JPH0463464A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPH0463464A JPH0463464A JP17802090A JP17802090A JPH0463464A JP H0463464 A JPH0463464 A JP H0463464A JP 17802090 A JP17802090 A JP 17802090A JP 17802090 A JP17802090 A JP 17802090A JP H0463464 A JPH0463464 A JP H0463464A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat dissipation
- semiconductor element
- semiconductor device
- heat
- block
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、外部絶縁形の平形の半導体素子を圧接構造
にした半導体装置に関するものである。
にした半導体装置に関するものである。
[従来の技術1
従来、この種の半導体装置には第2図に示すようなもの
があった。
があった。
第2図において、1は放熱フィン、2は平形の半導体素
子、3はこの半導体素子2を圧接挟持する放熱ブロック
であり、この放熱ブロック3はボルト4およびナツト5
で締め付けられ、半導体素子2を圧接している。6はば
ねであり、7は絶縁ブツシュ、8は絶縁板である。そし
て、これらはケース9内に収容され、さらに放熱フィン
1の所定の深さの溝1bに収容されている。1Qはブス
バである。11は前記絶縁板8と放熱フィン1の内壁と
の間にできた微少な隙間である。
子、3はこの半導体素子2を圧接挟持する放熱ブロック
であり、この放熱ブロック3はボルト4およびナツト5
で締め付けられ、半導体素子2を圧接している。6はば
ねであり、7は絶縁ブツシュ、8は絶縁板である。そし
て、これらはケース9内に収容され、さらに放熱フィン
1の所定の深さの溝1bに収容されている。1Qはブス
バである。11は前記絶縁板8と放熱フィン1の内壁と
の間にできた微少な隙間である。
次に、動作について説明する。
半導体素子2は圧接する必要があるため、普通ばね6を
ボルト4.ナツト5.放熱ブロック3によって締め付け
て使用する。また、半導体素子2は通電特大量の熱を発
生するので、これをうま(外気中へ放熱する機構を設け
る必要がある。そのため、熱伝導の良好な絶縁板8を介
して放熱フィン1と密着しており、熱はこの絶縁板8か
ら放熱フィン1を通して外気中に放出される。また、取
り扱い上安全なように電気絶縁物であるケース9により
半導体素子2の陰極、陽極と通じるブスバ10以外は外
部と電気的に遮断された構造となっている。
ボルト4.ナツト5.放熱ブロック3によって締め付け
て使用する。また、半導体素子2は通電特大量の熱を発
生するので、これをうま(外気中へ放熱する機構を設け
る必要がある。そのため、熱伝導の良好な絶縁板8を介
して放熱フィン1と密着しており、熱はこの絶縁板8か
ら放熱フィン1を通して外気中に放出される。また、取
り扱い上安全なように電気絶縁物であるケース9により
半導体素子2の陰極、陽極と通じるブスバ10以外は外
部と電気的に遮断された構造となっている。
[発明が解決しようとする課題]
上記の外部絶縁形の半導体装置は、上記のように構成さ
れているが、半導体素子2の厚みのバラツキ、放熱ブロ
ック3の厚みのバラツキにより、放熱フィン1に設けら
れた満1bに半導体素子2を圧接した放熱ブロック3を
組み込んだ場合、満1bの内壁と放熱ブロック3.絶縁
板8の間に微少な隙間11ができ、そのため熱伝導がう
まく行かず、放熱が不十分となり、温度上昇のため半導
体素子2の特性を十分に発揮することができなかった。
れているが、半導体素子2の厚みのバラツキ、放熱ブロ
ック3の厚みのバラツキにより、放熱フィン1に設けら
れた満1bに半導体素子2を圧接した放熱ブロック3を
組み込んだ場合、満1bの内壁と放熱ブロック3.絶縁
板8の間に微少な隙間11ができ、そのため熱伝導がう
まく行かず、放熱が不十分となり、温度上昇のため半導
体素子2の特性を十分に発揮することができなかった。
この発明は、上記のような問題点を解決するためになさ
れたものであり、放熱フィンに設けられた溝に放熱ブロ
ックが完全に密着するような構造にして放熱効率を飛躍
的に向上させた半導体装置を得ることを目的とする。
れたものであり、放熱フィンに設けられた溝に放熱ブロ
ックが完全に密着するような構造にして放熱効率を飛躍
的に向上させた半導体装置を得ることを目的とする。
この発明に係る半導体装置は、放熱フィンに、深くなる
に従って狭くなるような断面形状がv字状の溝を設ける
とともに、半導体素子を両側から圧接する放熱ブロック
にも、前記7字状の溝の傾斜と同じ傾斜を形成すること
により、両者を絶縁板を介して組み立てた時、必ず前記
7字状の溝の内壁に密着するように構成したものである
。
に従って狭くなるような断面形状がv字状の溝を設ける
とともに、半導体素子を両側から圧接する放熱ブロック
にも、前記7字状の溝の傾斜と同じ傾斜を形成すること
により、両者を絶縁板を介して組み立てた時、必ず前記
7字状の溝の内壁に密着するように構成したものである
。
[作用]
この発明においては、放熱ブロック、絶縁板および放熱
フィンが完全に7字状の溝の内壁に密着する構成とした
ことにより、半導体素子の動作時に発生する熱はすみや
かに外気中へ放熱される。
フィンが完全に7字状の溝の内壁に密着する構成とした
ことにより、半導体素子の動作時に発生する熱はすみや
かに外気中へ放熱される。
[実施例]
以下、この発明の一実施例を第1図について説明する。
第1図において、1は放熱フィンであり、1aはこの放
熱フィン1に形成された溝で、この溝1aは深さが深く
なるに従って狭くなる断面V字状に形成されている。ま
た、放熱ブロック3は放熱フィン1に設けた7字状の満
1aの傾斜に等しい傾斜が外側に形成されている。なお
、その他は第2図と同様な構成となっている。
熱フィン1に形成された溝で、この溝1aは深さが深く
なるに従って狭くなる断面V字状に形成されている。ま
