JPH0461609A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明は高周波信号を効率良く記録再生するのに好適な
磁気ヘッドに関する。

（ロ）従来の技術 近年、ＶＴＲ等の高周波信号を記録再生する磁気記録再
生装置において、ビデオヘッド用磁性材料として高周波
損失の少ないフェライト材料が用いられている。しかし
ながら、近年になって高品位ＶＴＲやディジタルＶＴＲ
のように更に広帯域の信号を取り扱うシステムの開発が
盛んになってきており、記録媒体もこのような大量の情
報を記録するための高密度化の流れの中で酸化鉄系から
合金粉末媒体や金属蒸着媒体等の高抗磁力媒体に移行し
つつある。これに対して、フェライトヘッドではその最
大磁束密度が高々５０００ガウス程度であり、また短波
長信号を効率良く再生するためには狭ギャップにする必
要があり、上述のような抗磁力が１００００ｅ以上の高
抗磁力媒体ではギャップ先端部のフェライトコアが飽和
し、十分な記録ができない。そこで最大磁束密度の高い
センダストやアモルファス磁性合金等の金属材料を用い
た磁気ヘッドの開発が行われているが、バルク状の金属
磁性材料を用いたのでは渦電流による高周波損失が大き
いため、渦電流損失が少ない金属磁性膜と非磁性膜との
積層膜を用いた各種ヘッドが提案されている。

従来、この種の磁気ヘッドとしては、例えば、特開昭６
０−３２１０７　（ＧＩＩＢ　　５／１２７）等に開示
されているような積層膜を用いた磁気ヘッドが知られて
いる。

第３３図は従来の磁気ヘッドの外観を示す斜視図であり
、第３４図は従来の磁気ヘッドの磁気媒体摺動面を示す
図である。

図中、（１）（２）はＭ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライト等の
強磁性酸化物よりなる第１、第２コア部材である。

上記第１、第２コア部材（１）（２）のギャップ形成側
の端面には、ギャップのトラック幅を規制するトラック
幅規制溝（１１）（１１）と該ギャップのトラック幅方
向と角度θで傾斜する斜面（８）（８）とが形成されて
いる。上記第１、第２コア部材（１）（２）の上記ギャ
ップ形成側の斜面（８）（８）上には、センダスト等よ
りなる第１強磁性金属膜（５）（５）とＳ＋Ｏｓ等より
なる非磁性膜（６）（６）とが交互に積層された積層膜
（７）（７）が被着形成され、夫々第１、第２磁気コア
半体（３）（４’）を構成する。前記第１、第２磁気コ
ア半体（３）（４’）の積層膜（７）（７）のギャップ
形成側の端面（７ａ）（７ａ）全域には、ギャップとな
るＳｉｎ、等よりなる０、１μｍ厚の非磁性材が被着形
成されている。上記トラック幅規制溝（１１）（１１）
には耐摩耗性の優れた溶着ガラス（２１）（２１）　（
軟化点：４８０℃）が充填されている。上記第１、第２
磁気コア半体（３）（４）は上記積層膜（７）（７）の
ギャップ形成側の端面（７ａ）（７ａ）同士が上記非磁
性材を介して突き合わされた状態で接合固定され、該接
合部に磁気ギャップ（１０）が形成される。前述の接合
は前記溶着ガラス（２１）（２１）の溶融同化により為
されている。上記第２磁気コア半体（４）には巻線（２
２）（２２）が巻回される巻線溝（１３）が形成されて
いる。

（ハ）発明が解決しようとする課題 上記従来の磁気ヘッドでは、上記積層膜（７）（７）の
ギャップ形成側の端面（７ａ）（７ａ）の幅Ｔが磁気ギ
ャップ（１０）の見かけのトラック幅となる。記録再生
を行う磁気ギャップ（１０）の実質的なトラック幅は、
前記積層膜（７）（７）を構成する非磁性膜（６）（６
）の部分では磁化を行わないので、上記非磁性膜（６）
（６）の分だけ見かけのトラック幅Ｔより小さくなる。

例えば、上記積層膜（７）（７）のギャップ形成側の端
面（７ａ）（７ａ）に露出している前記非磁性膜（６）
（６）が膜厚０．２μｍで、４層である場合、記録再生
を行う実質的なトラック幅は積層膜（７）（７）のギャ
ップ形成側の端面（７ａ　）　（７ａ　）の幅、即ち見
かけのトラック幅Ｔより０．２Ｘ４／　ｓ　ｉ　ｎ６μ
ｍ小さくなる。従って、実質的なトラック幅の減少によ
り、記録再生効率が低下するという問題が生じる。また
、上記構造の磁気ヘッドで記録された磁気媒体を再生す
る際、上記非磁性膜（６）（６）に対応する部分の磁気
媒体が完全に磁化されていないため、トラックずれが起
こる場合、記録再生効率がさらに低下するという問題も
あった。

