
子として、MOS−FETが使用されている。
子として、MOS−FETが使用されている。
MOS−FETは周知のように第5図に示すような構成
を採る。
を採る。
同図A、Bにおいて、Sはソース(ソース領域)、Dは
下レイン(ドレイン領域)、Gはゲート(ゲート領域)
である。20.21.22は夫々各領域の取り出し電極
であって、24.25がそのコンタクト領域である。2
6は半導体基板である。
下レイン(ドレイン領域)、Gはゲート(ゲート領域)
である。20.21.22は夫々各領域の取り出し電極
であって、24.25がそのコンタクト領域である。2
6は半導体基板である。
MOS−FETの一般的な特徴としては、周知のように
、ソースとドレインは入れ替え可能である。これは、第
5図を見てもあきらかなように、ソースSとドレインD
は同じ構造をしているからである。
、ソースとドレインは入れ替え可能である。これは、第
5図を見てもあきらかなように、ソースSとドレインD
は同じ構造をしているからである。
ところで、実際に、MOS−FETの製造工程において
は、そのソース・ドレインを形成するイオン注入の工程
において、第6図のようにある角度θ(たとえば7°)
をもって注入することが、よく行われている。
は、そのソース・ドレインを形成するイオン注入の工程
において、第6図のようにある角度θ(たとえば7°)
をもって注入することが、よく行われている。
このとき、同図に示すように、ソース・ドレイン領域と
ゲートとの重なり量が、A側とB側とで違ってしまう。
ゲートとの重なり量が、A側とB側とで違ってしまう。
図の場合であると、B側の方が領域との重なり量が多い
。
。
そのために、A、B側どちらかをドレインDにするかで
トランジスタの飽和電流の値が違ってしまう。その結果
、ソース・ドレインを入れ替えると、厳密にはその特性
の対称性が成立しない。
トランジスタの飽和電流の値が違ってしまう。その結果
、ソース・ドレインを入れ替えると、厳密にはその特性
の対称性が成立しない。
また、MOS−FETの寄生容量としてのソースS(ま
たはドレインD)とゲートGとのオーバーラツプ容量も
、A側と842gとでは違ってくる。
たはドレインD)とゲートGとのオーバーラツプ容量も
、A側と842gとでは違ってくる。
ここで、このようなトランジスタを第7図に示すような
、チョッパ型コンパレータに応用した場合を考える。
、チョッパ型コンパレータに応用した場合を考える。
同図に示すチョッパ型コンパレータにおいて、Vref
は参照電圧、Vinは入力電圧、T、U、Xはトランス
ファーゲート、Cは結合容量(充放電用のコンデンサ)
、Yはインバータである。
は参照電圧、Vinは入力電圧、T、U、Xはトランス
ファーゲート、Cは結合容量(充放電用のコンデンサ)
、Yはインバータである。
トランスファーゲートT、U、Xは何れも導電形の異な
る一対のMOS−FETが並列接続されて構成されてい
る。
る一対のMOS−FETが並列接続されて構成されてい
る。
このチョッパ型コンパレータにおいて、クロックφがハ
イレベルのときには、結合容量Cに参照電圧V ref
とインバータYの論理閾値レベルVthの差を記憶す
る。次に、クロックφがローレベルとなったとき、結合
容量Cの入力に入力電圧Vinが印加されるから、イン
バータYの入力端Zには、V ref とVinの差だ
け論理閾値レベルvthから変化し、Vert とVi
nの比較結果がインバータYの出力に現れる。
イレベルのときには、結合容量Cに参照電圧V ref
とインバータYの論理閾値レベルVthの差を記憶す
る。次に、クロックφがローレベルとなったとき、結合
容量Cの入力に入力電圧Vinが印加されるから、イン
バータYの入力端Zには、V ref とVinの差だ
け論理閾値レベルvthから変化し、Vert とVi
nの比較結果がインバータYの出力に現れる。
このときに問題となるのは、トランスファーゲートXが
オフになるとき、クロックフィールドスルーにより、イ
ンバータの入力端子Zにオフセット電圧が発生する。
オフになるとき、クロックフィールドスルーにより、イ
ンバータの入力端子Zにオフセット電圧が発生する。
このフィールドスルーを発生させる要因に、ゲート容量
、ゲート・ソース(またはゲート・ドレイン)間のオー
バーラツプ容量がある。
、ゲート・ソース(またはゲート・ドレイン)間のオー
バーラツプ容量がある。
トランスファーゲートXがオフに変わる時、これらの容
量の値の変化により、ゲートあるいはソースから電流が
流れ込むことによって、オフセットが発生するからであ
る。
量の値の変化により、ゲートあるいはソースから電流が
流れ込むことによって、オフセットが発生するからであ
る。
[発明が解決しようとする課題]
ところで、A/D変換器、特に、特に並列形のA/D変
換器においては、多数のコンパレータを使用するが、全
てのコンパレータを同じ方向でレイアウトできれば、そ
