JPH0466237B2 - - Google Patents
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- JPH0466237B2 JPH0466237B2 JP59082137A JP8213784A JPH0466237B2 JP H0466237 B2 JPH0466237 B2 JP H0466237B2 JP 59082137 A JP59082137 A JP 59082137A JP 8213784 A JP8213784 A JP 8213784A JP H0466237 B2 JPH0466237 B2 JP H0466237B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
- C07D303/18—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by etherified hydroxyl radicals
- C07D303/20—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings
- C07D303/22—Ethers with hydroxy compounds containing no oxirane rings with monohydroxy compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D231/12—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
- C07D233/54—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D233/56—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, attached to ring carbon atoms
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D249/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D249/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
- C07D249/08—1,2,4-Triazoles; Hydrogenated 1,2,4-triazoles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/04—Compounds containing oxirane rings containing only hydrogen and carbon atoms in addition to the ring oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/08—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by halogen atoms, nitro radicals or nitroso radicals
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Epoxy Compounds (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は植物生長抑制及び殺菌・殺カビ
（fnngicidal）活性を有する化合物の合成に対す
る中間体として使用し得る公知のオキシランの新
規な製造方法に関するものである。
（fnngicidal）活性を有する化合物の合成に対す
る中間体として使用し得る公知のオキシランの新
規な製造方法に関するものである。
硫化ジメチル及び硫酸ジメチルを反応させ、次
にこれにより中間体として生じるトリメチルスル
ホニウム硫酸メチルを不活性有機溶媒の存在下
で、且つ強塩基、例えばブチル−リチウム、水素
化ナトリウム、ナトリウムアミド、カリウムｔ−
ブチラート、ナトリウムメチラートまたはナトリ
ウムエチラートの存在下でカルボニル化合物と反
応させることによりオキシランを製造し得ること
は既に開示されている〔J.Amer.Chem.Soc.87、
1353〜1364（1965）及びBer.96、1881（1963）参
照）。かくして、例えば硫化ジメチル及び硫酸ジ
メチルから調製したトリメチルスルホニウム硫酸
メチルをその場でナトリウムメチラートの存在下
にてアセトニトリル中の１−（４−クロロフエノ
キシ）−３，３−ジメチル−２−ブタノンと反応
させることにより２−（４−クロロフエノキシメ
チル）−２−ｔ−ブチルオキシランを製造するこ
とができる〔ヨーロツパ特許出願公開（EP−
