JPH0465443B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、非磁性セラミツクスコアと磁性フエ
ライトコアとを接合してなる磁気ヘツド組立品の
製造方法に関し、その接合を両コアの固相反応に
より拡散接合してなる磁気ヘツドの製造方法に関
するものである。

［従来の技術］ 近年、OA装置の急速な普及にともない、例え
ばフロツピーデイスク装置の需要が大幅に拡大し
ている。

そして、この種の装置においては、小型化およ
び記録密度の向上が極めて強く要望されている。

その手段として、狭磁気ギヤツプ化および記録
再生用磁気ギヤツプと消去用磁気ギヤツプとの間
隔を小さくすることが考えられる。そのため、狭
磁気ギヤツプ形成法としてスパツタリング法等真
空法を用いている。

また、記録再生用磁気ギヤツプと消去用磁気ギ
ヤツプとの間隔を小さくするために、記録再生用
磁気ヘツドコアの寸法を小さくする必要があり、
ヘツド組み立ての信頼性の点で種々の問題があ
る。

第３図に記録再生用磁気ヘツドと消去用磁気ヘ
ツドとを一体化した構造の組立品の各部を分離し
た斜視図を示す。

Ａは、一対の磁性フエライトコア１ｂ，３ｂと
非磁性セラミツクスコア２ｂとをガラスを用いて
非磁性材料で同時あるいは別々に接合してなる記
録再生用磁気ヘツドである。

Ｂは、一対の磁性フエライトコア１ａ，３ａな
らびに１ｃ，３ｃと非磁性セラミツクスコア２
ａ，２ｃとをガラスを用いて非磁性材料で同時に
あるいは別々に接合してなる消去用磁気ヘツドで
ある。

このような構造をもつ磁気ヘツドにおいて、記
録再生用ギヤツプと消去用ギヤツプとの間隔を小
さくするためには、磁性フエライトコア１ａ，１
ｂ，１ｃの厚さ４ａ，４ｂ，４ｃを小さくする必
要がある。

そのために、厚さが薄く剛性の弱い磁性フエラ
イトコア１ａ，１ｂ，１ｃを非磁性セラミツクス
コア２ａ，２ｂ，２ｃで補強する必要があるが、
磁性フエライトコア１ａ，１ｂ，１ｃと非磁性セ
ラミツクスコア２ａ，２ｂ，２ｃとの接合時に、
その接合面に均一な加圧力が作用せず接合強度が
不足したり、また、その接合部が磁性フエライト
コア１ａ，１ｂ，１ｃと磁性フエライトコア３
ａ，３ｂ，３ｃとの空〓にガラスを流入充填し磁
気ギヤツプを形成する時に弛んだりして、磁気ヘ
ツド組み立ての信頼性に問題がある。

また、磁性フエライトコア１ａ，１ｂ，１ｃと
磁性フエライトコア３ａ，３ｂ，３ｃの磁気ギヤ
ツプ形成のための空〓に、ガラスを完全に流入充
填することができず、狭磁気ギヤツプを形成した
磁気ヘツド組み立て品の製造が困難である。

第４図、第５図、第６図により従来からのギヤ
ツプ形成プロセスを具体的に説明する。

第４図に示すプロセスは、まず同図ａにおい
て、磁性フエライトコア２と非磁性セラミツクス
コア３との間は、金属スペーサーまたはスパツタ
蒸着膜５，６により、磁性フエライトコア２と非
磁性セラミツクスコア３とを接合するための空〓
が規制されており、その空〓にガラス棒９を溶融
して流入充填させ、磁性フエライトコア２と非磁
性セラミツクスコアとを接合する。次に同図ｂの
ように、磁性フエライトコア１と、前工程で非磁
性セラミツクスコア３と接合された磁性フエライ
トコア２との間には、金属スペーサまたはスパツ
タ蒸着膜７，８により、磁気ギヤツプ形成のため
の空〓が規制され、その空〓に前記ガラス棒９の
軟化点より低い作業温度のガラス棒１０を溶融し
て流入充填させ、同図ｃのように磁気ギヤツプを
形成するプロセスである。

このプロセスでは、すでに接合した磁性フエラ
イトコア２と非磁性セラミツクスコア３との接合
状態を強固に維持するためには、ガラス棒９の軟
化点より低い作業温度のガラス棒１０を溶融し
て、磁気ギヤツプ形成のための空〓に流入充填す
る必要がある。しかし、低い作業温度で粘性が低
く流動性の良好なガラスは、耐食性に問題があつ
て使用できない。そのために、溶融ガラスを完全
には空〓に充填することができず、狭磁気ギヤツ
プ化は困難である。

