JPH0457765B2 - - Google Patents

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JPH0457765B2
JPH0457765B2 JP59265101A JP26510184A JPH0457765B2 JP H0457765 B2 JPH0457765 B2 JP H0457765B2 JP 59265101 A JP59265101 A JP 59265101A JP 26510184 A JP26510184 A JP 26510184A JP H0457765 B2 JPH0457765 B2 JP H0457765B2
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JP
Japan
Prior art keywords
resin
base
fabric
shape
wig base
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP59265101A
Other languages
English (en)
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JPS61146807A (ja
Inventor
Terumi Nakanishi
Michinobu Fujiwara
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Aderans Co Ltd
Original Assignee
Aderans Co Ltd
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Publication date
Application filed by Aderans Co Ltd filed Critical Aderans Co Ltd
Priority to JP26510184A priority Critical patent/JPS61146807A/ja
Publication of JPS61146807A publication Critical patent/JPS61146807A/ja
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Granted legal-status Critical Current

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  • Treatments For Attaching Organic Compounds To Fibrous Goods (AREA)
  • Woven Fabrics (AREA)
  • Knitting Of Fabric (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はかつら用ベース及びかつら用ベースの
製造方法に関し、特に、所望の形状に成形するこ
とが容易であるとともに、高い透湿性を有し、か
つ、人毛(人工毛)がベースからすり抜けないよ
うにするための処理(毛止め)を要しないかつら
用ベースを得ようとするものである。
従来、かつら用ベースaは、石膏等により頭部
形状に形成した型bの一方の面にナイロンストツ
キングのような薄いニツト生地cを貼り付け、そ
の外表面にウレタン系の樹脂を気泡、凹凸が生じ
ないように細心の注意をはらいながら5〜8回塗
布することにより形成していた。なお、ニツト生
地に薄いものを選んだのは、ウレタン系の樹脂を
均一に塗布できるようにするためである。
しかし、このようなかつら用ベースaは、その
樹脂塗布工程に多く手間がかかるとともに、薄い
ニツト生地cは樹脂膜dによつて完全に覆われて
しまうためニツト生地cの本来の伸縮性が失われ
てしまい、ベースaに第1図に示すようなV植え
や第2図に示すようなパンシングル植えなどによ
り植え付けた人毛(人工毛)eを引つ張ると、伸
縮性を失つたニツト生地cと一緒に樹脂膜dが簡
単に切れてしまうという問題がある。また、上述
したV植えやパンシングル植えのように人毛(人
工毛)eの根本をベースaにしつかりと結びつけ
ない植毛法においては、植え付けた人毛(人工
毛)eを引つ張ると人毛(人工毛)eがすべつて
ベースaからすり抜けてしまうという問題もあ
る。そこで植毛加工後、ベースaの裏面(内表
面)に樹脂fを塗つて裏面を滑らかにするととも
に、植え付けられた人毛(人工毛)eを引つ張つ
ても(人工毛)eがベースaからすり抜けないよ
うに、つまり、毛止めを行うようにしているが、
このことはかつら用ベースの製造に多大な手間を
要するようになる他、かつら用ベースの通気性、
透湿性が悪くなり、蒸れの原因になるほか、かつ
ら用ベースが比較的重量の重いものになつてしま
うという問題があつた。
本発明は上記従来の問題点を解決するためにな
されたもので、所望の形状に成形することが容易
であるとともに高い透湿性を有し、また、毛止め
作業が必要なく、更に、機械的強度が優れてお
り、また、薄膜化及び軽量化が可能なかつら用ベ
ース及びかつら用ベースの製造方法を提供するこ
とを目的とする。
上記した目的を達成するために、本発明は、伸
縮性を有する薄手のニツト生地の一方の面に伸縮
性及び透湿性を有する樹脂層が添着され、他方の
面に所望の形状に成形できるとともに成形後はそ
の形状を安定的に保持できる性質を有する樹脂が
膜化が生じないように半硬化状態に塗工されたか
つら用ベース用基布を用いたかつら用ベースとそ