OS）第40345号参照〕。この方法の収率は良好で
ある。しかしながら、用いるすべての塩基を特別
に調製する必要があり、そしてこれらのものが水
分に敏感であり、そしてこれらのあるものが可燃
性であるために取り扱いが困難であることは不利
である。
にこれにより中間体として生じるトリメチルスル
ホニウム硫酸メチルを不活性有機溶媒の存在下
で、且つ強塩基、例えばブチル−リチウム、水素
化ナトリウム、ナトリウムアミド、カリウムｔ−
ブチラート、ナトリウムメチラートまたはナトリ
ウムエチラートの存在下でカルボニル化合物と反
応させることによりオキシランを製造し得ること
は既に開示されている〔J.Amer.Chem.Soc.87、
1353〜1364（1965）及びBer.96、1881（1963）参
照）。かくして、例えば硫化ジメチル及び硫酸ジ
メチルから調製したトリメチルスルホニウム硫酸
メチルをその場でナトリウムメチラートの存在下
にてアセトニトリル中の１−（４−クロロフエノ
キシ）−３，３−ジメチル−２−ブタノンと反応
させることにより２−（４−クロロフエノキシメ
チル）−２−ｔ−ブチルオキシランを製造するこ
とができる〔ヨーロツパ特許出願公開（EP−
OS）第40345号参照〕。この方法の収率は良好で
ある。しかしながら、用いるすべての塩基を特別
に調製する必要があり、そしてこれらのものが水
分に敏感であり、そしてこれらのあるものが可燃
性であるために取り扱いが困難であることは不利
である。
また硫化ジメチルを硫酸ジメチルで処理し、そ
して生成するトリメチルスルホニウム硫酸メチル
を濃厚な水酸化ナトリウム水溶液及び水と混和し
にくい有機溶媒の存在下にて、且つ相移動
（phasetransfer）触媒の存在下にてカルボニル化
合物と反応させた場合にオキシランが得られるこ
とが開示されている〔Angew.Chem.85、867〜
868（1973）及びJ.Org.Chem.34、2133（1969）参
照〕。しかしながら、従来アルデヒドのみがこの
方法を用いてオキシランに転化された。加えて、
２つの液相からなる系においては相移動触媒の存
在が常に必要である。
して生成するトリメチルスルホニウム硫酸メチル
を濃厚な水酸化ナトリウム水溶液及び水と混和し
にくい有機溶媒の存在下にて、且つ相移動
（phasetransfer）触媒の存在下にてカルボニル化
合物と反応させた場合にオキシランが得られるこ
とが開示されている〔Angew.Chem.85、867〜
868（1973）及びJ.Org.Chem.34、2133（1969）参
照〕。しかしながら、従来アルデヒドのみがこの
方法を用いてオキシランに転化された。加えて、
２つの液相からなる系においては相移動触媒の存
在が常に必要である。
不活性の有機性希釈剤の存在下で硫化ジメチル
を硫酸ジメチルで処理し、そしてそれにより生成
する式 （CH3）3S CH3SO4 （） のトリメチルスルホニウム硫酸メチルを前もつて
単離せずに、水酸化カリウムまたは水酸化ナトリ
ウム粉末の存在下にて、且つ不活性の有機性希釈
剤の存在下にて０℃乃至60℃間の温度で式 式中、Ｘは酸素またはCH2を表わし、 Ｙは塩素またはフエニルを表わし、そして Ｚは水素またはハロゲンを表わす、 のケトンと反応させることを特徴とする式 式中、Ｘ、Ｙ及びＺは上記の意味を有する、の
公知のオキシランが得られることが見い出され
た。
を硫酸ジメチルで処理し、そしてそれにより生成
する式 （CH3）3S CH3SO4 （） のトリメチルスルホニウム硫酸メチルを前もつて
単離せずに、水酸化カリウムまたは水酸化ナトリ
ウム粉末の存在下にて、且つ不活性の有機性希釈
剤の存在下にて０℃乃至60℃間の温度で式 式中、Ｘは酸素またはCH2を表わし、 Ｙは塩素またはフエニルを表わし、そして Ｚは水素またはハロゲンを表わす、 のケトンと反応させることを特徴とする式 式中、Ｘ、Ｙ及びＺは上記の意味を有する、の
公知のオキシランが得られることが見い出され
た。
式（）のオキシランが本発明の方法により従
来公知の方法と比較して高収率で製造できること
は極めて驚くべきことと言わねばならない。更
に、当該分野の公知の現状を基に、対応するアル
デヒドより勿論活性が一般的に低いこの種のケト
ンの反応に対して相移動触媒の存在が必要である
ことは推察された。しかしながら、予想に反して
このことは必要ではない。触媒が存在しなくとも
反応は問題なく起こるが、固相及び液相からなる
系において起こつている。また本発明による反応
は水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムを用い
て難なく行うことができ、一方塩基として粉末の
水酸化リチウムを用いる場合に同様な反応におい
て不満足な結果が得られることは驚くべきことで
ある。
来公知の方法と比較して高収率で製造できること
は極めて驚くべきことと言わねばならない。更
に、当該分野の公知の現状を基に、対応するアル
