JPH0464520B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はサンドブラスト・マスク層又は下絵付
模様層をスクリーン印刷により形成した転写シー
トの素焼物えのスライド転写法に係り、吸水性が
大きいためスライド転写が不可能とされた素焼物
の表面にサンドブラスト・マスク層又は下絵付模
様層をスクリーン印刷により形成した転写シート
によつてスライド転写を施すようにするものであ
る。

（従来の技術） 食器皿等の中間製品である素焼体は、重さの20
％以上の重さの水を扱う特性を備えているのが通
常であつて、前記を体積に換算すれば素焼物の吸
水率は極めて大きい。このためスクリーン印刷に
より製造された転写シートの模様層をスライド手
段により滑らせて素焼物の指定位置にスライド移
動することは全く不可能である。このため転写シ
ートのサンドブラスト・マスク層、下絵付模様層
等をスライド手段により転写することが採算的に
有利であるに拘わらず、スライド転写が不能であ
るため、素焼物表面の指定位置にスライド転写す
る方法は開発されていない。

（本発明が解決しようとする問題点） 素焼物表面にサンドブラスト・マスク層、また
は下絵付模様層をスライド転写することは、前項
に述べたように不可能である。このためスクリー
ン印刷により製造された転写シートのサンドブラ
スト・マスク層、又は下絵付模様層は微細なデテ
ールを有し、かつ量産できるから、有利なことが
判つているに拘わらず使用されていない。本発明
は前記の転写シートを使用するため、素焼物の吸
水性に打勝つてスライド転写できる方法を開発す
ることを課題とするものである。

（問題点を解決するための手段） 本発明は前項に述べた課題を解決することを目
的とし、吸水性のはげしい素焼物表面に、スライ
ド転写されるマスク層、模様層に素焼物の吸水性
を及ばせないようにするため、不乾性溶剤に溶解
した粘性溶液からなる塗布膜を形成する工程によ
り従来のスライド転写法には全く用いられていな
い不乾性で滑り性がよい膜を設け、水吸収性台シ
ートの水溶性糊料層上にスクリーン印刷法により
サンドブラスト・マスク層又は下絵付模様層を印
刷し、さらに剥離性カバーコートを設けた転写シ
ートを水に漬け、過剰の付着水分を除いてカバー
コートと共に台シートからスライド法により分離
したマスク層又は下絵付模様層を、素焼物の前記
塗布膜上でスライドして指定位置に移動する工程
を以て素焼物の吸水性に煩わされないでスライド
移動を施し、そのあとでゴム系スキージにより塗
布膜を可及的に除去して、さらにカバーコートを
剥離してマスク層又は下絵付模様層を素焼物表面
に安定させる工程を結合したことを特徴とするサ
ンドブラスト・マスク層又は下絵付模様層をスク
リーン印刷により形成した転写シートの素焼物へ
のスライド転写法に係るものである。

（作用） 本発明は転写シールの模様層と該模様層を支持
するカバーコート層のスライド移動を不可能にし
ている素焼物表面に、可溶性の溶剤で溶解した粘
性溶液を塗布した塗布膜を形成する工程により、
次工程で施す転写シートのサンドブラスト・マス
ク層又は下絵付模様層とカバーコートを、吸水性
がはげしい素焼物の物性に影響されることなくス
ライド移動させることができるようにする。

また、転写シートの前記のマスク層又は下絵付
模様層とカバーコートとは水付着により滑り移動
を可能にしているものであるが、この層はスライ
ド法により転写シートの水吸収性シートから分離
して素焼物表面にある指定位置までのスライド移
動を、前記した塗布膜上で行うものであつて、従
来のスライド表面にスライド移動ができる釉を焼
付けた皿などの生地に対するスライド転写と同様
な技法により施すことができる。しかして素焼物
の表面の塗布膜は、前記のように指定位置にスラ
イド移動したあとで、スキージにより可及的に除
去してマスク層又は下絵付模様層を素焼物表面に
密着する転写を施すもので、そのとき僅かに残つ
て滑り性を生じない塗布膜を介在させて、安定が
よい転写を生じさせ、サンデイング・マスク層を
転写した場合にはサンデイング加工による素焼物
表面の立体彫刻模様を形成し、また下絵付模様層
を転写した場合の800℃付近の仮焼に全く支障を
生じさせない。

（実施例） 第１工程 不乾性の溶剤であるエチレングリコールかグリ
セリンの各単体若しくは等量混合物にデキストリ
ン、又はフノリからなる水溶性糊性物30〜60重量
％を混合して練り合わせて調製した不乾性の糊性
溶液を、皿生地等の素焼物１の表面に噴霧などに
より塗布し、塗布厚30〜50μ前後の塗布膜２を形
成する（第１図）。