の製造方法を提供するものである。
尚、樹脂が塗工されたかつらベース用基布を所
望の形状、この場合は頭部の型に沿つて成形する
ことができるとともに、成形後はその形状を安定
的に保持することができる性質を有する樹脂の例
としては、Bステージ(不完全硬化)の熱硬化性
樹脂であつて加熱の初期において成形し加熱の後
半で熱硬化するものや熱可塑性の樹脂であつて加
熱により変形した後冷却によつて固化するもの等
がある。
本発明のかつら用ベースのベース生地として
は、例えば、原糸段階で潜在巻縮を有する30デニ
ール、10フイラメントのナイロン糸を経40/2.54
cm、緯60/2.54cmで編成され、50%以上の面積伸
張率を有するニツト生地1(目付90g/m2)を用
いる。
そして、このようなニツト生地1の一方の面に
は伸縮性と透湿性を有する樹脂層2がラミネート
される。伸縮性と透湿性を有する樹脂としては、
非多孔性ポリウレタン、あるいはポリジメチルシ
ロキサンが使用される。
伸縮性と透湿性を有する樹脂層2をラミネート
する場合は、例えば、先ず、離型紙上にセイコー
化成(株)製の一液型ポリアミノ酸変性ポリウレタン
樹脂UA160を塗布し(10μm)、この上に接着用
の二液型ポリアミノ酸変性ポリウレタン樹脂
UD115を塗布し(25μm)、40℃の温風で2分間
乾燥して厚さ35μmの表面樹脂層を形成し、これ
をニツト生地に貼り合わせ、150℃で5分間熱処
理した後、40℃の雰囲気温度で約1昼夜熟成し、
物性を安定化する。
このようにラミネートされたニツト生地1の物
性は、透湿度:2000g/m2−24hr、耐水圧:2000
mm以上、経伸張度:100%以上、緯伸張度200%以
上であつた。また、伸縮性と透湿性を有する樹脂
を離型紙にコーテイングしてからニツト生地1に
貼り合わせるようにすると、ラミネートされた樹
脂の膜厚を一定にすることができる。
次にニツト生地1の一方の面に樹脂層2を形成
した素材を縦、横に拡大できる枠体に固定し、し
かる後、所望の形状に成形できるとともに成形後
はその形状を安定的に保持できる性質を有する樹
脂3として大日本インキ化学工業(株)製のブチルカ
クリレートを主体とする自己架橋型アクリル系ラ
テツクスデイクナール7210Vを上記素材のニツト
生地1の他方の面(裏面)に10g/m2塗布し、上
記枠体を拡大操作して素材を経、緯に伸張する。
例えば、ニツト生地1の経糸が44/2.54cmから
33/2.54cm(30%)、緯糸が60/2.54cmから51.2/
2.54cm(17%)程度となるように伸張する。この
ときの面積伸張率は56%となる。その後、80℃の
温度で3分間予備乾燥することによりかつらベー
ス用基布4を形成する。このときのアクリル系ラ
テツクスの乾燥状態は指で触つてべとつかない程
度になる。
尚、上述の予備乾燥の「予備」の意味は、かつ
ら用ベースを製造する場合において、かつらベー
ス用基布を頭部の形にした型に合わせて成形する
際の熱処理を考慮したものである。即ち、かつら
ベース用基布に樹脂を塗布する場合には、エマル
ジヨンや溶剤溶液の形で塗布されるので、乾燥し
て水分や溶剤を飛ばしておかないと取り扱えな
い。この際、とくに樹脂が熱硬化性樹脂である場
合、乾燥のための加熱が進み過ぎると完全に硬化
してしまつて基布には成形性がなくなる。そのた
め、この段階では樹脂を完全に硬化させず(Bス
テージ:半硬化状態)、取り扱いができる程度の
乾燥を行なう必要があるのである。そして、これ
を後の完全に硬化させるための加熱と区別して、
一般に予備乾燥と称しているのである。
なお、ニツト生地1の裏面にアクリル系ラテツ
クスを塗工する前に経、緯に伸張しておいても良
い。
上記のように形成されたかつらベース用基布4
を用いてかつら用ベースを形成するには、アクリ
ル系ラテツクスを塗工した面を内側にして、石膏
等で頭部形状に形成した型にシワが発生しないよ
うに伸張しながらセツトし、その周縁をピン、又
はステープラー等で固定する。次に、固定された
状態の型をそのまま乾燥機に入れ、150℃で5分
間熱処理して架橋させた。その後、自然放熱によ
り十分に冷却させた後、型から取り外せば、頭部
の型に倣つた形状のかつら用ベースが成形される
ことになる。
このようにして成形されたかつら用ベースの透
湿度は3000g/m2−24hrとなり当初のかつらベー
ス用基布4のそれより大きくなつた。これは枠体
によつて経、緯に伸張されることによつて膜厚が
薄くなるためであり、基布成形に使用される所望
の形状に成形できるとともに成形後はその形状を
安定的に保持できる性質を有する樹脂3はその量
が少ないこと、及びニツト生地1の表面に付着す
るだけで膜化するようなことがないためである。
また、枠体により伸張し熱処理したかつらベー
ス用基布4をかつら用ベースに使用すると、所望
の形状に成形できるとともに成形後はその形状を
安定的に保持できる性質を有する樹脂3はニツト
生地1の網目状をした繊維の表面に付着するが、
まだ網目の〓間は残つていてニツト生地1の全面
に亘つて樹脂の膜ができるようなことがないた
め、ニツト生地1は本来の伸縮性が失われず、基
布の機械的強度が著しく増す。しかも、人毛(人
工毛)は網目の〓間に無理やり通されることによ
つてベースに植え付けられるので、ベースとの摩
擦抵抗は著しく大きく、植え付けられた人毛(人
工毛)を引つ張つても人毛(人工毛)がすべつて
ベースからすり抜けてしまうことがない。そのた
め、植毛後に従来のように裏面から樹脂による毛
止め処理を行う必要がない。また、ニツト生地1
本来の伸縮性・柔軟性が残つているので、ニツト
生地1裏面の植毛された部分は植え付けられた人
毛(人工毛)に引つ張られて内側に引つ込むた
