JPH0461259A - 半導体集積回路装置の冷却方法および冷却構造 - Google Patents

半導体集積回路装置の冷却方法および冷却構造

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JPH0461259A
JPH0461259A JP2170031A JP17003190A JPH0461259A JP H0461259 A JPH0461259 A JP H0461259A JP 2170031 A JP2170031 A JP 2170031A JP 17003190 A JP17003190 A JP 17003190A JP H0461259 A JPH0461259 A JP H0461259A
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JP
Japan
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chip
cap
refrigerant
cooling
package
Prior art date
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Pending
Application number
JP2170031A
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English (en)
Inventor
Norishige Kikuchi
菊地 哲慈
Kanji Otsuka
寛治 大塚
Takashi Mori
隆志 森
Hiroshi Tate
宏 舘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Renesas Semiconductor Package and Test Solutions Co Ltd
Hitachi Solutions Technology Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0461259A publication Critical patent/JPH0461259A/ja
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/60Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers
    • H10W70/62Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers characterised by their interconnections
    • H10W70/65Shapes or dispositions of interconnections
    • H10W70/654Top-view layouts
    • H10W70/655Fan-out layouts
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/851Dispositions of multiple connectors or interconnections
    • H10W72/874On different surfaces
    • H10W72/877Bump connectors and die-attach connectors
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/721Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bump connectors
    • H10W90/724Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bump connectors between a chip and a stacked insulating package substrate, interposer or RDL

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  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 =産業上の利用分野: 本発明は、半導体集積回路装置の冷却技術に関するもの
である。
二従来の技術〕 近年の工、Slは、高集積化、高速化に伴って半導体チ
ップあたりの消費電力が著しく増大り、てこハるだと、
チップを基板に実装するにあたっては、動作時にチップ
から発生ずる熱を如何に効$Jく外部に放出するかがチ
ップの動作信頼性を確保する上で重要な対策となる。特
にチップを基板に面実装(フェイスダウンボンディング
)したような場合は、チップと基板とが小径のバンブ電
極(半田バンブ)を介して接続されるので、チップの熱
が効率よく外部に伝達されず、チップが過熱状態となり
、その結果回路が誤動作したり、チップの寿命が短くな
ったりする虞れがある。
ところで、日経BP社(1987,7,13>発行の「
日経エレクトロニクスJP167〜P176には、チッ
プ(またはチップを封止したパッケージ)を不活性液体
の冷媒に直接浸漬する冷却方式が記載されている。上記
浸漬冷却力式は、冷媒とチップ(またはパッケージ)と
を直接接触さゼ、チップ(またはパッケージ)の表面で
冷媒が6騰する際の熱伝達を利用した冷却方式であるた