デヒドより勿論活性が一般的に低いこの種のケト
ンの反応に対して相移動触媒の存在が必要である
ことは推察された。しかしながら、予想に反して
このことは必要ではない。触媒が存在しなくとも
反応は問題なく起こるが、固相及び液相からなる
系において起こつている。また本発明による反応
は水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムを用い
て難なく行うことができ、一方塩基として粉末の
水酸化リチウムを用いる場合に同様な反応におい
て不満足な結果が得られることは驚くべきことで
ある。
本方法による方法は数多くの利点により特徴づ
けられる。かくして、使用し得る塩基は工業的規
模でも得られ、取り扱いが容易であり、そして可
燃性ではない。更に、この方法により式（）の
オキシランは極めて高収率で得られる。
けられる。かくして、使用し得る塩基は工業的規
模でも得られ、取り扱いが容易であり、そして可
燃性ではない。更に、この方法により式（）の
オキシランは極めて高収率で得られる。
本発明により製造し得るオキシランは式（）
により定義される。この式においてＸは酸素また
はCH2基を表わす。Ｙは塩素またはフエニルを表
わし、そしてＺは好ましくは水素、フツ素または
塩素を表わす。
により定義される。この式においてＸは酸素また
はCH2基を表わす。Ｙは塩素またはフエニルを表
わし、そしてＺは好ましくは水素、フツ素または
塩素を表わす。
本発明による方法において出発物質として１−
（４−クロロフエノキシ）−３，３−ジメチル−２
−ブタノンを用い、そして塩基として水酸化カリ
ウム粉末を用いる場合、反応の径路は下記の図で
表わすことができる： (a) （CH3）2S＋（CH3）2SO →（CH3）3 CH3SO4 本発明の方法における出発物質として必要なケ
トンは式（）で定義される。この式において、
Ｙは塩素またはフエニルを表わす。Ｘは酸素また
はCH2基を表わし、そしてＺは好ましくは水素、
フツ素または塩素を表わす。
（４−クロロフエノキシ）−３，３−ジメチル−２
−ブタノンを用い、そして塩基として水酸化カリ
ウム粉末を用いる場合、反応の径路は下記の図で
表わすことができる： (a) （CH3）2S＋（CH3）2SO →（CH3）3 CH3SO4 本発明の方法における出発物質として必要なケ
トンは式（）で定義される。この式において、
Ｙは塩素またはフエニルを表わす。Ｘは酸素また
はCH2基を表わし、そしてＺは好ましくは水素、
フツ素または塩素を表わす。
式（）のケトンは公知のものである〔ドイツ
国特許第2201063号、ドイツ国特許出願公開（DE
−OS）第2705678号及び同第2737489号参照〕。
国特許第2201063号、ドイツ国特許出願公開（DE
−OS）第2705678号及び同第2737489号参照〕。
また本発明による出発物質として必要な式
（）のトリメチルスルホニウム硫酸メチルは同
様に公知のものである〔Heterocycles８、397
（1977）参照〕。このものは上記の反応において硫
化ジメチルを硫酸ジメチルと反応させて、その場
で生じさせた新たな製造状態のままで用いる。
（）のトリメチルスルホニウム硫酸メチルは同
様に公知のものである〔Heterocycles８、397
（1977）参照〕。このものは上記の反応において硫
化ジメチルを硫酸ジメチルと反応させて、その場
で生じさせた新たな製造状態のままで用いる。
本発明による方法に用いる塩基は粉末の水酸化
カリウムまたは粉末の水酸化ナトリウムである。
カリウムまたは粉末の水酸化ナトリウムである。
トリメチルスルホニウム硫酸メチルの製造及び
続いてのこの物質と式（）のケトンとの反応の
両方に対して、本発明による方法の希釈剤として
すべての不活性有機溶媒を用いることができる。
適当で且つ好ましいものにはニトリル例えばアセ
トニトリル、並びに極性溶媒例えばジメチルスル
ホキシド、また脂肪族または芳香族炭化水素例え
ばヘキサン、ベンゼン、トルエンもしくはキシレ
ン、並びに最後にアルコール例えばｔ−ブタノー
ル及びイソプロパノール、更にＮ−メチルピロリ
ドンがある。
続いてのこの物質と式（）のケトンとの反応の
両方に対して、本発明による方法の希釈剤として
すべての不活性有機溶媒を用いることができる。
適当で且つ好ましいものにはニトリル例えばアセ
トニトリル、並びに極性溶媒例えばジメチルスル
ホキシド、また脂肪族または芳香族炭化水素例え
ばヘキサン、ベンゼン、トルエンもしくはキシレ
ン、並びに最後にアルコール例えばｔ−ブタノー
ル及びイソプロパノール、更にＮ−メチルピロリ
ドンがある。
本発明による方法を行う際に、反応温度はある
範囲内で変えることができる。一般に、トリメチ
ルスルホニウム硫酸メチルの製造及びその続いて
の式（）のケトンとの反応の両方に対して、０
℃乃至60℃間、好ましくは10℃乃至40℃間の温度
を用いる。