よって、本発明は実質的なトラック幅の減少がなく、且
つ高周波特性の優れた記録再生効率の良好な磁気ヘッド
を提供することを目的とするものである。

（ニ）課題を解決するための手段 そこで、本発明は上述した課題に鑑み為されたものであ
り、一対の磁気コア半体からなり、前記一対の磁気コア
半体のうち少なくとも一方の磁気コア半体は第１強磁性
金属膜と非磁性膜とからなる積層膜を備え、該積層膜の
ギャップ形成側の端面には第２強磁性金属膜が形成され
、該第２強磁性金属膜を磁気ギャップとなる非磁性材を
介して他方の磁気コア半体に突き合わせてなる磁気ヘッ
ドを提供するものである。

（ホ）作用 よって、本発明によれば、第１強磁性金属膜が非磁性膜
により絶縁分離された積層膜よりなるので渦電流による
高周波損失が低減でき、且つ上記積層膜のギャップ形成
側の端面には第２強磁性金属膜が被着形成されているの
で、ギャップ近傍では前記積層膜を構成する非磁性膜が
存在せず、実質的なトラック幅が見かけのトラック幅と
等しくなる。

（へ）実施例 以下、図面を参照しつつ本発明の第１実施例に着いて詳
細に説明する。

第１図は第１実施例の磁気ヘッドの外観を示す斜視図、
第２図は第１実施例の磁気へ、ノドの媒体摺動面を示す
図であり、従来例と同一部分には同一符号を付してその
説明は割愛する。

第１実施例の磁気ヘッドでは、第１、第２磁気コア半体
（３）（４）の積層膜（７）（７）のギャップ形成側の
端面（７ａ）（７ａ）上にセンダスト等よりなる第２強
磁性金属膜（１４１）（１４２）が３〜６μｍ厚に被着
形成されている。上記第２強磁性金属膜（１４１）（１
４２）の上面にはギャップとなる厚み０．１μｍのＳｉ
Ｏ３等よりなる非磁性材が被着形成されている。上記第
１、第２磁気コア半体（３）（４）は上記第２強磁性金
属膜（１４１）（１４２）同士を前記非磁性材を介して
突き合わされた状態で接合固定され、該接合部には磁気
ギャップ（１０）が形成される。

次に、第３図〜第１９図を参照しつつ第１実施例の磁気
ヘッドの製造方法について説明する。

まず、厚み１．３ｍｍのＭ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライト等
の強磁性酸化物よりなる第１、第２基板（１５）（１６
）を用意し、該第１、第２基板（１５）（１６）のギャ
ップ形成側の端面となる上面に鏡面加工を施す。

尚、この第１、第２基板（１５）（１６）は夫々上記第
１、第２コア部材（１）（２）の母材である。その後、
第３図及び第４図に示すように、上記第１、第２基板（
１ｓ）（１６）の上面に斜面（８）（８）を有する傾斜
溝（２３）（２３）を一定のピッチで機械加工により複
数形成する。

次の工程で、第５図及び第６図に示すように、上記第１
、第２基板（１５）（１６）の上面にセンダストよりな
る５μｍ厚の第１強磁性金属膜（５）（５）とＳｉｎ、
等の０．２ｐｍ厚の非磁性膜（６）（６）をスパッタリ
ング法等により交互に積層し、上記第１強磁性金属膜（
５）（５）が上記非磁性膜（６）（６）により絶縁分離
された６層構造の積層膜（７）（７）を形成する。更に
その積層膜（７）（７）の上面全域には、５ｉｆｔ等の
保護膜（１７）（１７）を１μｍ厚被着膨成する。尚、
図中で積層膜（７）（７）の積層数は正確には図示して
いない。

次の工程では、第７図及び第８図に示すように上記第１
、第２基板（１５）（１６）の傾斜溝（２３）（２３）
内に溶着ガラス（２１）（２１）が充填されるように該
溶着ガラス（２１）（２１）を上記保護膜（１７）（１
７）上の全域に形成する。