のオフセット量に違いはなく、A/D変換器としての直
線性は非常によい。
換器においては、多数のコンパレータを使用するが、全
てのコンパレータを同じ方向でレイアウトできれば、そ
のオフセット量に違いはなく、A/D変換器としての直
線性は非常によい。
しかし、効率のよいレイアウトを考えると、全て同じ方
向に揃えるというのはあまりよくなく、通常、並列形A
/D変換器の場合、第8図に示すように、多数のコンパ
レータを数列に並べて構成することになる。
向に揃えるというのはあまりよくなく、通常、並列形A
/D変換器の場合、第8図に示すように、多数のコンパ
レータを数列に並べて構成することになる。
第8図は4ビツト構成例を示すもので、C8〜C15は
コンパレータで、その入力段に接続された抵抗器RO−
R17は基準の参照電圧を得るための抵抗器である。コ
ンパレータC0−Cl3にはアナログ信号(入力電圧V
in)が共通に入力する。
コンパレータで、その入力段に接続された抵抗器RO−
R17は基準の参照電圧を得るための抵抗器である。コ
ンパレータC0−Cl3にはアナログ信号(入力電圧V
in)が共通に入力する。
Do−D15はラッチ回路、3はエンコーダであって、
これより4ビツトのディジタル信号が出力される。
これより4ビツトのディジタル信号が出力される。
4ビツト構成とすると、効率よくレイアウトするために
は、例えば図のように8個を単位としてコンパレータ(
CO−C7)及び(C8〜C15)を並列に配置して構
成した方がよい。
は、例えば図のように8個を単位としてコンパレータ(
CO−C7)及び(C8〜C15)を並列に配置して構
成した方がよい。
そのため、このようなA/D変換器では多数のコンパレ
ータを数列に配列することがしばしば行なわれる。した
がって、列によってコンパレータの方向が逆になるので
、左側に配置されたコンパレータCo−C7のMOS−
FETと、右側に配置されたコンパレータC8〜C15
のMOS−FETとは、そのソース・ドレイン方向が逆
になってしまう。
ータを数列に配列することがしばしば行なわれる。した
がって、列によってコンパレータの方向が逆になるので
、左側に配置されたコンパレータCo−C7のMOS−
FETと、右側に配置されたコンパレータC8〜C15
のMOS−FETとは、そのソース・ドレイン方向が逆
になってしまう。
一方、このように配列する場合で、これらのコンパレー
タCo−Cl3を同時に半導体基板26上に形成すると
きには、半導体基板26に対するイオン注入方向は同じ
向きとなる。
タCo−Cl3を同時に半導体基板26上に形成すると
きには、半導体基板26に対するイオン注入方向は同じ
向きとなる。
そのため、コンパレータによってソース・ドレインの方
向が変わると上述したような理由から、そのオーバーラ
ツプ容量やソース・ドレイン電流の値が異なってくるた
めに、左側と右側とではオフセット量に差が生じ、正確
なA/D変換動作を行なうときの障害となる。
向が変わると上述したような理由から、そのオーバーラ
ツプ容量やソース・ドレイン電流の値が異なってくるた
めに、左側と右側とではオフセット量に差が生じ、正確
なA/D変換動作を行なうときの障害となる。
このように、現在広く行われている角度を持ったイオン
注入技術により、MOS−FETの特性の対称性が悪く
なり、オーバーラツプ容量や飽和電流などの特性に差が
現われてしまう。
注入技術により、MOS−FETの特性の対称性が悪く
なり、オーバーラツプ容量や飽和電流などの特性に差が
現われてしまう。
またざらに、同様の理由から、インバータYのゲインに
も違いを生じ、問題となってくる。
も違いを生じ、問題となってくる。
これらの問題を避けるためには、全てのコンパレータに
おいて、それを構成するインバータやトランスファーゲ
ートにおける、個々のMOS−FETのソース・ドレイ
ンの向きを揃える必要かある。
おいて、それを構成するインバータやトランスファーゲ
ートにおける、個々のMOS−FETのソース・ドレイ
ンの向きを揃える必要かある。
しかしながら、これは、レイアウトに関して制約を与え
てしまい、チップ面積の増大を招来するのであまり得策
な手段とは言い難い。
てしまい、チップ面積の増大を招来するのであまり得策
な手段とは言い難い。
そこで、本発明においては、MOS−FETの方向性に
よる影響を少なくしたA/D変換器を提供するものであ
る。
よる影響を少なくしたA/D変換器を提供するものであ
る。
「課題を解決するための手段」
上述した課題を解決するため、この発明においては、並
列型A/D変換器用コンバータにおいて、これに使用さ
れるトランスファーゲート用MOS・FETとして、 並列接続される第1及び第2のMOS−FETが使用さ
れ、 これら第1及び第2のMOS−FETは、夫々一対のゲ
ートが形成される他、これら一対のゲートを挟むように
第1〜第3のイオン注入領域が形成きれ、 中央部に位置する第2のイオン注入領域が夫々共通結線