範囲内で変えることができる。一般に、トリメチ
ルスルホニウム硫酸メチルの製造及びその続いて
の式（）のケトンとの反応の両方に対して、０
℃乃至60℃間、好ましくは10℃乃至40℃間の温度
を用いる。
本発明による方法は一般に常圧下で行われる。
しかしながら、昇圧または減圧下でも行うことが
できる。
しかしながら、昇圧または減圧下でも行うことが
できる。
本発明による方法を行う際に、一般的に式
（）のケトン１モルに対して1.0〜2.0モル、好
ましくは1.0〜1.5モルの硫酸ジメチル、1.0〜2.2
モル、好ましくは1.0〜1.6モルの硫化ジメチル及
び1.0〜4.0モル、好ましくは1.5〜2.0モルの水酸
化カリウムまたは水酸化ナトリウムを用いるよう
に反応における成分の量を選ぶ。
（）のケトン１モルに対して1.0〜2.0モル、好
ましくは1.0〜1.5モルの硫酸ジメチル、1.0〜2.2
モル、好ましくは1.0〜1.6モルの硫化ジメチル及
び1.0〜4.0モル、好ましくは1.5〜2.0モルの水酸
化カリウムまたは水酸化ナトリウムを用いるよう
に反応における成分の量を選ぶ。
本発明による方法に対する特定の方法は硫化ジ
メチル及び硫酸ジメチルを溶媒中で混合し、次に
有機溶媒中の式（）のケトンの溶液をこの溶液
に加え、続いて特に必要とされる量の塩基を加え
ることである。常法で処理を行う。一般に、この
方法は最初に真空中で溶媒を除去し、次に過酸化
水素水溶液、希釈次亜塩素酸ナトリウムもしくは
次亜塩素酸カリウム溶液の如き酸化剤、または水
及び水とほとんど混和しない有機溶媒の混合物を
一緒に残留している残渣に加え、有機相を分別
し、洗浄し、そして必要に応じて乾燥前に蒸発さ
せることからなる。これにより生じる生成物を更
に精製するために減圧下で蒸留することができ
る。
メチル及び硫酸ジメチルを溶媒中で混合し、次に
有機溶媒中の式（）のケトンの溶液をこの溶液
に加え、続いて特に必要とされる量の塩基を加え
ることである。常法で処理を行う。一般に、この
方法は最初に真空中で溶媒を除去し、次に過酸化
水素水溶液、希釈次亜塩素酸ナトリウムもしくは
次亜塩素酸カリウム溶液の如き酸化剤、または水
及び水とほとんど混和しない有機溶媒の混合物を
一緒に残留している残渣に加え、有機相を分別
し、洗浄し、そして必要に応じて乾燥前に蒸発さ
せることからなる。これにより生じる生成物を更
に精製するために減圧下で蒸留することができ
る。
本発明の方法により製造し得る式（）のオキ
シランは植物生長抑制及び殺菌・殺カビ特性に優
れた１−ヒドロキシ−エチルアゾール誘導体の合
成に対する価値ある出発物質である（ヨーロツパ
特許出願公開第40345号参照〕。
シランは植物生長抑制及び殺菌・殺カビ特性に優
れた１−ヒドロキシ−エチルアゾール誘導体の合
成に対する価値ある出発物質である（ヨーロツパ
特許出願公開第40345号参照〕。
かくして、例えば水酸化カリウムの存在下で２
−（４−クロロフエノキシメチル）−２−ｔ−ブチ
ルオキシランを１，２，４−トリアゾールと反応
させることにより式 の２−（４−クロロフエノキシメチル）−３，３−
ジメチル−１−（１，２，４−トリアゾル−１−
イルメチル）−２−ブタノールを製造することが
できる。この合成は下の式で説明できる： 本発明による方法を次の実施例で説明する。
−（４−クロロフエノキシメチル）−２−ｔ−ブチ
ルオキシランを１，２，４−トリアゾールと反応
させることにより式 の２−（４−クロロフエノキシメチル）−３，３−
ジメチル−１−（１，２，４−トリアゾル−１−
イルメチル）−２−ブタノールを製造することが
できる。この合成は下の式で説明できる： 本発明による方法を次の実施例で説明する。
実施例 １
硫化ジメチル27ml（0.375モル）及び硫酸ジメ
チル30ml（0.317モル）を室温でアセトニトリル
400mlに加えた。トリメチルスルホニウム硫酸メ
チルが生成するようにこの混合物を室温で12時間
放置し、次にトルエン100ml中の１−（４−クロロ
フエノキシ）−３，３−ジメチル−２−ブタノン
57ｇ（0.25モル）の溶液を撹拌しながら滴下して
加えた。次に、氷水を用いて外部冷却し、そして
撹拌しながら粉砕した水酸化カリウム25.8ｇ
（0.46モル）を一部ずつ加えた。この混合物を室
温で更に12時間撹拌し、そして溶媒400mlを留去
した。残りの混合物を冷却し、次亜塩素酸ナトリ
ウムの希釈水溶液300mlを加え、そしてこの混合
物を５分間撹拌した。有機相を分離し、各々100
mlの水で２回洗浄し、次に減圧下で蒸発させた。
残渣61.4ｇが残留し、このものはガスクロマトグ
ラムより93.6％の２−（４−クロロフエノキシメ
チル）−２−ｔ−ブチルオキシランからなつてい
た。これから計算された収率は理論量の95.6％で
あつた。
チル30ml（0.317モル）を室温でアセトニトリル
400mlに加えた。トリメチルスルホニウム硫酸メ
チルが生成するようにこの混合物を室温で12時間