釣、他の冷却方式(例えば伝導冷却方式など)に比べて
冷媒とチップとの間の熱抵抗をはるかに小さくできると
いう特長を備えている。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、上記浸漬冷却方式においては、チップの発熱
量が比較的小さいときは、チップ(またはパッケージ)
の表面のキズや凹凸などを核とする沸騰(核沸騰)によ
って冷却が効率良く進杓するのに対し、チップの発熱量
が増大すると、チップ(またはパッケージ)の表面で発
生ずる気泡同士が次第に融合し、ついには表面全体が気
泡で覆われる、いわゆる膜沸騰状態が生じるため、表面
が蒸気の膜で断熱され、冷却効率が激減してしまうとい
う問題があった。その対策として前訂文献におし′1て
は、冷媒を沸点以下の温度で$騰させる(サブクール4
!11)ことによって、膜沸騰の発生を防止しているが
、この場合は冷媒4玲却づ゛るための熱交換器が必要と
なるなど、装置が複維化してしまうという欠点があった
本発明は、上記した問題点に着目してなされたものであ
り、その目的は半導体集積回路装置の冷却効率を向上さ
せることのできる冷却技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の証述および添付図面から明らかになるであろう
3課題を解決するための手段〕 本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
本願の一発明は、半導体チップ、または半導体チップを
気密封止したパッケージの表面に液体状または固体状の
冷媒を微粒化して吹き付け、その気化熱を利用して冷却
を行う方法である。
ご作用〕 上記した手段によれば、チップ(またはパッケージ)の
表面に冷媒を微粒化して吹き付けることにより、冷媒を
核沸1に近い状暫で111させることができるので、膜
4@による冷却効率の低下を回避することができる。
以下、実施例を用し)で本発駅を詳述する。
〔実施例)。
本実施例の単導体集積回路装置は、第2図に示すような
チップキャリヤ(Chip Carrier) lであ
る。
チップキャリヤ1は、ムライトなどのセラミック材料か
らなるパッケージ基板2の主面の電極3上に半田バンブ
4を介して半導体チップ5をフェイスダウンボンディン
グし、このチップ5をキャップ6で気密封止したパッケ
ージ構造を備えている。
キャップ6は、例えば窒化アルミニウム(、IN)など
の高熱伝導性セラミックからなり、封止用半田7によっ
てパッケージ基板2の主面に接合されている。パッケー
ジ基板2の主面の外周部およびキャップ6の脚部の下面
には、上記封止用半田7の濡れ性を向上させるためのメ
タライズ層8が設(ゴられている。上記メタライズ層8
は、]゛11N1およびAuを順次積層した複合金rR
膜からなる。上記キャップG内に封止されたチップ5の
背面(上面)は、伝熱用半田9によってキャップ6の下
面と接合されている。これは、チップ5から発生ずる熱
を伝熱用半田9を通じてキャップ6に伝達するたtであ
る。上記伝熱用半田9の濡れ性を向上させるため、キャ
ップ6の下面には、メタライズ層8が設けられている。
パッケージ基板2の内層には、例えばW(タングステン
)からなる内部配線10が形成され、この内部配線10
を通じてパッケージ基板2の主面側の電極3と下面側の
電極3とが電気的に接続されている。下面側の電極3に
は、チップキャリヤ1を後述するモジュール基板に実装
する際の外部端子となる半田バンブ11が接合されてい
る。
上記チップキャリヤ1を組立てるには、甘ずチップ5の
主面に形成した半田バンブ4をパッケージ基板2の主面
の電極3上に位置決めした後、このパッケージ基板2を
不活性ガス雰囲気のりフロ−炉に移送し、その中で半田
バンブ4を加熱、再溶融することによってチップ5をパ
ッケージ基板2の主面にフェイスダウンボンディングす
る。次に、封止用半田7を用いて上記パッケージ基板2
の主面にキャップ6を接合するとともに、伝熱用半田9
を用いてチップ5の背面をキャップ6の下面に接合する
。パッケージ基板2の主面にキャップ6を半田付けする
には、あらかしtパッケージ基板?、の主面およびキャ
ップ6の脚部に封止用半田7を被着した後、パッケージ
基板2の主面にキャップ6を被せ、次いでリフロー炉に
て封止用半田7を加熱、溶融する。その際、封止用半田
7の濡れ広がり性を向上させるたt、キャップ6上に適
度の重さの錘りを載せて荷重を印加する。
上記封止用半田7および伝熱用半田9は、半田バンブ4
を構成する半田よりも低い溶融温度の半田で構成する。
さもないと、リフロー炉内で封止用半田7および伝熱用
半田9を加熱、溶融する際に半田バンブ4が再溶融し、
キャップ6にかかる荷重によって半田バンブ4が潰れて
しまうた?l>、隣り合った半田バンブ4同七が短絡し
でしまうからである。このような理由から、Il記¥、
■バンブ4は、例えば3〜4重量%稈度のSnを含有す
るP b / S n合金(溶融温度7320〜330
℃程度)などの高融点半田で構成し、封止用¥、田7お
よび伝熱用半田9は、例えば10重量%程度のSnを含
有するPb/Sn合金(溶融温度 21)0〜310℃
程度)などの低融点半田で構成する。
本実施例は、以上のような構成からなるチップキャリヤ
1の所定数を半田バンブ11を介して第1図に示すモジ
ュール基板12の主面に実装し、たものである。
モジコール基板12は、例えばセラミックで構成され、
その内部には図示しない多層配線が形成されている。チ
ップキャリヤ1をモジニール基板12の主面に実装する