第２工程 第２図に示すように水吸水性シート１１の水溶
性糊料層（乾燥）１２上にスクリーン印刷により
サンドブラスト・マスク層又は下絵付模様１３を
印刷し、さらに剥離性をもつカバーコート１４を
設けた転写シート１５を水に浸けて水溶性糊料層
１２を膨潤し、過剰の付着水分を除いてから、マ
スク層又は模様層１３と該層の支持フイルムを構
成するカバーコート１４とを水吸水性シート１１
から公知のスライド法により分離して素焼物１の
塗布膜２上にスライド移動する。このとき通常は
素焼物１の指定位置にマスク層又は模様層１３を
正確に移すことはほとんどできないが、塗布膜２
の粘性によりスライドさせて指定位置に移動でき
る（第３図）。

前記においてマスク層１３をスクリーン印刷に
より成形するときは旭化成製造のAPR樹脂をイ
ンキに使用し、その厚さを30μ〜50μ程度にする。
前記のインキは紫外線硬化性である。

下絵付模様層１３をスクリーン印刷により形成
する場合には絵付用インキを使用する。

第３工程 マスク層または模様層１３を塗布膜２上で素焼
物１の指定位置に前記のようにスライド移動して
から、ゴム系スキージによりカバーコート１４の
上から押えながら擦つて塗布膜２を素焼物１の表
面から可及的に除去し、マスク層又は模様層１３
を素焼物１の表面に安定させる転写を生じさせ
（第４図）、それからカバーコート１４を除去する
（第５図）。

第４工程 転写がサンドブラスト・マスク層１３であると
きは、該マスク層１３上及びその外周部にサンド
ブラスト２１を施し、マスク層１３のもつ模様を
保護膜とし立体模様１６を形成し、特にマスク層
の輪郭部１７の外周はサンドブラスト２１により
平滑に研削して第６図の立体模様製品とする（第
５，６図）。

転写が下絵付模様層１３であるときは、素焼物
１を炉内で800℃、70分〜300分の仮焼を施し、塗
布膜２、カバーコート１４の残留物を焼きつくし
て前記の模様層１３を素焼物１に焼付け、そのあ
とで透明釉を施して本焼の温度の加熱して下絵付
製品とする。

（効果） 本発明はスライド転写が不可能な素焼物の表面
に、不乾性溶剤により溶解した糊性溶液の塗布膜
を形成する前置的な工程を設けているから、スラ
イド転写用に印刷して製造した転写シートのサン
ドブラスト・マスク層若しくは下絵付模様層の素
焼物表面の指定位置へのスライド移動を容易にす
ると共に、前記の塗布膜は不乾性であるから、塗
布工程と、スライド移動工程との間に時間を置く
ことができて、スライド移動の段取りを容易にで
きる。また前記の塗布膜は転写の正道から見れば
一種の不純物的存在であるが、指定位置へのスラ
イド移動後、ゴム系のスキージにより大部分を可
及的に除去して、前記の移動後に水溶性糊料層１
２の糊性により指定位置から滑らせないものであ
るから、その除去の工程により、転写と転写位置
確保とを生じ、大量のスライド移動を工業的に施
すことができて、素焼物のサンドブラスト法によ
る立体彫刻、若しくは素焼物の肌に対する下絵付
のスライド手段による施工ができる等、従来にな
い効果をもつ。

【図面の簡単な説明】

添付図面は本発明方法を図示するものであつ
て、第１図は塗布膜を施した素焼物の一例を示し
た斜視図、第２図は転写シート１５の断面図、第
３図はスライド移動を示した断面図、第４図はス
キージにより塗布膜を可及的に除去した状態を示
した断面図、第５図はカバーコートの除去を示し
た断面図、第６図はサンドブラスト法により立体
模様を形成した素焼物の一例を示した斜視図であ
る。 １→素焼物、２→塗布膜、１３→サンドブラス
ト・マスク又は下絵付模様層、１４→カバーコー
ト、１５→転写シート。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 吸水性を持つ素焼物表面に、不乾性の溶剤に
   より溶解した粘性溶液の塗布膜を形成する工程
   と、 水吸収性シートの水溶性糊料層上にスクリーン
   印刷によりサンドブラスト・マスク層又は下絵付
   模様層を印刷し、さらに剥離性カバーコートを設
   けた転写シートを水に漬け、過剰の付着水分を除
   いてカバーコートと共に台シートからスライド法
   により分離したマスク層又は下絵付模様層を素焼
   物の前記塗布膜上で指定位置にスライド移動する
   工程と、 そのあとでゴム系スキージにより塗布膜を素焼
   物表面から可及的に除去してマスク層又は下絵付
   模様層を素焼物表面に安定させることを特徴とす
   る サンドブラスト・マスク層又は下絵付模様層を
   スクリーン印刷により形成した転写シートの素焼
   物へのスライド転写法。