JPH0466147B2 - - Google Patents
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- JPH0466147B2 JPH0466147B2 JP59036246A JP3624684A JPH0466147B2 JP H0466147 B2 JPH0466147 B2 JP H0466147B2 JP 59036246 A JP59036246 A JP 59036246A JP 3624684 A JP3624684 A JP 3624684A JP H0466147 B2 JPH0466147 B2 JP H0466147B2
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- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/40—Arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis
- A61B6/4021—Arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis involving movement of the focal spot
- A61B6/4028—Arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis involving movement of the focal spot resulting in acquisition of views from substantially different positions, e.g. EBCT
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- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/06—Diaphragms
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- A—HUMAN NECESSITIES
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- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/52—Devices using data or image processing specially adapted for radiation diagnosis
- A61B6/5258—Devices using data or image processing specially adapted for radiation diagnosis involving detection or reduction of artifacts or noise
- A61B6/5282—Devices using data or image processing specially adapted for radiation diagnosis involving detection or reduction of artifacts or noise due to scatter
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- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—HANDLING OF PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
- G21K1/025—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using multiple collimators, e.g. Bucky screens; other devices for eliminating undesired or dispersed radiation
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は被写体の放射線透過2次元像のコン
トラスト特性を低下させる被写体かの散乱放射線
の影響を除去補正して、コントラストの良い放射
線透過像を提供し得る放射線像撮影装置に関する
ものである。
トラスト特性を低下させる被写体かの散乱放射線
の影響を除去補正して、コントラストの良い放射
線透過像を提供し得る放射線像撮影装置に関する
ものである。
一般に、被写体をX線撮影する場合、被写体を
透過してX線透過像を形成する被写体透過1次X
線は、被写体への入射X線に比べて大幅に少な
い。被写体へ入射したX線の多くは、被写体の各
部位を中心に四方へ散乱X線として放射され、受
像面ではX線透過像に重なりそのコントラストを
大幅に低下させる。
透過してX線透過像を形成する被写体透過1次X
線は、被写体への入射X線に比べて大幅に少な
い。被写体へ入射したX線の多くは、被写体の各
部位を中心に四方へ散乱X線として放射され、受
像面ではX線透過像に重なりそのコントラストを
大幅に低下させる。
従つて、従来は所謂グリツド法、グレーデル
法、走査スリツト法を利用して散乱X線を低減す
るシステムが通常使用されている。
法、走査スリツト法を利用して散乱X線を低減す
るシステムが通常使用されている。
グリツド法とは、被写体と受像面の間に、典型
的には、第1図aに示すき構造のグリツドを配置
して、被写体からの散線を除去する方式である。
鉛箔片1の厚さdは典型的には50μm、グリツド
比h/Dは4/1〜16/1である。インタースペーサ物
質2(通常は木材又はアルミニウム)による透過
X線の減衰を極力少なくするために、スペーサ厚
hは1mm程度に抑えられる。鉛箔片1、第1図b
に示す如く、それぞれ、X線の焦点3に焦点合わ
せするように配列されている。透過1次X線のグ
リツドによる減衰率に比して、被写体から放射さ
れる散乱X線のグリツドによる減衰率は、グリツ
ド比h/Dの増加とともに増大し、その結果コント
ラストが改善される。しかしながら、コントラス
トをより改善するためにグリツド比を大きくする
に従つて、1次X線の減衰は増大する。又、鉛箔
片の厚さを増せばコントラストはより改善される
が、やはり1次X線の減衰率が増大する。又、薄
い鉛箔を用いているため、X線のエネルギーが高
くなるに従つて、散乱線の除去効果は小さくな
る。更に、グリツド自身によつてもX線は散乱さ
れるため、その散乱X線によりコントラストは低
下する。
的には、第1図aに示すき構造のグリツドを配置
して、被写体からの散線を除去する方式である。