放置し、次にトルエン100ml中の１−（４−クロロ
フエノキシ）−３，３−ジメチル−２−ブタノン
57ｇ（0.25モル）の溶液を撹拌しながら滴下して
加えた。次に、氷水を用いて外部冷却し、そして
撹拌しながら粉砕した水酸化カリウム25.8ｇ
（0.46モル）を一部ずつ加えた。この混合物を室
温で更に12時間撹拌し、そして溶媒400mlを留去
した。残りの混合物を冷却し、次亜塩素酸ナトリ
ウムの希釈水溶液300mlを加え、そしてこの混合
物を５分間撹拌した。有機相を分離し、各々100
mlの水で２回洗浄し、次に減圧下で蒸発させた。
残渣61.4ｇが残留し、このものはガスクロマトグ
ラムより93.6％の２−（４−クロロフエノキシメ
チル）−２−ｔ−ブチルオキシランからなつてい
た。これから計算された収率は理論量の95.6％で
あつた。
実施例 ２
水酸化カリウムの代りに粉砕した水酸化ナトリ
ウム18.4ｇ（0.46モル）を用いる以外は実施例１
に記載した方法をくり返して行つた。処理後、ガ
スクロマトグラムにより90.9％の２−（４−クロ
ロフエノキシメチル）−２−ｔ−ブチルオキシラ
ンからなる残渣57.8ｇが得られた。これから計算
された収率は理論量の87.4％であつた。
ウム18.4ｇ（0.46モル）を用いる以外は実施例１
に記載した方法をくり返して行つた。処理後、ガ
スクロマトグラムにより90.9％の２−（４−クロ
ロフエノキシメチル）−２−ｔ−ブチルオキシラ
ンからなる残渣57.8ｇが得られた。これから計算
された収率は理論量の87.4％であつた。
比較実施例
無水アセトニトリル400ml中の硫化ジメチル162
ml（2.2モル）の溶液を室温で無水アセトニトリ
ル1200ml中の硫酸ジメチル189ml（2.0モル）の溶
液に加えた。この反応混合物を室温で一夜撹拌し
た。次にナトリウムメチラート118.8ｇ（2.2モ
ル）を加えた。この混合物を30分間撹拌し、次に
無水アセトニトリル600ml中の１−（４−クロロフ
エノキシ）−３，３−ジメチル−２−ブタノン272
ｇ（1.2モル）の溶液を30分間以内に滴下しなが
ら加えた。次にこの反応混合物を一夜放置した。
次にこのものを蒸発させ、残渣を水及び酢酸エチ
ル間に分配させ、有機相を分別し、水で２回そし
て飽和塩化ナトリウム溶液で１回洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥し、蒸発させ、そして残渣を真
空中で蒸留した。
ml（2.2モル）の溶液を室温で無水アセトニトリ
ル1200ml中の硫酸ジメチル189ml（2.0モル）の溶
液に加えた。この反応混合物を室温で一夜撹拌し
た。次にナトリウムメチラート118.8ｇ（2.2モ
ル）を加えた。この混合物を30分間撹拌し、次に
無水アセトニトリル600ml中の１−（４−クロロフ
エノキシ）−３，３−ジメチル−２−ブタノン272
ｇ（1.2モル）の溶液を30分間以内に滴下しなが
ら加えた。次にこの反応混合物を一夜放置した。
次にこのものを蒸発させ、残渣を水及び酢酸エチ
ル間に分配させ、有機相を分別し、水で２回そし
て飽和塩化ナトリウム溶液で１回洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥し、蒸発させ、そして残渣を真
空中で蒸留した。
沸点115〜22℃／0.003mmHg柱、融点50〜52℃
の２−（４−クロロフエノキシメチル）−２−ｔ−
ブチルオキシラン242.4ｇ（理論量の84％）が得
られた。
の２−（４−クロロフエノキシメチル）−２−ｔ−
ブチルオキシラン242.4ｇ（理論量の84％）が得
られた。
植物生長抑制及び殺菌・殺カビ活性を有する１
−ヒドロキシエチルアゾール誘導体の合成に対
する本発明により製造し得るオキシランの使用
実施例 トルエン70ml及びジメチルスルホキシド7.5ml
中の２−（４−クロロフエノキシメチル）−２−ｔ
−ブチルオキシラン30ｇ、１，２，４−トリアゾ
ール9.8ｇ及び固体水酸化カリウム1.2ｇの混合物
を還流下で６時間加熱した。室温に冷却した後、
シリカゲル２ｇをこの反応混合物に加え、次にこ
のものをろ過した。このろ液に半濃厚の塩酸75ml
を加え、そしてこれにより分別した結晶を吸引で
ろ別した。次に水80ml及び水酸化ナトリウム水溶
液を混合物のPH値が13になるように結晶固体に加
えた。このものを室温で更に２時間撹拌し、次に
吸引でろ別し、そして中性になるまで水で洗浄し
た。この方法で、融点84〜87℃の２−（４−クロ
ロフエノキシメチル）−３，３−ジメチル−１−
（１，２，４−トリアゾル−１−イルメチル）−２
−ブタノール20ｇ（理論量の52％）が得られた。
−ヒドロキシエチルアゾール誘導体の合成に対
する本発明により製造し得るオキシランの使用
実施例 トルエン70ml及びジメチルスルホキシド7.5ml
中の２−（４−クロロフエノキシメチル）−２−ｔ