されてソース領域若しくはドレイン領域となされると共
に、 第1及び第3のイオン注入領域の全てが共通結線されて
ドレイン領域若しくはソース領域となされたことを特徴
とするものである。
列型A/D変換器用コンバータにおいて、これに使用さ
れるトランスファーゲート用MOS・FETとして、 並列接続される第1及び第2のMOS−FETが使用さ
れ、 これら第1及び第2のMOS−FETは、夫々一対のゲ
ートが形成される他、これら一対のゲートを挟むように
第1〜第3のイオン注入領域が形成きれ、 中央部に位置する第2のイオン注入領域が夫々共通結線
されてソース領域若しくはドレイン領域となされると共
に、 第1及び第3のイオン注入領域の全てが共通結線されて
ドレイン領域若しくはソース領域となされたことを特徴
とするものである。
「作 用」
第1図及び第2図に示すように、ソース・ドレインのチ
ャネル方向が互いに反対の方向を持っMOS−FET5
0A、50Bにおいて、一方のソースと、他方のドレイ
ンとを共通の領域で形成し、それをソース(あるいはド
レイン)電極とする。
ャネル方向が互いに反対の方向を持っMOS−FET5
0A、50Bにおいて、一方のソースと、他方のドレイ
ンとを共通の領域で形成し、それをソース(あるいはド
レイン)電極とする。
また、残フた互いのソースとドレインを配線層により接
続し、ドレイン(あるいはソース)電極とする。さらに
、互いのゲートを1つとして接続し、それをゲート電極
とし、−個のMOS−FETを形成する。
続し、ドレイン(あるいはソース)電極とする。さらに
、互いのゲートを1つとして接続し、それをゲート電極
とし、−個のMOS−FETを形成する。
そうすると、このMOS−FETは、互いに反対のソー
ス・ドレイン方向を持ち、また、ゲートとソースの重な
りが、小ざいものと、大きいものを持ち、方向が入れ替
わってもその重なり量の総量に変化はない。
ス・ドレイン方向を持ち、また、ゲートとソースの重な
りが、小ざいものと、大きいものを持ち、方向が入れ替
わってもその重なり量の総量に変化はない。
ゲート・ドレイン間の重なりについても同様である。
これにより、このMOS−FETにおいて、ソースとド
レインが入れ替わっても、重なり容量や、ソース・ドレ
イン電流に変化はなく、オフセット量は全てのコンパレ
ータにおいて等しくなる。
レインが入れ替わっても、重なり容量や、ソース・ドレ
イン電流に変化はなく、オフセット量は全てのコンパレ
ータにおいて等しくなる。
「実 施 例」
続いて、この発明に係るA/D変換器の一例を第1図以
下を参照して詳細に説明する。
下を参照して詳細に説明する。
第1図は、第7図に示すようなチョッパ型コンパレータ
のトランスファーゲートT、U、Xにこの発明を適用し
た実施例を示す。
のトランスファーゲートT、U、Xにこの発明を適用し
た実施例を示す。
第1図は第2図に示す構成を基本構成とする。
したがって、説明の都合上この第2図をも参照して説明
する。
する。
まず、第1図のように、並列接続される第1及び第2の
MOS−FET50A、50Bが使用される。
MOS−FET50A、50Bが使用される。
これら第1及び第2のMOS−FET50A。
50Bは、第2図A、Bに示すように、ゲートGが形成
される他、このゲートGを挟むように第1〜第3のイオ
ン注入領域51,52.53が形成される。
される他、このゲートGを挟むように第1〜第3のイオ
ン注入領域51,52.53が形成される。
そして、中央部に位置する第2のイオン注入領域52が
、第1図のように夫々共通結線されてソース領域(若し
くはドレイン領域)となされると共に、第1及び第3の
イオン注入領域51.53の全てが共通結線されてドレ
イン領域(若しくはソース領域)となされる。
、第1図のように夫々共通結線されてソース領域(若し
くはドレイン領域)となされると共に、第1及び第3の
イオン注入領域51.53の全てが共通結線されてドレ
イン領域(若しくはソース領域)となされる。
第2図Bのように、ゲートGを挾んで3つのイオン注入
領域51〜53を形成すれば、換言するならば第2図A
の実線矢印で示すように互いに反対のソース・ドレイン
方向を持つようにゲート、ソース及びドレインの各領域
を形成すると、以下のような特性を持たせることができ
る。
領域51〜53を形成すれば、換言するならば第2図A
の実線矢印で示すように互いに反対のソース・ドレイン
方向を持つようにゲート、ソース及びドレインの各領域
を形成すると、以下のような特性を持たせることができ
る。
すなわち、このような構成とし、第2図Bのように同一
の方向から角度θをもってイオン注入して対応する領域
を形成すれば、ゲート・ソース間の重なり及びゲート・
ドレイン間の重なりか、何れの場合においても、小さい
ものと大きいものを持つことになる。
の方向から角度θをもってイオン注入して対応する領域
を形成すれば、ゲート・ソース間の重なり及びゲート・