鉛箔片1の厚さdは典型的には50μm、グリツド
比h/Dは4/1〜16/1である。インタースペーサ物
質2(通常は木材又はアルミニウム)による透過
X線の減衰を極力少なくするために、スペーサ厚
hは1mm程度に抑えられる。鉛箔片1、第1図b
に示す如く、それぞれ、X線の焦点3に焦点合わ
せするように配列されている。透過1次X線のグ
リツドによる減衰率に比して、被写体から放射さ
れる散乱X線のグリツドによる減衰率は、グリツ
ド比h/Dの増加とともに増大し、その結果コント
ラストが改善される。しかしながら、コントラス
トをより改善するためにグリツド比を大きくする
に従つて、1次X線の減衰は増大する。又、鉛箔
片の厚さを増せばコントラストはより改善される
が、やはり1次X線の減衰率が増大する。又、薄
い鉛箔を用いているため、X線のエネルギーが高
くなるに従つて、散乱線の除去効果は小さくな
る。更に、グリツド自身によつてもX線は散乱さ
れるため、その散乱X線によりコントラストは低
下する。
以上説明した如く、グリツドによる散乱線の除
去効果は限定されたものにとどまつている。
去効果は限定されたものにとどまつている。
グレーデル法とは、第2図に示す様に、被写体
5と受像面6との距離Hをできるだけ離して、被
写体からの散乱線を除去する方式である。散乱線
は被写体各部が線源に相当するから、線源からの
距離の逆自乗に比例してX線の強度が減衰する効
果、および散乱X線が受像面外にそれるという効
果により、Hの増大ととともに受像面における散
乱X線の強度は減少する。
5と受像面6との距離Hをできるだけ離して、被
写体からの散乱線を除去する方式である。散乱線
は被写体各部が線源に相当するから、線源からの
距離の逆自乗に比例してX線の強度が減衰する効
果、および散乱X線が受像面外にそれるという効
果により、Hの増大ととともに受像面における散
乱X線の強度は減少する。
しかし、受像面における透過1次X線の強度
も、X線焦点と受像面との距離の逆自乗に比例し
て減衰するため、その分、X線管の出力を増大さ
せる必要が生じる。又、被写体のX線被爆量も増
大する。更に、被写体と受像面との距離を余り大
きくすると、X線焦点の大きさが有限であること
に起因する解像度ボケという好ましいからざる事
態が発生する。
も、X線焦点と受像面との距離の逆自乗に比例し
て減衰するため、その分、X線管の出力を増大さ
せる必要が生じる。又、被写体のX線被爆量も増
大する。更に、被写体と受像面との距離を余り大
きくすると、X線焦点の大きさが有限であること
に起因する解像度ボケという好ましいからざる事
態が発生する。
以上の如く、グレーデル法による散乱線除去方
式はかなり、限定された使用にとどつている。
式はかなり、限定された使用にとどつている。
グリツド法、グレーデル法よりも優れた散乱線
除去効果を提供する方法として、スリツト走査法
が知られている。このシステムは第3図に示す様
に被写体7の前後にX線を通過させるスリツト8
a,9aを有する走査スリツト板板8,9が互い
に同期して被写体を一方向に走査する。走査スリ
ツト板8により、X線管が発生するX線からフア
ンビーム10が形成され、フアンビーム10は被
写体7を走査する。被写体の背後にある走査スリ
ツト板9は、フアンビーム10の通過する所だけ
開孔する様に調節してあるので、被写体7を透過
した1次X線のみが受像面11に到達する。従つ
て、コントラストが非常に改善される しかし、走査スリツト板で走査するため通常方
式に比べて時間がかかる。撮影時間が長いと、被
写体が運動している場合には同一部位からの透過
X線が動いて記録され、ぼけたX線透過像しか得
られない。従つて、走査スリツト板は、高速で走
査する必要があり、そのためかなり大掛りな機構
を必要とする。又、X線管の被爆入射時間も通常
方式に比べて長くなり、X線の負荷が大きくなる
という欠点も有する。
除去効果を提供する方法として、スリツト走査法
が知られている。このシステムは第3図に示す様
に被写体7の前後にX線を通過させるスリツト8
a,9aを有する走査スリツト板板8,9が互い
に同期して被写体を一方向に走査する。走査スリ
ツト板8により、X線管が発生するX線からフア
ンビーム10が形成され、フアンビーム10は被
写体7を走査する。被写体の背後にある走査スリ
ツト板9は、フアンビーム10の通過する所だけ
開孔する様に調節してあるので、被写体7を透過
した1次X線のみが受像面11に到達する。従つ
て、コントラストが非常に改善される しかし、走査スリツト板で走査するため通常方
式に比べて時間がかかる。撮影時間が長いと、被
写体が運動している場合には同一部位からの透過
X線が動いて記録され、ぼけたX線透過像しか得
られない。従つて、走査スリツト板は、高速で走
査する必要があり、そのためかなり大掛りな機構
を必要とする。又、X線管の被爆入射時間も通常
方式に比べて長くなり、X線の負荷が大きくなる
という欠点も有する。
以上述べた様にスリツト走査法もかなり限定さ
れた使用にとどまつている。
れた使用にとどまつている。
その他、特開昭58−69532号公報には、やはり
スリツトの走査を伴なう他の方式が述べられてい
るが上記と同様の欠点を有する。
スリツトの走査を伴なう他の方式が述べられてい
るが上記と同様の欠点を有する。
本発明は上記従来の欠点を除去した放射線像撮
影装置における散乱線除去方式を提供することを
目的としている。
影装置における散乱線除去方式を提供することを
目的としている。
本発明は下記(1)、(2)の2発明からなる。
(1) 円錐形状の放射線を被写体に照射し、この被
写体を透過した透過放射線に基づいて被写体の
透過二次元像を得るための放射線像撮影装置で
あつて、 被写体に上記放射線が放射された場合におい
て、被写体によつて散乱されることなく被写体
を透過した透過放射線及び被写体によつて散乱
された散乱放射線の一部を共に通過させる第1
の状態と、透過放射線を遮断し、かつ被写体に
より散乱された散乱放射線を透過させる第2の
状態とに切換え作動させる放射線遮蔽手段を備
える遮蔽手段配置装置と、 放射線遮蔽手段が第1の状態にあるとき、被
写体に放射線が照射されることにより、この被
写体及び放射線遮蔽手段を透過する透過放射
線、及び被写体から生じ放射線遮蔽手段を透過
する散乱放射線に基づいて被写体の第1放射線
像を電気信号の形で得るとともに、放射線遮蔽
手段が第2の状態にあるとき、被写体に放射線
が照射されることにより被写体から生じた第2
放射線像を電気信号の形で得る像形成装置と、 上記像形成装置で得られた第1及び第2放射
線像を電気的に処理することにより、放射線遮
蔽手段による空間的変調と散乱放射線との影響
を受けない実際の被写体の透過二次元像を再生
表示する再生処理装置 とを具備することを特徴とする放射線像撮影装
置。