次の工程で、第９図及び第１０図に示すように、上記第
１、第２基板（１５）（１６）の傾斜溝（２３）（２３
）内のみに前記積層膜（７）（７）、前記保護膜（１７
）（１７）及び前記溶着ガラス（２１）（２１）が残る
ように該第１、第２基板（１５）（１６）の上面を鏡面
研摩する。この工程により前記積層膜（７）（７）のギ
ャップ形成側の端面（７ａ）（７ａ）が前記第１、第２
基板（１５）（１６）の上面に露出する。

次の工程で、第１１図及び第１２図に示すように、上記
第１、第２基板（１５）（１６）の上面全域にセンダス
ト等よりなる第２強磁性金属膜（１４１）（１，４２）
をスパッタリング法等により、所望の厚みに被着形成し
、更に該第２強磁性金属膜（１４１）（１４２）上に磁
気ギャップとなるＳ　ｉＯを等の非磁性材を被着する。

次の工程では、第１３図、第１４図に示すように、上記
第１、第２基板（１５）（１６）の上面をイオンビーム
エツチング法等により、上記積層膜（７）（７）のギャ
ップ形成側の端面（７ａ）（７ａ）上に上記第２強磁性
金属膜（１４１）（１４２）が残るようにエツチングを
行つ。

次の工程では、第１５図、第１６図に示すように、上記
第１、第２基板（１５）（１６）の上面にトラック幅規
制溝（１１）（１１）をダイシングソー等により加工形
成する。前記トラック幅規制溝（１１）（１１）は前記
積層膜（７）（７）のギャップ形成側の端面（７ａ）（
７ａ）及び第２強磁性金属膜（１４１）（１４２）の一
部を除去して、該第２強磁性金属膜（１４１）（１４２
）の幅を磁気ギャップの見かけのトラック幅Ｔに一致さ
せる。

さらに第２基板（１６）の上面には巻線溝（１３）及び
溶着ガラス溝（１８）をダイシングソー等により加工す
る。

次の工程では、第１７図に示すように、上記第１、第２
基板（１５）（１６）に形成された上記第２強磁性金属
膜（１４１）（１４２）同士を上記ギャップ形成用の非
磁性材を介して突き合わせた状態で、溶着ガラス溝（１
８）に溶着ガラス（軟化点＝４８０℃）よりなるガラス
棒を挿入しく図示せず）、該ガラス棒及び上記溶着ガラ
ス（２１）（２１）を４８０℃以上で溶融固化すること
により溶着ブロック（厘）を形成する。

次に、第１８図に示すように、上記溶着ブロック（］９
）をダイシングソー等により切断し、切断ブロック（２
０）を形成する。その後、第１９図に示すように上記切
断ブロック（厘）の磁気媒体摺動面上にＲ付は加工を施
した後、ダイシングソー等により切断し、磁気媒体摺動
面上の加工等を施して第１図に示す磁気ヘッドが完成す
る。

上述の磁気ヘッドでは、第１強磁性金属膜（５）（５）
が非磁性膜（６）（６）により絶縁分離された積層膜（
７）（７）よりなる磁気ヘッドであるので渦電流による
高周波損失が低減でき、しかも上記積層膜（７）（７）
のギャップ形成側の端面（７ａ）（７ａ）には第２強磁
性金属膜（１４１）（１４２）が被着形成されているの
で、ギャップ近傍では前記積層膜（７）（７）を構成す
る非磁性膜（６）（６）が存在せず、磁気ギャップ（１
０）の実質的なトラック幅は第２強磁性金属膜（１４１
）（１４２）の幅、即ち見かけのトラック幅Ｔに等しく
なる。従って、上記積層膜（７）（７）を構成する非磁
性膜（６）（６）による記録再生特性の劣化が生じない
。

以下、本発明の第２実施例について説明する。

第２０図は第２実施例の磁気ヘッドの外観を示す斜視図
であり、第２１図は第２実施例の磁気ヘッドの媒体摺動
面を示す図である。

図中、（３１）（３２）は第１、第２コア部材である。

前記第１、第２コア部材（３１）（３２）は、結晶化ガ
ラス等の非磁性材料よりなる厚さ０．３ｍｍの第１補強
基板（３３ａ）（３３ａ）上にセンダスト等の第１強磁
性金属膜（５）（５）と５ｉＯｚ等の非磁性膜（６）（
６）で構成される積層膜（７）（７）が被着形成されて
いる。前記積層膜（７）（７）の上面にはＳｉｎ。