第５図に示すプロセスは、まず同図ａにおいて
磁性フエライトコア１と磁性フエライトコア２と
の間は、金属スペーサまたはスパツタ蒸着膜７，
８により、磁気ギヤツプ形成のための空〓が規制
されており、その空〓にガラス棒１０を溶融して
流入充填させ磁気ギヤツプを形成する。

次に同図ｂのように、非磁性セラミツクスコア
３と、前工程で磁性フエライトコア１と接合され
た磁性フエライトコア２との間には、金属スペー
サまたはスパツタ蒸着膜５，６により、磁性フエ
ライトコア２と非磁性セラミツクスコア３とを接
合するための空〓が規制されており、その空〓に
前記ガラス棒１０の軟化点より作業温度の低いガ
ラス棒９を溶融して流入充填させ、同図ｃのよう
に磁性フエライトコア２と非磁性セラミツクスコ
ア３とを接合して、磁気ヘツドを製造するプロセ
スである。

このプロセスでは、磁気ギヤツプを形成するた
めに、すでに接合した磁性フエライトコア２と非
磁性セラミツクスコア３との接合を強固な状態に
維持して、磁気ギヤツプ部に悪影響を与えないた
めには、ガラス棒１０の軟化点より低い作業温度
のガラス棒９を溶融して、空〓に流入充填する必
要がある。しかし、低い作業温度で粘性が低く流
動性が良好なガラスは、耐食性に問題があつて使
用できない。そのために、溶融ガラスを完全にそ
の空〓に充填することができず、磁性フエライト
コア２と非磁性セラミツクス３との接合部に未接
合部分がなく、接合を強固にした磁気ヘツドを製
造することが困難である。

第６図に示すプロセスは、まず同図ａにおい
て、磁性フエライトコア１と磁性フエライトコア
２の対向面および磁性フエライトコア２と非磁性
セラミツクスコア３との対向面に、スパツタ蒸着
法により非磁性膜１１を単層または２層以上積層
させ、次に同図ｂのようにそれぞれのコア１，
２，３を同時に突き合わせて、溝部１２にガラス
棒１０を挿入した後、加圧、加熱し同図ｃのよう
にギヤツプ形成をおこなう。

しかし、溝形状を有する磁性フエライトコア１
を少なくとも１個以上用いた磁気ヘツドのギヤツ
プ形成においては、溝形状を有する磁性フエライ
トコア１の溝部１２に対向する磁性フエライトコ
ア２と非磁性セラミツクスコア３との接合部分
に、接合に必要な十分な加圧力が加わらず、未接
合の部分が発生し磁気ヘツド組み立て品の信頼性
に問題がある。

また、磁性フエライトコア２と非磁性セラミツ
クスコア３とを接合して、その後溝部のある磁性
フエライトコア１と接合し、ガラスを流入するプ
ロセスもあるが、磁性フエライトコア２と補強用
の非磁性セラミツクスコア３との接合には、第４
図で示した例と同様に、低い作業温度で粘性が低
く、流動性が良好なガラスは使用できない。その
ために、磁気ギヤツプを形成するための空〓に溶
融ガラスを完全に充填することができず、狭磁気
ギヤツプ化は困難である。

［発明が解決しようとする課題］ 上記の第４，５，６図の磁気ヘツドの組立方法
は、ガラス流入法による狭磁気ギヤツプ化の形成
が困難であつたり、磁性フエライトコアとそれを
補強する非磁性セラミツクスコアとの接合部に未
接合部分が生じ、その接合を強固にできないとい
う問題点があつた。

本発明の目的は、非磁性セラミツクスコアを含
む３個以上のコアで構成され、少なくとも１個の
コアが溝部を有する磁気ヘツドにおいて、狭磁気
ギヤツプを有し、且つ、磁性フエライトコアとそ
れを補強する非磁性セラミツクスコアとの接合部
に未接合部分がない、強固な接合強度を有する磁
気ヘツドの製造方法を提供するものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明は、第３図における記録再生用および消
去用磁気ヘツドＡ、Ｂにおいて、溝部のない磁性
フエライトコア１ａ，１ｂ，１ｃと非磁性セラミ
ツクスコア２ａ，２ｂ，２ｃとの接合を、両コア
の直接的な固相反応によつて相互拡散層を形成せ
しめて行ない、その後、もう一方の溝部のある磁
性フエライトコア３ａ，３ｂ，３ｃをスパツタ蒸
着法または流入法で接合することを特徴とするも
のである。