写体を透過した透過放射線に基づいて被写体の
透過二次元像を得るための放射線像撮影装置で
あつて、 被写体に上記放射線が放射された場合におい
て、被写体によつて散乱されることなく被写体
を透過した透過放射線及び被写体によつて散乱
された散乱放射線の一部を共に通過させる第1
の状態と、透過放射線を遮断し、かつ被写体に
より散乱された散乱放射線を透過させる第2の
状態とに切換え作動させる放射線遮蔽手段を備
える遮蔽手段配置装置と、 放射線遮蔽手段が第1の状態にあるとき、被
写体に放射線が照射されることにより、この被
写体及び放射線遮蔽手段を透過する透過放射
線、及び被写体から生じ放射線遮蔽手段を透過
する散乱放射線に基づいて被写体の第1放射線
像を電気信号の形で得るとともに、放射線遮蔽
手段が第2の状態にあるとき、被写体に放射線
が照射されることにより被写体から生じた第2
放射線像を電気信号の形で得る像形成装置と、 上記像形成装置で得られた第1及び第2放射
線像を電気的に処理することにより、放射線遮
蔽手段による空間的変調と散乱放射線との影響
を受けない実際の被写体の透過二次元像を再生
表示する再生処理装置 とを具備することを特徴とする放射線像撮影装
置。
(2) 円錐形状の放射線を被写体に照射し、この被
写体を透過した透過放射線に基づいて被写体の
透過二次元像を得るための放射線像撮影装置で
あつて、 放射線遮蔽手段を配置する遮蔽手段配置装置
と、上記放射線が放射線源と被写体との距離を
一定にして異なる2つの放射線源の第1及び第
2の両方の位置から照射する放射線照射装置
と、 放射線源が第1の位置から放射されるとき、
上記放射線遮蔽手段によつて被写体により散乱
されることなく被写体を透過した透過放射線及
び被写体により散乱された散乱放射線の一部を
共に通過させ、この放射線遮蔽手段を通過した
上記透過放射線及びび散乱放射線に基づいて被
写体の第1の放射線像を電気信号の形で得ると
ともに、放射線像が第2の位置から放射される
とき、上記放射線遮蔽手段によつて上記透過放
射線を遮断し、かつ上記記散乱放射線を通過さ
せ、この放射線遮蔽手段を通過した散乱放射線
のみに基づいて被写体の第2の放射線像を電気
信号の形で得る像形成装置と、 上記像形成装置で得られた第1及び第2放射
線像を電気的に処理することにより、放射線遮
蔽手段による空間的変調と散乱放射線との影響
を受けない実際の被写体の透過二次元像を電気
信号の形で得る再生処理装置 とを具備することを特徴とする放射線像撮影装
置。
写体を透過した透過放射線に基づいて被写体の
透過二次元像を得るための放射線像撮影装置で
あつて、 放射線遮蔽手段を配置する遮蔽手段配置装置
と、上記放射線が放射線源と被写体との距離を
一定にして異なる2つの放射線源の第1及び第
2の両方の位置から照射する放射線照射装置
と、 放射線源が第1の位置から放射されるとき、
上記放射線遮蔽手段によつて被写体により散乱
されることなく被写体を透過した透過放射線及
び被写体により散乱された散乱放射線の一部を
共に通過させ、この放射線遮蔽手段を通過した
上記透過放射線及びび散乱放射線に基づいて被
写体の第1の放射線像を電気信号の形で得ると
ともに、放射線像が第2の位置から放射される
とき、上記放射線遮蔽手段によつて上記透過放
射線を遮断し、かつ上記記散乱放射線を通過さ
せ、この放射線遮蔽手段を通過した散乱放射線
のみに基づいて被写体の第2の放射線像を電気
信号の形で得る像形成装置と、 上記像形成装置で得られた第1及び第2放射
線像を電気的に処理することにより、放射線遮
蔽手段による空間的変調と散乱放射線との影響
を受けない実際の被写体の透過二次元像を電気
信号の形で得る再生処理装置 とを具備することを特徴とする放射線像撮影装
置。
以下、第4図a乃至第6図eを参照して本発明
の実施例を説明する。
の実施例を説明する。
第4図aにこの発明をX線診断装置に適用させ
た一実施例のシステム構成を示す。X線焦点Aと
被写体13、X線部分遮蔽素子14、X線イメー
ジインテンシフアイア15、テレビカメラ16が
順次配列されている。更に、前記テレビカメラの
映像信号は記憶演算装置であるデータ処理装置1
7に入力され、デジタル信号に変換された後、デ
ジタル画像処理される。処理画像はCRT18に
出力される。
た一実施例のシステム構成を示す。X線焦点Aと
被写体13、X線部分遮蔽素子14、X線イメー
ジインテンシフアイア15、テレビカメラ16が
順次配列されている。更に、前記テレビカメラの
映像信号は記憶演算装置であるデータ処理装置1
7に入力され、デジタル信号に変換された後、デ
ジタル画像処理される。処理画像はCRT18に
出力される。
X線部分遮蔽素子の構造は第4図bに示され
る。X線減衰率の大きい物質、例えば鉛で作られ
た多数のストライプ20がX線減衰率の小さい物
質、例えばアルミニウムでたつくられたインター
スペーサ21の上に格子状に付着されている。ス
トライプの厚みはストライプを透過してくるX線
が十分無視し得るまで大きくなる。ストライプが
鉛の場合は医学診断用X線に対して、ストライプ
厚は0.1〜1mmとなる。テレビカメラの読み取り
走査方向は格子の長手方向にほぼ直角となる方向
に選定する。ストライプ幅の中で散乱線強度が大
きく変化しないためストライプ幅aは十分小さく
する必要がある。
る。X線減衰率の大きい物質、例えば鉛で作られ
た多数のストライプ20がX線減衰率の小さい物
質、例えばアルミニウムでたつくられたインター
スペーサ21の上に格子状に付着されている。ス
トライプの厚みはストライプを透過してくるX線
が十分無視し得るまで大きくなる。ストライプが
鉛の場合は医学診断用X線に対して、ストライプ
厚は0.1〜1mmとなる。テレビカメラの読み取り
走査方向は格子の長手方向にほぼ直角となる方向
に選定する。ストライプ幅の中で散乱線強度が大
きく変化しないためストライプ幅aは十分小さく
する必要がある。
ストライプ幅aの下限は、ストライプのイメー
ジインテンシフアイアの出力像の幅が、テレビカ
メラによつて十分分解できる様な値で決定され
る。
ジインテンシフアイアの出力像の幅が、テレビカ
メラによつて十分分解できる様な値で決定され
る。
ストライプの間隔bの上限は、テレビカメラ信
号への散乱X線の寄与が、間隔bを走査中に大き
く変化しない様な値で決定される。テレビカメラ
の読み取り走査方向を格子の長手方向に直角とな
る方向に選定すれば、読み取り信号の時依存性は
第5図aの如くなる。ここで、s1、s2、s3、……
は遮蔽格子位置に対応した散乱X線による信号で
ある。S1、S2、S3、……は遮蔽格子のない部分に
対応したX線画像信号である。これらの信号によ
り、時系列s1−2=0、S−1、s2−s2=0、S2−
s2、……を構成して表示させた結果の時間依存性
を概念的に描いたものが第5図bである。散乱X