め、裏面に特別なテープ等を張らなくても植え付
けられた人毛(人工毛)が凸部になることによつ
てニツト生地1の裏面がざらざらになるようなこ
ともない。これに伴いかつら用ベースが軽量化さ
れるとともに、植毛の際にベースに生じた穴がそ
のまま残りその部分が通気性をさらに良好にする
ため、かつら用ベース自体の透湿度は10000g/
m2−24hr以上となり、かつら着用時の蒸れもほと
んど感ずることがなくなる。
なお、かつらベース用基布4の形成に使用され
る所望の形状に成形できるとともに形成後はその
形状を安定的に保持できる性質を有する樹脂3と
しては、エポキシ系、メラミン系、アクリル系、
ウレタン系等の熱硬化性、熱可塑性のいずれでも
良く、完成品の風合いによつて決定すれば良い。
以上に説明したところから明らかな通り、本発
明によれば、伸縮性を有する薄手のニツト生地の
一方の面に伸縮性及び透湿性を有する樹脂層を添
着し、他方の面に所望の形状に成形できるととも
に成形後はその形状を安定的に保持できる性質を
有する樹脂を膜化が生じないように半硬化状態に
塗工したものをかつらベース用基布とし、これを
伸張しながら頭部の形状に沿うように成形した後
熱処理してかつら用ベースとしたものであるか
ら、所望の形状に成形することが容易である。ま
た、ニツト生地の他方の面の(裏面)に人毛(人
工毛)がベースからすり抜けてしまわないように
するための毛止め処理が不要となるので、植毛に
よつて生じた穴が生かされて透湿性の高いかつら
用ベースとすることができる。そして、かつら用
ベースの軽量化及びその成形工程を簡素化でき、
さらに、均一な基布とすることができるほか、そ
の機械的強度も優れたものとなる。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は従来のかつら用ベースを用
いた場合の植毛法の一例を示すもので、第1図は
いわゆるV植えをする際の要部の拡大断面図、第
2図はいわゆるパンシングル植えをする際の要部
の拡大断面図、第3図乃至第5図は本発明の一例
を示すもので、第3図はニツト生地の拡大平面
図、第4図はニツト生地の裏面に樹脂が塗布され
た状態を示す拡大平面図、第5図はニツト生地の
両面に樹脂が塗布された状態を示す拡大断面図で
ある。 符号の簡単な説明、1……ニツト生地、2……
伸縮性及び透湿性を有する樹脂層、3……所望の
形状に成形できるとともに成形後はその形状を安
定的に保持できる性質を有する樹脂、4……かつ
らベース用基布。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 伸縮性を有する薄手のニツト生地の一方の面
    に伸縮性及び透湿性を有する樹脂層が添着され、
    他方の面に所望の形状に成形できるとともに成形
    後はその形状を安定的に保持できる性質を有する
    樹脂が膜化が生じないように半硬化状態に塗工さ
    れたかつらベース用基布を用いたかつら用ベー
    ス。 2 伸縮性及び透湿性を有する樹脂が、ポリウレ
    タンであることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載のかつら用ベース。 3 所望の形状に成形できるとともに成形後はそ
    の形状を安定的に保持できる性質を有する樹脂
    が、ブチルアクリレートを主体とするアクリル系
    ラテツクスから成ることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載のかつら用ベース。 4 伸縮性を有する薄手のニツト生地の一方の面
    に伸縮性及び透湿性を有する樹脂層を添着して熱
    処理し、他方の面に所望の形状に成形できるとと
    もに成形後はその形状を安定的に保持できる性質
    を有する樹脂をニツト生地の表面で膜化が生じな
    いように薄く塗工し、かつ、樹脂を半硬化状態に
    するために乾燥してかつらベース用基布を形成
    し、該かつらベース用基布を伸張しながら頭部の
    形状に沿うように成形した後、型ごと熱処理する
    ことを特徴とするかつら用ベースの製造方法。
JP26510184A 1984-12-15 1984-12-15 かつらベ−ス用基布及びこれを用いたかつら用ベ−スの製造方法 Granted JPS61146807A (ja)

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JP26510184A JPS61146807A (ja) 1984-12-15 1984-12-15 かつらベ−ス用基布及びこれを用いたかつら用ベ−スの製造方法

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JPS61146807A JPS61146807A (ja) 1986-07-04
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS58126304A (ja) * 1982-01-22 1983-07-27 日本メクトロン株式会社 かつらベ−スの製造方法
JPS58201644A (ja) * 1982-05-20 1983-11-24 株式会社アデランス シ−ト及び透湿性をもつたシ−トの製造法

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JPS61146807A (ja) 1986-07-04

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