には、パッケージ基板2の下面側の電極3に接続した半
田バンブ11をモジュール基板12の主面の電極(図示
せず)上に正確に位置決めし、このモジュール基板12
を不活法ガス雰囲気のりフロー炉に移送してその中で半
田バンブ11を加熱、再溶融する。その際、チップキャ
リヤ1の封止用半田7や伝熱用半田9が再溶融するのを
防止するたt1半田バンブ11は、封止用半田7や伝熱
用半田9よりもさらに低融点の半田、例えば30重量%
程度のSnを含有するPb/Sn合金(溶I!l!温度
−250〜269℃程度)などにより構成する。
チップキャリヤ1を実装した上記モジュール基板12の
上方には、冷媒供給用ジャケット13および冷媒排出用
ジャケット14がそれぞれ配置されている。冷媒供給用
ジャケット13内には、その一端に設けられた供給口1
5を通じて液体状の冷媒(例えばパーフルオロカーボン
)が圧入されるようになっている。他方、冷媒排出用ジ
ャケット14の一端には、冷媒の蒸気を外部に排出する
排出口16が設けられている。排出口16の途中には、
冷媒排出用ジャケット14内の冷媒の蒸気を強制排気す
るポンプ(図示せず)が接続されている。排出口16の
他端側は、冷媒供給源(図示せず)に接続され、ここで
冷却、液化された冷媒は、再び供給口15を通じて冷媒
供給用ジャケット13内に圧入される。
上記モジュール基板12の主面に実装されたそれぞれの
チップキャリヤ1の上方には、上端が冷媒供給用ジャケ
ット13内に開孔されたノズル17が配置されている。
上記ノズル17の先端(下端)は、それぞれのチップキ
ャリヤ1のキャップ6の背面近傍に配置されており、キ
ャップ6の背面のほぼ全域に冷媒の微粒子を吹き付ける
ようになっている。また、それぞれのチップキャリヤ1
のキャップ6上には、上端が冷媒排出用ジャケット14
内に開孔された筒状の冷却ブロック18が搭載されてい
る。冷却ブロック18の下端は、ろう材19を介してキ
ャップ6の外周部に接続されている。上記冷却ブロック
18の側壁の一部にはベローズ20が形成されている。
上記ベローズ20は、チップ5の発熱によってキャップ
6、冷却ブロック18、パッケージ基板2、モジ、−ル
基板12などが熱膨張した際、それら各部材の熱膨張係
数差によって半田バンブ11に強いストレスが加わるの
を防止するた於に形成されl:、(、)Z)。
次に、ト、記した本実施例の冷却構造の信用、効果を説
明する。
チップ5に形成された集積回路がIl!I會を開始′4
ると、チップ5から発生した熱がキャンプ6やパッケー
ジ基板2に伝達され、チップキャリヤ1全体が加熱され
る。すると、冷媒供給用ジ丁ケット・13に接続された
ノズル17の先端からそれぞれのチップキャリヤ1のキ
ャップ6の背面のほぼ全域に冷媒の微粒子が吹き付lj
られる。キャップ6の背面に到達し5た冷媒の微粒子は
、加熱されてr騰し、七の気化熱1.:よ−っでキャッ
プ6の背面から熱が奪われるた〆)、チップキャリヤ1
が冷却さ才する。キャップ6の背面で気化した冷媒は、
冷却ブロック18、冷媒排出用ジャケット14および排
出口16を通じて外部に排出される。
上記冷却41造においては、ノズル17の先端からキャ
ップ6の背面に到達し、たそれぞれの冷媒微粒子は、キ
ャップ6の背面の極めて微細な領域で沸騰するため、冷
媒は核沸騰に近い状態で沸騰する。そこで、ノズル17
の先端か・)吐出さix玲媒微杓了の種類や吐出t4最
適化し4、キヤ・lプ〔jの背面に供給4″る冷媒量と
沸騰する玲:*mh:iはぼ同(: i、”、’、、’
、 1’−6(、とに、にす、チップ5が動作11、′
τ゛いる間、冷媒を常に核飢騰1コ送い状蓄ひf2遭さ
(ることが又・きる。これにより、2冷媒の膜S @ 
I: l、る冷却効率の低ドを回避−4ることができる
の”て・、チップ5の過熱1こよる集積回路の誤1や、
チップ5の寿命低下を有効に防止することができる。
以上、本発明者によってなされた発明を実施例に基づき
具体的に説明し、だが、本発明は、前記実施例に限定さ
れるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種・ヤ
変更可能であることはいうまでもない。
前a己実施例では、液体状の冷媒微粒子を用いた場合に
ついて説明したが、固体状の冷媒微粒子を用いることも
できる。
前記実施例では、チップ→ヤリャの冷却技術に適用しま
た場合について説明したが、チップを気密封止した各種
構造のパッケージに適用することがて・きる。また、基
板上1こ天笠しブこ裸のチップ(ベアチップ)の背面に
直接冷媒微粒−f4吹きイ・フけで冷却を行うこともで
きる。
=発明の効果〕 本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得るれる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
米導体チップ、または半導体チップを気密Itihした
パッケージの表面に固体、または液体からなる冷媒の微
粒子を吹き付ける半導体集積回路装置の冷却方法によれ
ば、冷媒を核沸騰に近い状態で涜騰させることができる
ので、膜沸騰による冷却効率の低下が回避され、半導体
チップから発生する熱を効率良(外部に逃がすことがで
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例である半導体集積回路装置
の冷却構造を示す要部破断正面図、第2図は、チップキ
ャリヤ形半導体集積回路装置の要部破断正面図である。 1・・・チップキャリヤ、2・・・パッケージ基板2.