線の空間分布は透過1次X線の空間分に比して一
般にかなり単調な変化をもつているので、si(i
=1,2,3,……)は時刻tiから時刻ti+1ま
での時間における読み取り区間の散乱X線信号を
代表する値とみなすことができる。従つて、時系
刻s1−s1=0、S1−s1、s2−s2=0、S2−s2,……
はちようど透過1次X線が遮蔽格子のパターンに
より変調を設けたものによる信号であることがわ
かる。遮蔽格子によるパターンは応々にして画像
のノイズとして医学診断上、又工業検査上の障害
となる。その様な場合には、遮蔽格子をわずか移
動させるか又は除去した場合と、移動させない場
合についてそれぞれ少なくとも1回づつ撮影し、
前記と同様の画像処理を行えば良い。
号への散乱X線の寄与が、間隔bを走査中に大き
く変化しない様な値で決定される。テレビカメラ
の読み取り走査方向を格子の長手方向に直角とな
る方向に選定すれば、読み取り信号の時依存性は
第5図aの如くなる。ここで、s1、s2、s3、……
は遮蔽格子位置に対応した散乱X線による信号で
ある。S1、S2、S3、……は遮蔽格子のない部分に
対応したX線画像信号である。これらの信号によ
り、時系列s1−2=0、S−1、s2−s2=0、S2−
s2、……を構成して表示させた結果の時間依存性
を概念的に描いたものが第5図bである。散乱X
線の空間分布は透過1次X線の空間分に比して一
般にかなり単調な変化をもつているので、si(i
=1,2,3,……)は時刻tiから時刻ti+1ま
での時間における読み取り区間の散乱X線信号を
代表する値とみなすことができる。従つて、時系
刻s1−s1=0、S1−s1、s2−s2=0、S2−s2,……
はちようど透過1次X線が遮蔽格子のパターンに
より変調を設けたものによる信号であることがわ
かる。遮蔽格子によるパターンは応々にして画像
のノイズとして医学診断上、又工業検査上の障害
となる。その様な場合には、遮蔽格子をわずか移
動させるか又は除去した場合と、移動させない場
合についてそれぞれ少なくとも1回づつ撮影し、
前記と同様の画像処理を行えば良い。
この2回の撮影の時間間隔のわずかの間に被写
体が動いたとしても、散乱X線分布の変化はほと
んど無視できるので、解像ボケ等の画像劣化の生
じる恐れは全くない。又、連続撮影を行つて動き
のあるX線像を得る場合にも、その間で被写体の
動きが比較的小さい限り、ただ1回だけ遮蔽格子
を入れて撮影しさえすれば散乱線除去補正が可能
となる。
体が動いたとしても、散乱X線分布の変化はほと
んど無視できるので、解像ボケ等の画像劣化の生
じる恐れは全くない。又、連続撮影を行つて動き
のあるX線像を得る場合にも、その間で被写体の
動きが比較的小さい限り、ただ1回だけ遮蔽格子
を入れて撮影しさえすれば散乱線除去補正が可能
となる。
第4図bの実施例では、複数のストライプを格
子状に並べてX線部分遮蔽格子を構成したが、透
過1次X線を遮蔽する領域の形状およびその配置
法は、その領域に対応する受像面上位置の散乱X
線強度が、その領域近辺の透過1次X線が遮蔽さ
れない部分に対応する受像面上位置の散乱X線強
度を代表するとみなされる限り、如何なるもので
あつても良い。
子状に並べてX線部分遮蔽格子を構成したが、透
過1次X線を遮蔽する領域の形状およびその配置
法は、その領域に対応する受像面上位置の散乱X
線強度が、その領域近辺の透過1次X線が遮蔽さ
れない部分に対応する受像面上位置の散乱X線強
度を代表するとみなされる限り、如何なるもので
あつても良い。
上記した如く、第4図aに示される放射線撮影
装置によつて、短時間撮影にもかかわらずほぼ完
全に散乱X線が除去されたX線画像を提供するこ
とができる。なお、この方式はイメージインテン
シフアイアの電子光学的なズーミングを行う場合
には多少の不都合がある。すなわち、イメージイ
ンテンシフアイアの入力面への入力X線像は、電
子光学的に縮少されて、イメージインテテンシフ
アイアの出力面での光学像に変換されるが、電子
光学的なズーミングによりこの縮少率は変化す
る。従つて、個々の遮蔽格子パターンに対応する
出力面上の光学像の位置は縮少率の変化に伴なつ
て移動してしまう。このため、画像処理を行う際
の遮蔽格子位置の指定をズーミングを行う毎に変
更する必要が生じ、画像処理システムを複雑化さ
せてしまう。
装置によつて、短時間撮影にもかかわらずほぼ完
全に散乱X線が除去されたX線画像を提供するこ
とができる。なお、この方式はイメージインテン
シフアイアの電子光学的なズーミングを行う場合
には多少の不都合がある。すなわち、イメージイ
ンテンシフアイアの入力面への入力X線像は、電
子光学的に縮少されて、イメージインテテンシフ
アイアの出力面での光学像に変換されるが、電子
光学的なズーミングによりこの縮少率は変化す
る。従つて、個々の遮蔽格子パターンに対応する
出力面上の光学像の位置は縮少率の変化に伴なつ
て移動してしまう。このため、画像処理を行う際
の遮蔽格子位置の指定をズーミングを行う毎に変
更する必要が生じ、画像処理システムを複雑化さ
せてしまう。
このためにイメージインテンシフアイアの電子
光学的ズーミングを行う場合にも好適する散乱線
除去方式を発明したのが下記実施例である。
光学的ズーミングを行う場合にも好適する散乱線
除去方式を発明したのが下記実施例である。
第6図aはその放射線線撮影装置構成を示す。
X線部分遮蔽素子22の構造は第6図bに示され
る。X線減衰率の大きい物質、例えば鉛で作られ
た多数のストライプ23,24がX線減衰率の小
さい物質、例えばアルミニウムで作られたインタ
ースペーサ25をはさんで、X線焦点に対して表
側(ストライプF)と裏側(ストライプR)とに
格子状に付着されている。ストライプの厚みはス
トライプを透過してくるX線が十分無視しうるま
で大きくする。ストライプとX線2焦点A、Bと
の位置関係は第6図cに示される。ここではスト
ライプの厚みは十分小さいと近似している。スト
ライプFおよびストライプRの構成する格子面と
焦点A、Bを結ぶ直線とは互いに平行となる様に
配置されている。ストライプFは幅d1、間隔d1で
交互に並んでいる。ストライプRは、焦点Aによ
るストライプFの投影像となつている。ストライ
プFの構成する格子面とストライプRの構成する
格子面とは、互いにインタースペーサをはさんで
平行に向かい合つている。焦点Bの位置は、焦点
BによるストライプFの幾何学的投影像が、スト
ライプRの構成する格子面上でストライプRのち
ようど間隙に対応する様に調整されている。この
関係を満たす位置は無数にあるが、後に述べる理
由からなるべく焦点Aに近い位置に選ぶことが好
ましい。焦点Bを焦点Aに最も近い位置に選んだ
場合、関係式l=d2/AB・Lが成り立つ。ストラ イプFの幅d2の値は任意に選ぶことができるが、