［作用］ 固相反応による接合は、磁性フエライトコアと
非磁性セラミツクスコアとの間に相互拡散層を形
成し、その接合部に未接合部分がない。従つて、
磁性フエライトコアと非磁性セラミツクスコアと
を接合後に、磁性フエライトコア間に磁気ギヤツ
プを形成するときのガラスの作業温度が高くと
も、その接合部が弛むことがない。

また、磁性フエライトコア間に磁気ギヤツプを
形成するときには、高い作業温度のガラスの使用
が可能となるため、粘性が低く流動性の良好なガ
ラスを使用できる。その結果、磁気ギヤツプ形成
のための空〓へのガラスの流入充填が良好にで
き、狭磁気ギヤツプ化が可能となる。

［実施例］ 以下、本発明の実施例を図面により詳細に説明
する。

第１図ａ，ｂ，ｃ，ｄおよび第２図ａ，ｂ，
ｃ，ｄ，ｅは本発明の製造プロセスの例を示すも
のである。

実施例 １ 第１図ａに示すように接合すべき磁性フエライ
トコア２と非磁性セラミツクスコア３を用意す
る。次にそれらを熱処理し、直接的固相反応によ
り相互拡散層を形成せしめ、同図ｂのように接合
されたコア２，３と磁性フエライトコア１との間
に金属スペーサまたはスパツタ蒸着法により
SiO₂膜７，８を形成し、次に溝部１２にガラス
棒１０を挿入し、ガラスの粘性が３〜4Poiseにな
る温度に30分保持して同図ｄのようにギヤツプ形
成を行う。

実施例 ２ 第２図ａに示すように接合すべき磁性フエライ
トコア２と、非磁性セラミツクスコア３を用意す
る。次に、それらを熱処理し直接的固相反応によ
り固相拡散層を形成せしめ同図ｂのように接合す
る。

次に、同図ｃのように接合されたコア２，３と
磁性フエライトコア１との対向する面に、それぞ
れスパツタ蒸着法によりSiO₂膜１４とガラス膜
１５の２層膜を蒸着し、同図ｄのようにそれぞれ
スパツタ膜対向面を突き合わせて溝部１２にガラ
ス棒１０を挿入した後、加圧、加熱し、同図ｅの
ようにギヤツプ形成を行なう。

従来の技術では溝部に対向する磁性フエライト
コアと非磁性セラミツクスコアの接合部に未接合
部分を生じ量産技術としては不十分であるが、上
記実施例１、２のように固相拡散を用いた接合方
法では、未接合部分のない安定した接合が可能で
ある。

［発明の効果］ 以上の実施例の説明のように、従来の接合法で
は、磁性フエライトと非磁性セラミツクスコアの
接合面に、第７図に示すような未接合部分（黒く
見える）が生じていたものが、本発明の方法によ
れば、第８図に示すように未接合部分の無い信頼
性の高い磁気ヘツドを量産でき、記録密度の向
上、装置の小型化に対する効果は極めて大きいも
のである。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図はそれぞれ本発明の製造プロセ
スの実施例を示す図、第３図は磁気ヘツドの各部
を分離して示す斜視図、第４図、第５図、第６図
はそれぞれ従来の製造プロセスを示す図、第７
図、第８図は接合部の金属組織を示す顕微鏡写真
である。 １，２：磁性フエライトコア、３：非磁性セラ
ミツクスコア、７，８：金属スペーサまたはスパ
ツタ蒸着膜、１０：ガラス棒、１４：SiO₂膜、
１５：ガラス膜。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 巻線溝部のある磁性フエライトコアと溝部の
   ない磁性フエライトコアおよび非磁性セラミツク
   スコアを接合してなる磁気ヘツドの製造方法にお
   いて、前記非磁性セラミツクスコアと溝部のない
   磁性フエライトコアとを固相拡散接合を行なつて
   ブロツクとした後、前記巻線溝部のある磁性フエ
   ライトコアを、前記拡散接合したブロツクの溝部
   のない磁性フエライトコアに対向させてガラス接
   合し、磁気ギヤツプを形成することを特徴とする
   磁気ヘツドの製造方法。