−ブチルオキシラン30ｇ、１，２，４−トリアゾ
ール9.8ｇ及び固体水酸化カリウム1.2ｇの混合物
を還流下で６時間加熱した。室温に冷却した後、
シリカゲル２ｇをこの反応混合物に加え、次にこ
のものをろ過した。このろ液に半濃厚の塩酸75ml
を加え、そしてこれにより分別した結晶を吸引で
ろ別した。次に水80ml及び水酸化ナトリウム水溶
液を混合物のPH値が13になるように結晶固体に加
えた。このものを室温で更に２時間撹拌し、次に
吸引でろ別し、そして中性になるまで水で洗浄し
た。この方法で、融点84〜87℃の２−（４−クロ
ロフエノキシメチル）−３，３−ジメチル−１−
（１，２，４−トリアゾル−１−イルメチル）−２
−ブタノール20ｇ（理論量の52％）が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 不活性有機希釈剤の存在下で、硫化ジメチル
を硫酸ジメチルで処理し、そしてそれにより生成
する式 （CH3）3S CH3SO4 （） のトリメチルスルホニウム硫酸メチルを、前もつ
て単離せずに、水酸化カリウムまたは水酸化ナト
リウムの粉末の存在下且つ不活性有機希釈剤の存
在下にて、０℃と60℃の間の温度で式 式中、Ｘは酸素またはCH2を表わし、 Ｙは塩素またはフエニルを表わし、そして Ｚは水素またはハロゲンを表わす、 のケトンと反応させることを特徴とする式 式中、Ｘ、Ｙ及びＺは上記の意味を有する、の
オキシラン類の製法。 ２ 反応を10℃と40℃の間の温度で行うことを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 有機希釈剤として、アセトニトリル、ジメチ
ルスルホキシド、トルエン及び／またはｔ−ブタ
ノールを用いることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の方法。 ４ 式（）のケトンとして、２−（４−クロロ
フエノキシ）−３，３−ジメチル−２−ブタノン
を用いることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3315619.0 | 1983-04-29 | ||
| DE19833315619 DE3315619A1 (de) | 1983-04-29 | 1983-04-29 | Verfahren zur herstellung von oxiranen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59206375A JPS59206375A (ja) | 1984-11-22 |
| JPH0466237B2 true JPH0466237B2 (ja) | 1992-10-22 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59082137A Granted JPS59206375A (ja) | 1983-04-29 | 1984-04-25 | オキシラン類の製法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4886892A (ja) |
| EP (1) | EP0124011B1 (ja) |
| JP (1) | JPS59206375A (ja) |
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| EP0374509B1 (fr) * | 1988-12-21 | 1994-01-05 | Firmenich Sa | 4,4,5,8-Tétraméthyl-1-oxaspiro[2.5]octane, procédé pour sa préparation et son utilisation en tant que produit de départ pour la préparation du 2,2,3,6-tétraméthyl-cyclohexane-carbaldéhyde |
| DE4030061A1 (de) * | 1990-06-13 | 1991-12-19 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von benzylketonen sowie verfahren zur herstellung eines oxiranes |
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-
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-
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-
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