0.1〜2mmが実用的な値である。通常の医学診断
では、焦点と受像面との距離Lは典型的には1m
である。焦点A、B間の距離は、実用的な値
として=10cm程度となる。仮りにd2を0.5mmと
し、以上の値を使つて、 関係式l=d2/AB・Lからlを見積ると、l= 5mmとなる。第6図cに示す構造をもつX線部分
遮蔽素子を使用した第6図aのX線像撮影装置に
よつて、完全に散乱線を除去したX線透過像を得
る原理について説明する。
X線部分遮蔽素子22の構造は第6図bに示され
る。X線減衰率の大きい物質、例えば鉛で作られ
た多数のストライプ23,24がX線減衰率の小
さい物質、例えばアルミニウムで作られたインタ
ースペーサ25をはさんで、X線焦点に対して表
側(ストライプF)と裏側(ストライプR)とに
格子状に付着されている。ストライプの厚みはス
トライプを透過してくるX線が十分無視しうるま
で大きくする。ストライプとX線2焦点A、Bと
の位置関係は第6図cに示される。ここではスト
ライプの厚みは十分小さいと近似している。スト
ライプFおよびストライプRの構成する格子面と
焦点A、Bを結ぶ直線とは互いに平行となる様に
配置されている。ストライプFは幅d1、間隔d1で
交互に並んでいる。ストライプRは、焦点Aによ
るストライプFの投影像となつている。ストライ
プFの構成する格子面とストライプRの構成する
格子面とは、互いにインタースペーサをはさんで
平行に向かい合つている。焦点Bの位置は、焦点
BによるストライプFの幾何学的投影像が、スト
ライプRの構成する格子面上でストライプRのち
ようど間隙に対応する様に調整されている。この
関係を満たす位置は無数にあるが、後に述べる理
由からなるべく焦点Aに近い位置に選ぶことが好
ましい。焦点Bを焦点Aに最も近い位置に選んだ
場合、関係式l=d2/AB・Lが成り立つ。ストラ イプFの幅d2の値は任意に選ぶことができるが、
0.1〜2mmが実用的な値である。通常の医学診断
では、焦点と受像面との距離Lは典型的には1m
である。焦点A、B間の距離は、実用的な値
として=10cm程度となる。仮りにd2を0.5mmと
し、以上の値を使つて、 関係式l=d2/AB・Lからlを見積ると、l= 5mmとなる。第6図cに示す構造をもつX線部分
遮蔽素子を使用した第6図aのX線像撮影装置に
よつて、完全に散乱線を除去したX線透過像を得
る原理について説明する。
第6図cにおいて、焦点Aによる被写体透過1
次X線のうち、ストライプF1上に入射するもの
はストライプにより吸収を受け、イメージインテ
ンシフアイアに入射しない。焦点Aによる透過1
次X線の中、ストライプFの間隙(F1)上に入
射するものは、ストライプにより吸収を受けず、
単にインタースペーサによるX線減衰を受けて、
Aによる(F1)の幾何学的投影であるストライ
プの間隙R1を通過し、イメージインテンシフア
イアに入射する。すなわち、焦点Aによる透過1
次X線は、X線部分遮蔽素子の格子パターンによ
る強度変調を受けて記録される。
次X線のうち、ストライプF1上に入射するもの
はストライプにより吸収を受け、イメージインテ
ンシフアイアに入射しない。焦点Aによる透過1
次X線の中、ストライプFの間隙(F1)上に入
射するものは、ストライプにより吸収を受けず、
単にインタースペーサによるX線減衰を受けて、
Aによる(F1)の幾何学的投影であるストライ
プの間隙R1を通過し、イメージインテンシフア
イアに入射する。すなわち、焦点Aによる透過1
次X線は、X線部分遮蔽素子の格子パターンによ
る強度変調を受けて記録される。
焦点Bによる透過1次X線のうち、ストライプ
Fの間隙(F1)に入射するものは、Bによる
(F1)の幾何学的投影であるストライプR1上に入
射するが、そこで吸収され、イメージインテンシ
フアイアには入射しない。焦点Bによる透過1次
X線のうち、ストライプF2に入射するものはそ
こで吸収され、やはりイメージインテンシフアイ
アに入射しない。すなわち、焦点Bによる透過1
次X線は、記録されない。
Fの間隙(F1)に入射するものは、Bによる
(F1)の幾何学的投影であるストライプR1上に入
射するが、そこで吸収され、イメージインテンシ
フアイアには入射しない。焦点Bによる透過1次
X線のうち、ストライプF2に入射するものはそ
こで吸収され、やはりイメージインテンシフアイ
アに入射しない。すなわち、焦点Bによる透過1
次X線は、記録されない。
焦点A又はBから出るX線のうち多くのもの
は、被写体やX線部分遮蔽素子の各部位(C、
D)を中心に四方へ散乱X線として放射される。
これら散乱X線の放射強度の角度分布は広いた
め、X線の入射方向のわずかな変動に対して、ほ
とんどその分布が変わることはない。
は、被写体やX線部分遮蔽素子の各部位(C、
D)を中心に四方へ散乱X線として放射される。
これら散乱X線の放射強度の角度分布は広いた
め、X線の入射方向のわずかな変動に対して、ほ
とんどその分布が変わることはない。
C点、D点における焦点A、Bそれぞれからの
入射X線の入射角度の差α、βは、ほぼtan-1
AB/L=0.1と小さな値となることがわかる。
入射X線の入射角度の差α、βは、ほぼtan-1
AB/L=0.1と小さな値となることがわかる。
すなわち、焦点Aおよび焦点Bにより記録され
るX線のうち、被写体並びにX線部分遮蔽素子に
よる散乱X線像は焦点A、Bによる照射X線強度
が等しい場合にはほとんど同一とみなして良い
(焦点Bによる記録像はこの散乱X線像のみとな
る。)。
るX線のうち、被写体並びにX線部分遮蔽素子に
よる散乱X線像は焦点A、Bによる照射X線強度
が等しい場合にはほとんど同一とみなして良い
(焦点Bによる記録像はこの散乱X線像のみとな
る。)。
したがつて、焦点Aによる記録像から焦点Bに
よる記録像を減算画像処理することにより、散乱
線の影響の全くない被写体の透過1次X線像を得
ることが可能となる。
よる記録像を減算画像処理することにより、散乱
線の影響の全くない被写体の透過1次X線像を得
ることが可能となる。
焦点A、Bによる照射X線強度を等しくするこ
とが困難な場合には、被写体13と焦点A、Bと
の間の被写体へのX線照射範囲からわずかにはず
れた場所に、X線線量測定器又はX線線量率測定
器を配置してX線照射ごとのX線線量、又はX線
照射中のX線線量率を測定し、その値で画像信号
を補正すればよい。
とが困難な場合には、被写体13と焦点A、Bと
の間の被写体へのX線照射範囲からわずかにはず
れた場所に、X線線量測定器又はX線線量率測定
器を配置してX線照射ごとのX線線量、又はX線
照射中のX線線量率を測定し、その値で画像信号
を補正すればよい。
なお、X線部分遮蔽素子の格子パターンとテレ
ビの走査線のパターンが干渉することを防ぐた
め、テレビカメラの走査方向はX線部分遮蔽素子