3・・・電極、4.11・・・半田バンプ、5・・・単
導体チップ、6・・・キャップ、7・・・封」−用崖田
、8・・・メタライズ層、9・・・伝熱用半田、10・
・・内部配線、12・・・モジュール基板、13・・・
冷媒供給用ジャケット、14・・・冷媒排出用ジャケッ
ト、15・・・供給口、16・・・排出口、17・・・
ノズル、18・・・冷却ブロック、19・・・ろう材、
2G・・・ベローズ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、半導体チップ、または半導体チップを気密封止した
    パッケージの表面に固体、または液体からなる冷媒の微
    粒子を吹き付けることを特徴とする半導体集積回路装置
    の冷却方法。 2、半導体チップ、または半導体チップを気密封止した
    パッケージを基板の主面に実装し、前記半導体チップ、
    またはパッケージの近傍に固体、または液体からなる冷
    媒の微粒子が吐出される吹き付け手段を配置したことを
    特徴とする半導体集積回路装置の冷却構造。 3、前記パッケージは、パッケージ基板の主面にフェイ
    スダウンボンディングした半導体チップをキャップで気
    密封止したチップキャリヤ構造を有していることを特徴
    とする請求項2記載の半導体集積回路装置の冷却構造。
JP2170031A 1990-06-29 1990-06-29 半導体集積回路装置の冷却方法および冷却構造 Pending JPH0461259A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002046677A1 (fr) * 2000-12-04 2002-06-13 Fujitsu Limited Systeme de refroidissement et dispositif absorbant la chaleur
JP2007538384A (ja) * 2004-02-24 2007-12-27 アイソサーマル システムズ リサーチ,インコーポレイティッド ホットスポット噴霧冷却(関連出願)なし(連邦政府の後援による研究又は開発に関する記述)本発明は、空軍研究所により発注された#f33615−03−m−2316契約により政府の支援のもとなされた。政府は、本発明に一定の権利を有する。
US7498830B2 (en) 2004-07-30 2009-03-03 Espec Corp. Burn-in apparatus
US7558064B2 (en) 2004-07-30 2009-07-07 Espec Corp. Cooling apparatus

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002046677A1 (fr) * 2000-12-04 2002-06-13 Fujitsu Limited Systeme de refroidissement et dispositif absorbant la chaleur
US7055341B2 (en) 2000-12-04 2006-06-06 Fujitsu Limited High efficiency cooling system and heat absorbing unit
JP2007538384A (ja) * 2004-02-24 2007-12-27 アイソサーマル システムズ リサーチ,インコーポレイティッド ホットスポット噴霧冷却(関連出願)なし(連邦政府の後援による研究又は開発に関する記述)本発明は、空軍研究所により発注された#f33615−03−m−2316契約により政府の支援のもとなされた。政府は、本発明に一定の権利を有する。
US7498830B2 (en) 2004-07-30 2009-03-03 Espec Corp. Burn-in apparatus
US7558064B2 (en) 2004-07-30 2009-07-07 Espec Corp. Cooling apparatus

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