ドレイン間の重なりか、何れの場合においても、小さい
ものと大きいものを持つことになる。
そして、第3図A、Bのように、ソース・ドレインの方
向が入れ替わってもその重なり量の総量には変化はなく
、第2図A、Bの場合と同じになる。
向が入れ替わってもその重なり量の総量には変化はなく
、第2図A、Bの場合と同じになる。
その結果、ソースとドレインが入れ替わったとしても、
MOS−FETの重なり量やソース・ドレイン電流は変
化しない。
MOS−FETの重なり量やソース・ドレイン電流は変
化しない。
きて、第2図において、55aはゲート電極、56aは
共通のソース電極、57〜59はコンタクト領域である
。
共通のソース電極、57〜59はコンタクト領域である
。
また、第1図において、Zは入力端、Coutは比較出
力である。そして、51a〜53a及び51b〜53b
はイオン注入領域であって、ソースS若しくはドレイン
Dとして機能する。
力である。そして、51a〜53a及び51b〜53b
はイオン注入領域であって、ソースS若しくはドレイン
Dとして機能する。
55.56はソースSまたはドレインDに対する共通電
極である。
極である。
第1図構成の動作も第7図の場合と同様であって、トラ
ンスファーゲートXに適用した場合について説明するな
らば、クロックφがハイレベルのとき、参照電圧Vre
fとインバータYの閾値電圧ythとの差の電圧が結合
容量Cに蓄積される。
ンスファーゲートXに適用した場合について説明するな
らば、クロックφがハイレベルのとき、参照電圧Vre
fとインバータYの閾値電圧ythとの差の電圧が結合
容量Cに蓄積される。
そして、クロックφがローレベルになったときに、結合
容量Cの入力に入力電圧Vinが印加されるから、結合
容量Cの出力端子Zは、Vref と■inの差だけv
thから変化する。これが反転増幅されて比較出力Co
utとして利用される。
容量Cの入力に入力電圧Vinが印加されるから、結合
容量Cの出力端子Zは、Vref と■inの差だけv
thから変化する。これが反転増幅されて比較出力Co
utとして利用される。
このとき、トランスファーゲートxのクロックフィール
ドスルーにより、2の電位にオフセットを発生きせる。
ドスルーにより、2の電位にオフセットを発生きせる。
しかし、第1図のように構成すると、第8図のような配
列で、ソース・ドレインの方向が逆になっても、重なり
容量やドレイン電流が各列とも同じ値になるから、第8
図の左側のコンパレータCO〜C7に発生するオフセッ
ト電圧と、右側のコンツマレータ08〜C15に発生す
るオフセット電圧とが等しくなる。
列で、ソース・ドレインの方向が逆になっても、重なり
容量やドレイン電流が各列とも同じ値になるから、第8
図の左側のコンパレータCO〜C7に発生するオフセッ
ト電圧と、右側のコンツマレータ08〜C15に発生す
るオフセット電圧とが等しくなる。
そのため、左側と右側のA/D変換特性(直線性)が一
致し、変換特性が改善される。
致し、変換特性が改善される。
なお、多数のコンパレータでA/D変換器を構成する場
合の配列数は3列以上でもよい。
合の配列数は3列以上でもよい。
ざて、第7図に示すインバータYにおいても、第8図の
ように配列した場合には、ソース・ドレインの向きが逆
になる。向きが逆になると、そのソース・ドレイン電流
の値が変わってしまうから、左右に配列されたインバー
タのゲインが相違してしまう。
ように配列した場合には、ソース・ドレインの向きが逆
になる。向きが逆になると、そのソース・ドレイン電流
の値が変わってしまうから、左右に配列されたインバー
タのゲインが相違してしまう。
このゲインの違いによっても、A/D変換器の直線性誤
差に影響を及ぼす。
差に影響を及ぼす。
そこで、このインバータYも、第2図に示したような構
成を採るMOS−FETを2個使用して第4図に示すよ
うに構成すれば、ゲインの相違もな(なる。
成を採るMOS−FETを2個使用して第4図に示すよ
うに構成すれば、ゲインの相違もな(なる。
同図において、56 a + 56 bはソース電極、
パ形コンパレータの構成図、 第8図は並列型A/ 60は共通のゲート電極、61は同じく共通のドD変換
器の構成図である。
パ形コンパレータの構成図、 第8図は並列型A/ 60は共通のゲート電極、61は同じく共通のドD変換
器の構成図である。
レイン電極である。
「発明の効果」
以上説明してきたように、本発明によれば、互いに逆の
ソース・ドレイン方向を持つMOS−FETを1つの間
03−FETとして構成することにより、その製造工程
により生じるソース・ドレイン方向における重なり容量
、ソース・ドレイン電流の非対称性を互いに相殺させる
ことができる。
ソース・ドレイン方向を持つMOS−FETを1つの間
03−FETとして構成することにより、その製造工程
により生じるソース・ドレイン方向における重なり容量
、ソース・ドレイン電流の非対称性を互いに相殺させる