の格子の長手方向に直角となる方向に選定するこ
とが好ましい。
ビの走査線のパターンが干渉することを防ぐた
め、テレビカメラの走査方向はX線部分遮蔽素子
の格子の長手方向に直角となる方向に選定するこ
とが好ましい。
以上の説明は、ストライプの厚みがストライプ
の幅、間隔、およびストライプFの作る格子面と
ストライプRの作る格子面との距離に比べて十分
無視できる程度に小さい場合に限定させるもので
あるが、ストライプの厚みが無視できない場合に
も、基本的な概念を提供するものである。
の幅、間隔、およびストライプFの作る格子面と
ストライプRの作る格子面との距離に比べて十分
無視できる程度に小さい場合に限定させるもので
あるが、ストライプの厚みが無視できない場合に
も、基本的な概念を提供するものである。
第6図dに、ストライプ厚が厚い場合のX線部
分遮蔽素子の一実施例の原理を示す。第6図dは
焦点AおよびBを通る面による任意の断面であ
る。ストライプ23(ストライプF)とストライ
プ24(ストライプR)はそれぞれ厚みが一定
で、断面が台形である。ストライプFの構成する
格子面とストライプRの構成する格子面とは互い
に平行である。ストライプFの1本1本は、第6
図dに示すように焦点Aから引いた補助線によ
り、ストライプRの1本1本に対応している。ス
トライプRの上辺A′1B′1と下辺D′1C′1は、それぞ
れストライプFの上辺A1B1と下辺D′1C′1との焦
点Aによる幾何学的投影となつている。点列A1、
B1、A2、B2、……の間隔は一定とする。従つて
点列D1、C1、D2、C2、……、点列A′1、B′1、
A′2、B′2、……および点列D′1、C′1、D′2、C′2、
……の間隔もそれぞれ一定となることがわかる。
分遮蔽素子の一実施例の原理を示す。第6図dは
焦点AおよびBを通る面による任意の断面であ
る。ストライプ23(ストライプF)とストライ
プ24(ストライプR)はそれぞれ厚みが一定
で、断面が台形である。ストライプFの構成する
格子面とストライプRの構成する格子面とは互い
に平行である。ストライプFの1本1本は、第6
図dに示すように焦点Aから引いた補助線によ
り、ストライプRの1本1本に対応している。ス
トライプRの上辺A′1B′1と下辺D′1C′1は、それぞ
れストライプFの上辺A1B1と下辺D′1C′1との焦
点Aによる幾何学的投影となつている。点列A1、
B1、A2、B2、……の間隔は一定とする。従つて
点列D1、C1、D2、C2、……、点列A′1、B′1、
A′2、B′2、……および点列D′1、C′1、D′2、C′2、
……の間隔もそれぞれ一定となることがわかる。
焦点A、Bを結ぶ直線は、ストライプF(又は
ストライプR)の構成する格子面と互いに平行と
なる様に配置されている。焦点Bは、辺B′1、A′2
が焦点Bによる辺A2、B2の幾何学的投影となる
様な位置で且つ最も焦点Aに近い位置に配置され
ている。
ストライプR)の構成する格子面と互いに平行と
なる様に配置されている。焦点Bは、辺B′1、A′2
が焦点Bによる辺A2、B2の幾何学的投影となる
様な位置で且つ最も焦点Aに近い位置に配置され
ている。
第6図dにおいて、焦点Aによる被写体透過1
次X線は、X線部分遮蔽素子の格子パターンによ
る強度変調を受けて、X線部分遮蔽素子を透過す
ることは容易に分る。次に焦点Bによる被写体透
過1次X線の経路について説明する。
次X線は、X線部分遮蔽素子の格子パターンによ
る強度変調を受けて、X線部分遮蔽素子を透過す
ることは容易に分る。次に焦点Bによる被写体透
過1次X線の経路について説明する。
焦点Bによる被写体透過1次X線のうち、辺
A2Pに入射するものは△A2PD2による吸収を受け
てストライプFを一部透過するが、ストライプR
中の△B′1C′1Xにより再び吸収を受ける。従つて
全体としてほぼ厚さ2分だけのストライプによ
る吸収を受け、X線部分遮蔽素子を通過し得な
い。焦点Bによる被写体透過1次X線のうち、辺
PB2に入射するものは、〓PB2RD2による吸収を
受け、ストライプFによつてほぼ完全に遮蔽され
る。焦点Bによる被写体透過1次X線のうち、辺
B2Qに入射するものは、△B2C2Rによる吸収を受
けてストライプFを1部透過するが、ストライプ
R中の〓A′2Q″C″2D′2により再び吸収を受ける。
従つて全体としてほぼ厚さ2分だけのストライ
プによる吸収を受け、X線部分遮蔽素子を透過し
得ない。焦点Bによる被写体透過1次X線のう
ち、辺QA3に入射するものは、〓Q″B′2YC″2によ
る吸収を受け、ストライプRによつてほぼ完全に
遮蔽される。
A2Pに入射するものは△A2PD2による吸収を受け
てストライプFを一部透過するが、ストライプR
中の△B′1C′1Xにより再び吸収を受ける。従つて
全体としてほぼ厚さ2分だけのストライプによ
る吸収を受け、X線部分遮蔽素子を通過し得な
い。焦点Bによる被写体透過1次X線のうち、辺
PB2に入射するものは、〓PB2RD2による吸収を
受け、ストライプFによつてほぼ完全に遮蔽され
る。焦点Bによる被写体透過1次X線のうち、辺
B2Qに入射するものは、△B2C2Rによる吸収を受
けてストライプFを1部透過するが、ストライプ
R中の〓A′2Q″C″2D′2により再び吸収を受ける。
従つて全体としてほぼ厚さ2分だけのストライ
プによる吸収を受け、X線部分遮蔽素子を透過し
得ない。焦点Bによる被写体透過1次X線のう
ち、辺QA3に入射するものは、〓Q″B′2YC″2によ
る吸収を受け、ストライプRによつてほぼ完全に
遮蔽される。
以上の説明からわかるように、焦点Bによる被
写体透過1次X線は、X線部分遮蔽素子を透過し
得ない。焦点Aから出たX線のうち、被写体並び
にX線部分遮蔽素子により散乱されてX線部分遮
蔽素子を通過するものは、第6図cの説明と同じ
理由により、焦点A、Bによる照射X線強度が等
しい場合には焦点Bによるそれにほとんど同一と
みなし得る。
写体透過1次X線は、X線部分遮蔽素子を透過し
得ない。焦点Aから出たX線のうち、被写体並び
にX線部分遮蔽素子により散乱されてX線部分遮
蔽素子を通過するものは、第6図cの説明と同じ
理由により、焦点A、Bによる照射X線強度が等
しい場合には焦点Bによるそれにほとんど同一と
みなし得る。
以上の理由から第6図dのX線部分遮蔽素子を
使用した第6図aのX線像撮影装置により、焦点
Aによる記録像から焦点Bによる記録像を減算画
像処理することにより、散乱線の影響の全くな
い、被写体の透過1次X線像を得ることが可能と
なることがわかる。
使用した第6図aのX線像撮影装置により、焦点
Aによる記録像から焦点Bによる記録像を減算画
像処理することにより、散乱線の影響の全くな
い、被写体の透過1次X線像を得ることが可能と
なることがわかる。
第6図eに第6図dの特殊な場合として、スト