等の保護膜（１７）（１７）が１μｍ厚に被着形成され
おり、該保護膜（１７）（１７）には結晶化ガラス等よ
りなる厚さ０．３ｍｍの第２補強基板（３３ｂ）（３３
ｂ）が高融点ガラス等の接着層（３５）により接合され
ている。上記第１、第２コア部材の積層膜（７）（７）
のギャップ形成側の端面（７ａ）（７ａ）上にはセンダ
スト等の第２強磁性金属膜（１，４１）（１４２）が所
望の厚みに被着形成され、夫々第１、第２磁気コア半体
（３）（４）が形成される。さらに、前記第２強磁性金
属膜（１４１）（１４２）の上面には、ギャップとなる
５ｉＯ１等の非磁性材を０．１μｍ厚に被着形成されて
いる。その上面には溶着ガラス（４０）（４０）　（軟
化点：３０５℃）が形成されている。上記第１、第２磁
気コア半体（３）（４）は、該第１、第２磁気コア半体
（３）（４）の第２強磁性金属膜（１４１）（１４２）
同士が上記非磁性材を介して付き合わされた状態で接合
固定され、該接合部には磁気ギャップ（１０）が形成さ
れる。前述の接合は前記溶着ガラス（４０）（４０）の
溶融固化により為される。尚、上記第１磁気コア半体（
３）には上記溶着ガラス（４０）が充填される溶着ガラ
ス溝（３９）が形成されており、上記第２磁気コア半体
（４）には巻線（２２）が巻回される巻線溝（１３）が
形成されている。

次に、第２２図〜第３２図を参照しつつ第２実施例で用
いられる磁気ヘッドの製造方法について説明する。

まず、第２２図に示すように厚さ１ｍｍの結晶化ガラス
等の非磁性材料からなる補強基板（３３）上に厚さ５μ
ｍのセンダスト等の第１強磁性金属磁性膜（５）と厚さ
０．２μｍの５ｉｆｔ等の非磁性膜（６）をスパッタリ
ング法等により交互に４層積層して膜厚２０．６μｍの
積層膜（７）を被着形成する。さらに前記積層膜（７）
上の全域にＳｉｎ、等の保護膜（］７）を１μｍ厚に被
着形成し、さらに、その保護膜（１７）上にスクリーン
印刷により高融点ガラス（軟化点６７０℃）を塗布して
、接着層（３５）を形成し、ブロック（３６）を作製す
る。

次に、前記積層ブロック（３６）を複数個用意し、一方
の積層ブロック（３６）の補強基板（３３）の下部と他
方の積層ブロック（３６）部の積層膜（７）とが対向す
るように積み重ね、その後、前記接着層（３５）を加熱
により溶融固化して積層ブロック（３６）同士を接合し
、第２３図に示すような接着ブロック（３ｚ）を作成す
る。この後、第２３図中に示されている破線Ａ−Ａ　′
に沿ってダイシングソー等により分断し、その後、該分
断面に研摩を施して、第２４図に示すようなコアブロッ
ク（３８）を一対作成する。この工程により前記積層膜
（７）（７）のギャップ形成側の端面（７ａ）（７ａ）
が前記コアブロック（３８）の上面に露出する。

その後、第２５図に示すように、前記一対のコアブロッ
ク（３８）（３８）のうち一方のコアブロック（３８ａ
）の分断面、即ち、上記コアブロック（３８ａ）のギャ
ップ形成側の端面にダイシングソー等により、溶着ガラ
ス溝（３９）を形成する。一方、第２６図に示すように
もう一方のコアブロック（３８ｂ）には、巻線（２２）
（２２）が巻回される巻線溝（１３）が形成する。

次に、第２７図及び第２８図に示すように上記一対のコ
アブロック（３８ａ）（３８ｂ）のギャップ形成側の端
面の全域にセンダスト等の第２強磁性金属膜（１４１）
（１４２）を所望の厚みに被着形成する。

その後、第２９図及び第３０図に示すように上記−対の
コアブロック（３８ａ　）　（３８ｂ）の上面をイオン
ビームエッチンング法等により前記積層膜（７）（７）
のギャップ形成側の端面（７ａ）（７ａ）にのみ上記第
２強磁性金属膜（１４１）（１４２）を残すようにエツ
チングする。その後、コアブロック（３８ａ）（３８ｂ
）のギャップ形成側の端面上の全域にギャップとなるＳ
１０！等の厚さ０．１μｍの非磁性材をスパッタリング
法等により形成する。