た、放熱ブロック3は放熱フィン1に設けた7字状の満
1aの傾斜に等しい傾斜が外側に形成されている。なお
、その他は第2図と同様な構成となっている。
次に、動作について説明する。
半導体素子2と放熱ブロック3をポルト4とナツト5に
よりばね6を介して締め付けた組立物は、半導体素子2
と放熱ブロック3の厚みのバラツキに応じたバラツキを
持ったものとなる。
よりばね6を介して締め付けた組立物は、半導体素子2
と放熱ブロック3の厚みのバラツキに応じたバラツキを
持ったものとなる。
しかし、放熱フィン1に設けた7字状の溝1aは放熱ブ
ロック3と同様なテーパを有しているので、前記組立物
の厚みが大きい場合は上方へ、また、厚みが小さい場合
は下方ヘシフトするだけであり、放熱ブロック3と放熱
フィン1の溝1aの内壁とはいつも絶縁板8を介して完
全に密着していることになる。
ロック3と同様なテーパを有しているので、前記組立物
の厚みが大きい場合は上方へ、また、厚みが小さい場合
は下方ヘシフトするだけであり、放熱ブロック3と放熱
フィン1の溝1aの内壁とはいつも絶縁板8を介して完
全に密着していることになる。
そのため、半導体素子2の動作時に発生する熱は効率よ
く放熱ブロック3から絶縁板8を通り放熱フィン1に伝
達され、外気中へ放散される。
く放熱ブロック3から絶縁板8を通り放熱フィン1に伝
達され、外気中へ放散される。
なお、上記実施例では半導体素子2が1個の場合を示し
たが、2個以上であってもよ(、上記実施例と同様の効
果を奏する。
たが、2個以上であってもよ(、上記実施例と同様の効
果を奏する。
[発明の効果1
以上説明したように、この発明は、放熱フィンに設けら
れる溝を、その深さが深くなるに従って狭くなるような
断面形状を7字状に形成するとともに、放熱ブロックに
も7字状の溝の傾斜と同じ傾斜を形成したので、半導体
素子と放熱ブロックを組み合わせたとき、多少の寸法の
バラツキがあっても必ず熱伝導性の良好な絶縁板を介し
て7字状の溝の内壁面に密着する。したがって、常に良
好な放熱が実現でき、半導体素子の特性を十分発揮する
ことができる半導体装置が得られる効果がある。
れる溝を、その深さが深くなるに従って狭くなるような
断面形状を7字状に形成するとともに、放熱ブロックに
も7字状の溝の傾斜と同じ傾斜を形成したので、半導体
素子と放熱ブロックを組み合わせたとき、多少の寸法の
バラツキがあっても必ず熱伝導性の良好な絶縁板を介し
て7字状の溝の内壁面に密着する。したがって、常に良
好な放熱が実現でき、半導体素子の特性を十分発揮する
ことができる半導体装置が得られる効果がある。
第1図はこの発明の一実施例による半導体装置を示す断
面図、第2図は従来の半導体装置を示す断面図である。 図において、1は放熱フィン、1aは溝、2は半導体素
子、3は放熱ブロック、4はボルト、5はナツト、6は
ばね、7は絶縁ブツシュ、8は絶縁板、9はケース、1
oはブスバである。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。
面図、第2図は従来の半導体装置を示す断面図である。 図において、1は放熱フィン、1aは溝、2は半導体素
子、3は放熱ブロック、4はボルト、5はナツト、6は
ばね、7は絶縁ブツシュ、8は絶縁板、9はケース、1
oはブスバである。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (1)
- 放熱フィンに設けられた溝内に、平形の半導体素子を
放熱ブロックで圧接挟持して収容した外部絶縁形の半導
体装置において、前記放熱フィンに設けられる溝を、そ
の深さが深くなるに従って狭くなるように断面形状をV
字状に形成するとともに、前記放熱ブロックにも前記V
字状の溝の傾斜と同じ傾斜を形成したことを特徴とする
半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17802090A JPH0463464A (ja) | 1990-07-03 | 1990-07-03 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17802090A JPH0463464A (ja) | 1990-07-03 | 1990-07-03 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0463464A true JPH0463464A (ja) | 1992-02-28 |
Family
ID=16041175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17802090A Pending JPH0463464A (ja) | 1990-07-03 | 1990-07-03 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0463464A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007192901A (ja) * | 2006-01-17 | 2007-08-02 | Fuji Xerox Co Ltd | 定着装置 |
| JPWO2024204310A1 (ja) * | 2023-03-31 | 2024-10-03 |
-
1990
- 1990-07-03 JP JP17802090A patent/JPH0463464A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007192901A (ja) * | 2006-01-17 | 2007-08-02 | Fuji Xerox Co Ltd | 定着装置 |
| JPWO2024204310A1 (ja) * | 2023-03-31 | 2024-10-03 | ||
| WO2024204310A1 (ja) * | 2023-03-31 | 2024-10-03 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置、電力変換装置、インバータ基板、および放熱フィン |
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