ライプFとストライプRとがつながつて1つの小
板となつた例を示した。ストライプFとストライ
プRを一体化することは製造上の困難を著しく軽
減するのに効果大である。
ライプFとストライプRとがつながつて1つの小
板となつた例を示した。ストライプFとストライ
プRを一体化することは製造上の困難を著しく軽
減するのに効果大である。
X線部分遮蔽素子のストライプの断面は、第6
図dに示す台形であることは、焦点Aによる被写
体透過1次X線の透過率を高くする上で好ましい
が、焦点Bによる被写体透過1次X線をほぼ完全
に遮蔽するという条件さえ満たせば、任意の形状
を選択することが可能である。
図dに示す台形であることは、焦点Aによる被写
体透過1次X線の透過率を高くする上で好ましい
が、焦点Bによる被写体透過1次X線をほぼ完全
に遮蔽するという条件さえ満たせば、任意の形状
を選択することが可能である。
以上述べたX線撮影放射線撮影装置の唯一の欠
点は、このままでは格子状のX線部分遮蔽素子の
X線透過パターンが、、被写体透過像に重なつて
表示されることにある。この問題は所謂ブツキー
型グリツドの原理を採用することにより解決する
ことができる。即ち、X線照射中にX線部分遮蔽
素子全体をストライプの長手方向に直角となる方
向に移動させることにより、X線部分遮蔽素子の
ストライプによる影はかすんで見えなくなる。し
かしながら、移動距離が大き過ぎると焦点Aによ
る1次X線による透過率が減少してしまうと同時
に焦点Bによる1次X線が完全にはX線部分遮蔽
素子により遮蔽されなくなる。
点は、このままでは格子状のX線部分遮蔽素子の
X線透過パターンが、、被写体透過像に重なつて
表示されることにある。この問題は所謂ブツキー
型グリツドの原理を採用することにより解決する
ことができる。即ち、X線照射中にX線部分遮蔽
素子全体をストライプの長手方向に直角となる方
向に移動させることにより、X線部分遮蔽素子の
ストライプによる影はかすんで見えなくなる。し
かしながら、移動距離が大き過ぎると焦点Aによ
る1次X線による透過率が減少してしまうと同時
に焦点Bによる1次X線が完全にはX線部分遮蔽
素子により遮蔽されなくなる。
従つて、移動距離は、この様な不都合が問題と
ならない大きさに抑える必要がある。上記の不都
合が起こらない様に、更にストライプF又はスト
ライプRの個々の形状を第6図c、第6図dに示
した形状から両隣りの2方向へわずかづつ延長さ
せた形状にしておいても良い。もう一つの解決法
としては、X線部分遮蔽素子をストライプの長手
方向と直角をなす方向にd1だけ移動させた後、
焦点Aによる被写体X線像を撮影記録し、X線部
分遮蔽素子を移動させないで焦点Aにより撮影し
た被写体X線像のストライプに対応する部分の画
像に置き代えて記憶させる方法を採用しても良
い。
ならない大きさに抑える必要がある。上記の不都
合が起こらない様に、更にストライプF又はスト
ライプRの個々の形状を第6図c、第6図dに示
した形状から両隣りの2方向へわずかづつ延長さ
せた形状にしておいても良い。もう一つの解決法
としては、X線部分遮蔽素子をストライプの長手
方向と直角をなす方向にd1だけ移動させた後、
焦点Aによる被写体X線像を撮影記録し、X線部
分遮蔽素子を移動させないで焦点Aにより撮影し
た被写体X線像のストライプに対応する部分の画
像に置き代えて記憶させる方法を採用しても良
い。
第6図b、第6図c、第6図dおよび第6図e
に示したX線遮蔽素子は、X線焦点Aに限れば、
第4図bに示したX線遮蔽素子と同一の機能を果
すことができるので、第6図aの放写線撮影装置
を使用して、第4図aの放射線撮影装置と同一の
散乱線除去方法を実施することが可能である。
に示したX線遮蔽素子は、X線焦点Aに限れば、
第4図bに示したX線遮蔽素子と同一の機能を果
すことができるので、第6図aの放写線撮影装置
を使用して、第4図aの放射線撮影装置と同一の
散乱線除去方法を実施することが可能である。
第6図aに用いられる2つのX線源として、X
線管を2台設置したり、1台のX線線管を2つの
異なる位置に移動させても良いが、装置が大型化
するという欠点、並びに前者の場合には2焦点間
距離をあまり近づけられないという欠点がある。
これらの欠点は、立体X線写真撮影用に使用され
る所謂双焦点X線管を用いることにより解消され
る。
線管を2台設置したり、1台のX線線管を2つの
異なる位置に移動させても良いが、装置が大型化
するという欠点、並びに前者の場合には2焦点間
距離をあまり近づけられないという欠点がある。
これらの欠点は、立体X線写真撮影用に使用され
る所謂双焦点X線管を用いることにより解消され
る。
第4図b、第6図bではX線部分遮蔽素子を構
成するストライプの集合体の保持法として、イン
タースペーサー上に付着させた方式を示したが、
第7図に他の実施例を示す。これは前記ストライ
プの集合体の間隙部分に所々橋渡しをつけたもの
であり、インタースペーサー上に付着させること
なしに自分自身で強度を保持し得る構造としたも
のである。これは例えば1枚のX線不透過性の板
を部分的に穿孔加工することにより実現すること
ができる。第7図の如き格子を用いればインター
スペーサーを使用しなくて済むので、よりX線透
過率の高いX線部分遮蔽素子を実現することが可
能となる。
成するストライプの集合体の保持法として、イン
タースペーサー上に付着させた方式を示したが、
第7図に他の実施例を示す。これは前記ストライ
プの集合体の間隙部分に所々橋渡しをつけたもの
であり、インタースペーサー上に付着させること
なしに自分自身で強度を保持し得る構造としたも
のである。これは例えば1枚のX線不透過性の板
を部分的に穿孔加工することにより実現すること
ができる。第7図の如き格子を用いればインター
スペーサーを使用しなくて済むので、よりX線透
過率の高いX線部分遮蔽素子を実現することが可
能となる。
第4図a、第6図aの放射線撮影装置は、X線
イメージコンバーターとしてX線イメージインテ
ンシフアイア、変換像読取装置としてテレビカメ
ラを使用したものの例であるが、本発明で述べら
れたX線像撮影方法は他のいかなるX線像撮影装
置にも適用することができる。
イメージコンバーターとしてX線イメージインテ
ンシフアイア、変換像読取装置としてテレビカメ
ラを使用したものの例であるが、本発明で述べら
れたX線像撮影方法は他のいかなるX線像撮影装
置にも適用することができる。
以上X線撮影を念頭に説明を行なつて来たが、
本発明は、単にX線撮影のみに限定されるもので
なく、X線以外の放射線(α線、β線、γ線、紫
外線、可視光線、赤外線、遠赤外線)を用いた撮
影に対してもそのまま応用することができる。
本発明は、単にX線撮影のみに限定されるもので
なく、X線以外の放射線(α線、β線、γ線、紫