その後、第３１図に示すように上記コアブロック（３８
ａ）のギャップ形成側の端面に形成された上記溶着ガラ
ス溝（３９）に低融点ガラス（軟化点：３０５℃）より
なる接着ガラス（４０）を充填するようにコアブロック
（３８ａ）　（３８ｂ）の前記ギャップ形成側の端面全
域に形成する。

最後に、第３２図に示すように前記一対のコアブロック
（当）（■）を第２強磁性金属膜（１４１）（１４２）
同士を上記ギャップとなる非磁性材を介して突き合わせ
た状態で、溶着ガラス（４０）を溶融固化することによ
り接合して、接合コアブロック（４２）を形成する。そ
の後、前記接合アブロック（４２）を第３２図の破線Ｂ
−Ｂ　′及び破線Ｃ−Ｃ−に沿って、ダイシングソー等
により分断し、さらに、摺動面研摩及び巻線を施し、第
２０図に示すような第２実施例の磁気ヘッドが完成する
。　尚、この破線Ｂ−Ｂ′に沿う分断により、補強基板
（３３）は補強基板（３３ａ　）　（３３ｂ）に分断さ
れる。

上述の第２実施例の磁気ヘッドにおいても磁気ギャップ
（１０）は、第１、第２磁気コア半体（３）（４）の非
磁性膜（６）（６）間に形成されているため、第１実施
例の磁気ヘッドと同様の効果が得ることができる。

尚、上述第１、第２実施例では、第１、第２磁気コア半
体（３）（４）両方に積層膜（７Ｘ７　）を有するが、
どちらか一方の磁気コア半体にのみ積層膜（７）を有す
る構造の磁気ヘッドにおいても上述の実施例と同様の効
果を得ることができる。

（ト）発明の効果 本発明によれば、高周波特性に優れ、磁気ギャップの見
かけのトラック幅に対する実質的なトラック幅の減少に
よる記録再生特性の劣化を防止した磁気ヘッドを提供し
得る。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第１９図は本発明の第１実施例に係９、第１
図は磁気ヘッドを示す斜視図、第２図は磁気ヘッドの媒
体摺動面を示す図、第３図、第４図、第５図、第６図、
第７図、第８図、第９図、第１０図、第１１図、第１２
図、第１３図、第１４図、第１５図、第１６図、第１７
図、第１８図及び第１９図は夫々磁気ヘッドの製造方法
を示す斜視図である。第２０図乃至第３２図は本発明の
第２実施例に係り、第２０図は磁気ヘッドを示す斜視図
、第２１図は磁気ヘッドの媒体摺動面を示す図、第２２
図、第２３図、第２４図、第２５図、第２６図、第２７
図、第２８図、第２９図、第３０図、第３１図及び第３
２図は夫々磁気ヘッドの製造方法を示す斜視図である。 第３３図及び第３４図は従来例に係り、第３３図は磁気
ヘッドを示す斜視図、第３４図は磁気ヘッドの媒体摺動
面を示す図である。 （３）・・・第１磁気コア半体、（４）・・・第２磁気
コア半体、（５）・・・第１強磁性金属膜、（６）・・
・非磁性膜、（７）・・・積層膜、（７ａ）・・・積層
膜のギャップ形成側の端面、（１０）・・・磁気ギャッ
プ、（１４１）（１４２）・・・第２強磁性金属膜。 第１図 第１９図 第２０図 −あ図 第凶図 第３１図 鴨１図 第２８図 第３２図 手続補正書 （自発） 平成２年８月１０日 １　。 事件の表示 平成 年特許願第１６８８０４号 ２　。 発明の名称 磁 気 ド ３゜ 補正をする者 事件との関係 名 称 特 許 出 願 人 三洋電機株式会社 ４゜ 代 理 人 住 所 守口市京阪本通２丁目１８番地 連絡先：ｔ！（東家） 知的財産上ｌター駐在 出端 図面の 「第３４図」 を別紙のとおり補正する。 以 上 ぐ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一対の磁気コア半体からなり、前記一対の磁気コ
   ア半体のうち少なくとも一方の磁気コア半体は第１強磁
   性金属膜と非磁性膜とからなる積層膜を備え、該積層膜
   のギャップ形成側の端面には第２強磁性金属膜が形成さ
   れ、該第２強磁性金属膜を磁気ギャップとなる非磁性材
   を介して他方の磁気コア半体に突き合わせてなる磁気ヘ
   ッド。