ことができる。
これによって、MOS−FETのレイアウトにおける方
向性の制約を減らし、効率のよいレイアウトを実現でき
る。
向性の制約を減らし、効率のよいレイアウトを実現でき
る。
50A、50B ・ ・ ・MOS−FET51 a
〜53a、 5 l b〜53b・・・イオン注入領域 55a、55b、56,56a 56b、60.61・・・・電極
〜53a、 5 l b〜53b・・・イオン注入領域 55a、55b、56,56a 56b、60.61・・・・電極
Claims (2)
- (1)並列型A/D変換器用コンバータにおいて、これ
に使用されるトランスファーゲート用MOS・FETと
して、 並列接続される第1及び第2のMOS・FETが使用さ
れ、 これら第1及び第2のMOS・FETは、夫々一対のゲ
ートが形成される他、これら一対のゲートを挟むように
第1〜第3のイオン注入領域が形成され、 中央部に位置する第2のイオン注入領域が夫々共通結線
されてソース領域若しくはドレイン領域となされると共
に、 第1及び第3のイオン注入領域の全てが共通結線されて
ドレイン領域若しくはソース領域となされたことを特徴
とするA/D変換器。 - (2)請求項1において、 複数のコンパレータが複数列となるように配列されると
共に、 各列とも上記第1〜第3のイオン注入領域のイオン注入
方向が同一方向に選定されてなることを特徴とするA/
D変換器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2169470A JPH0457368A (ja) | 1990-06-27 | 1990-06-27 | A/d変換器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2169470A JPH0457368A (ja) | 1990-06-27 | 1990-06-27 | A/d変換器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0457368A true JPH0457368A (ja) | 1992-02-25 |
Family
ID=15887157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2169470A Pending JPH0457368A (ja) | 1990-06-27 | 1990-06-27 | A/d変換器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0457368A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5885845A (en) * | 1993-12-22 | 1999-03-23 | Nippon Sanso Corporation | Method for detecting inorganic hydrides, inorganic halides and organometallic compounds in a gas using copper hydroxide |
| JP2009170483A (ja) * | 2008-01-11 | 2009-07-30 | Seiko Epson Corp | サンプルホールド回路、集積回路装置、電気光学装置及び電子機器 |
| JP2009170482A (ja) * | 2008-01-11 | 2009-07-30 | Seiko Epson Corp | サンプルホールド回路、集積回路装置、電気光学装置及び電子機器 |
-
1990
- 1990-06-27 JP JP2169470A patent/JPH0457368A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5885845A (en) * | 1993-12-22 | 1999-03-23 | Nippon Sanso Corporation | Method for detecting inorganic hydrides, inorganic halides and organometallic compounds in a gas using copper hydroxide |
| JP2009170483A (ja) * | 2008-01-11 | 2009-07-30 | Seiko Epson Corp | サンプルホールド回路、集積回路装置、電気光学装置及び電子機器 |
| JP2009170482A (ja) * | 2008-01-11 | 2009-07-30 | Seiko Epson Corp | サンプルホールド回路、集積回路装置、電気光学装置及び電子機器 |
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