外線、可視光線、赤外線、遠赤外線)を用いた撮
影に対してもそのまま応用することができる。
〔発明の効果〕
以上のように本発明のX線像撮影装置により散
乱像の影響の殆んどない被写体の透過1次X線像
を得ることができる。
乱像の影響の殆んどない被写体の透過1次X線像
を得ることができる。
第1図aおよび第1図bは従来のグリツドを示
す構造図、第2図は従来の散乱X線除去方式の一
つであるグレーデル法を示す説明図、第3図は従
来の走査スリツト法を示す説明図、第4図aは本
発明の一実施例に用いられる放射線撮影装置を示
す概略図、第4図bは、本発明に用いられる放射
線部分遮蔽素子の一実施例を示す要部斜視図、第
5図aは、第4図aの放射線撮影装置で放射線部
分遮蔽素子を入れて撮影された被写体画像の読取
り信号の一例を示す図、第5図bは第5図aの読
取り信号の補正結果を示す図、第6図aは本発明
の他の実施例に用いられる放射線撮影装置を示す
概略図、第6図bは本発明の他の実施例に用いら
れる放射線部分遮蔽素子の一実施例を示す要部斜
視図、第6図cは放射線部分遮蔽素子の一実施例
についてその効果を説明するための原理図、第6
図dは放射部分遮蔽素子の他の実施例についてそ
の効果を説明するための原理図、第6図eは第6
図dに示される放射線部分遮蔽素子の実施例の特
別な場合を示す概略図、第7図は放射線部分遮蔽
素子を構成する格子の支持方法に関する他の実施
例を示す要部斜視図である。 1……鉛箔片、2……インタースペーサー、3
……X線焦点、4……X線管、5……被写体、6
……X線イメージコンバーター受像面、7……被
写体、8……走査スリツト板、8a……スリツ
ト、9……走査スリツト板、9a……スリツト、
10……X線フアンビーム、11……X線イメー
ジコンバーター受像面、12……X線管、13…
…被写体、14……X線部分遮蔽素子、15……
X線イメージインテンシフアイアー、16……テ
レビカメラ、17……データ処理装置、18……
表示装置、19……駆動装置、20……ストライ
プ、21……インタースペーサー、22……X線
部分遮蔽素子、23……ストライプF、24……
ストライプR、25……インタースペーサー、2
6……X線不透過板。
す構造図、第2図は従来の散乱X線除去方式の一
つであるグレーデル法を示す説明図、第3図は従
来の走査スリツト法を示す説明図、第4図aは本
発明の一実施例に用いられる放射線撮影装置を示
す概略図、第4図bは、本発明に用いられる放射
線部分遮蔽素子の一実施例を示す要部斜視図、第
5図aは、第4図aの放射線撮影装置で放射線部
分遮蔽素子を入れて撮影された被写体画像の読取
り信号の一例を示す図、第5図bは第5図aの読
取り信号の補正結果を示す図、第6図aは本発明
の他の実施例に用いられる放射線撮影装置を示す
概略図、第6図bは本発明の他の実施例に用いら
れる放射線部分遮蔽素子の一実施例を示す要部斜
視図、第6図cは放射線部分遮蔽素子の一実施例
についてその効果を説明するための原理図、第6
図dは放射部分遮蔽素子の他の実施例についてそ
の効果を説明するための原理図、第6図eは第6
図dに示される放射線部分遮蔽素子の実施例の特
別な場合を示す概略図、第7図は放射線部分遮蔽
素子を構成する格子の支持方法に関する他の実施
例を示す要部斜視図である。 1……鉛箔片、2……インタースペーサー、3
……X線焦点、4……X線管、5……被写体、6
……X線イメージコンバーター受像面、7……被
写体、8……走査スリツト板、8a……スリツ
ト、9……走査スリツト板、9a……スリツト、
10……X線フアンビーム、11……X線イメー
ジコンバーター受像面、12……X線管、13…
…被写体、14……X線部分遮蔽素子、15……
X線イメージインテンシフアイアー、16……テ
レビカメラ、17……データ処理装置、18……
表示装置、19……駆動装置、20……ストライ
プ、21……インタースペーサー、22……X線
部分遮蔽素子、23……ストライプF、24……
ストライプR、25……インタースペーサー、2
6……X線不透過板。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 円錐形状の放射線を被写体に照射し、この被
写体を透過した透過放射線に基づいて被写体の透
過二次元像を得るための放射線像撮影装置であつ
て、 被写体に上記放射線が放射された場合におい
て、被写体によつて散乱されることなく被写体を
透過した透過放射線及び被写体によつて散乱され
た散乱放射線の一部を共に通過させる第1の状態
と、透過放射線を遮断し、かつ被写体により散乱
された散乱放射線を通過させる第2の状態とに切
換え作動させる放射線遮蔽手段を備える遮蔽手段
配置装置と、 放射線遮蔽手段が第1の状態にあるとき、被写
体に放射線が照射されることにより、この被写体
及び放射線遮蔽手段を透過する透過放射線、及び
被写体から生じ放射線遮蔽手段を透過する散乱放
射線に基づいて被写体の第1放射線像を電気信号
の形で得るとともに、放射線遮蔽手段が第2の状
態にあるとき、被写体に放射線が照射されること
により被写体から生じた第2放射線像を電気信号
の形で得る像形成装置と、 上記像形成装置で得られた第1及び第2放射線
像を電気的に処理することにより、放射線遮蔽手
段による空間的変調と散乱放射線との影響を受け
ない実際の被写体の透過二次元像を再生表示する
再生処理装置 とを具備することを特徴とする放射線像撮影装
置。 2 円錐形状の放射線を被写体に照射し、この被
写体を透過した透過放射線に基づいて被写体の透
過二次元像を得るための放射線像撮影装置であつ
て、 放射線遮蔽手段を配置する遮蔽手段配置装置
と、上記放射線が放射線源と被写体との距離を一
定にして異なる2つの放射線源の第1及び第2の
両方の位置から照射する放射線照射装置と、 放射線源が第1の位置から放射されるとき、上
記放射線遮蔽手段によつて被写体により散乱され
ることなく被写体を透過した透過放射線及び被写
体により散乱された散乱放射線の一部を共に通過
させ、この放射線遮蔽手段を通過した上記透過放
射線及び散乱放射線に基づいて被写体の第1の放
射線像を電気信号の形で得るとともに、放射線像
が第2の位置から放射されるとき、上記放射線遮
蔽手段によつて上記透過放射線を遮断し、かつ上
記散乱放射線を通過させ、この放射線遮蔽手段を
通過した散乱放射線のみに基づいて被写体の第2
の放射線像を電気信号の形で得る像形成装置と、 上記像形成装置で得られた第1及び第2放射線
像を電気的に処理することにより、放射線遮蔽手
段による空間変調と散乱放射線との影響を受けな
い実際の被写体の透過二次元像を電気信号の形で
得る再生処理装置 とを具備することを特徴とする放射線像撮影装
置。
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