JPH046839A - 電荷転送素子 - Google Patents

電荷転送素子

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Publication number
JPH046839A
JPH046839A JP2107474A JP10747490A JPH046839A JP H046839 A JPH046839 A JP H046839A JP 2107474 A JP2107474 A JP 2107474A JP 10747490 A JP10747490 A JP 10747490A JP H046839 A JPH046839 A JP H046839A
Authority
JP
Japan
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charge transfer
charge
gate electrodes
transfer
gate
Prior art date
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Pending
Application number
JP2107474A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiko Denda
伝田 匡彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2107474A priority Critical patent/JPH046839A/ja
Publication of JPH046839A publication Critical patent/JPH046839A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野〕 この発明は、高転送効率の電荷転送素子に関するもので
ある。
[従来の技術] 従来この種の電荷転送素子としては、特公昭57282
32号公報に開示された構成及び1983年4月発行の
5PIE (エスピーアイイー) vol、395.5
5頁に開示された構成があった。
第2図は前述の特公昭57−28232号公報に示され
た電荷転送素子(CCD:チャージカップルドデバイス
)の平面図である。また、第3図は前述の1983年の
5PIE (エスピーアイイー) vol、395に掲
載された蛇行形の電荷転送素子である。第2図において
、(1)は図示しない半導体基板上に形成された複数の
制御・転送電極としてのゲート電極、(2)は前記各ゲ
ート電極(1)と直交して設けられた複数の分離(チャ
ネルストップ)領域である。また、第3図において、(
1)は図示しない半導体基板上に形成された複数の制御
・転送電極としてのゲト電極、(2)は分離領域、(3
)は電荷の転送方向を決定するための浅ポテンシャル領
域である。
従来の電荷転送素子は、前述したように構成されており
、以下に、その動作について説明する。
なお、第4図は第2図の電荷転送素子の各ゲート電極(
1)に印加される電気信号であり、第5図は第2図のA
−A”における断面図、第6図は第4図の各信号のB、
C,D、Hの各タイミングにおける半導体基板のポテン
シャル図である0次に、電荷転送素子の動作を第6図に
よって説明する。
第6図において(10)は!荷であり、この電荷(10
)はポテンシャルの低い部分に蓄積される。第6図(B
)で右端に蓄積されている電荷(10)は、印加電圧の
変化によってポテンシャルが変化することから、第6図
(C) 、 (D) 、 (E)に示されるように左方
へ転送される。
[発明が解決しようとする課題] 従来の電荷転送素子は、以上のように構成されていたた
め、信号電荷はポテンシャルの井戸に蓄積され、ポテン
シャルの井戸の移動によって転送されるが、転送経路中
のトラップなどにより完全に転送されずに残留電荷が発
生する。従って、全電荷に対する転送された電荷の比率
で転送効率を定義するが、この転送効率としては99.
99%以上のものが得られている。
この電荷の転送は自己誘導ドリフト、フリンジ電界ドリ
フト、熱拡散などの過程が考えられるが、このうち、フ
リンジ電界ドリフトは、隣り合ったゲート電極が“H”
と“L”の各々の状態の場合に、ケト電極下のポテンシ
ャルが隣のゲート電極の影響を受けて傾く効果によるも
のであり、この傾きが大きいほど電界による信号電荷の
ドリフトが大きくなり、転送効率の改善が行なわれる。
前述のフリンジ電界は隣接のゲート電極からの距離に依
存しているため、1つの電極の長さ(L)が大きい場合
にはフリンジ電界の効果が弱くなり、転送効率が悪化す
ることになる。
一方、電荷転送素子の電荷取扱い可能量は、電荷転送素
子のゲート電極と半導体基板間の容量に依存することか
ら、電荷転送素子のゲート電極の長さ(L)と幅(M)
に依存している。従って、転送効率の面からは長さ(L
)を大きくすることは避けるべきであるから輻(N)を
大きくすることになるが、この幅(−)を大きくするこ
とは別の方面からの制約があるにの電荷転送素子はイン
クラインCCD(IL−CCD)方式を用いた固体撮像
素子として広く使用されており、IL−CCD方式は光
電変換部と電荷転送部を分離したタイプの固体撮像素子
であり、このタイプの素子は、カラー撮像素子として使
用する場合のカラーフィルタの配列の自由度が大きいこ
とや、光電変換部を変更することにより、可視光のみで
なく赤外領域へも対応が可能であることなどの特徴があ
る。また、電子シャッタ機能の付加も容易であることも
大きな特徴である。前述のような理由からlt−CCD
方式は固体撮像素子において広く使用されているが、こ
の方式においては開口率の向上に限界がある。この開口
率とは1画素の面積に対する光電変換領域の面積比で定
義されるが、IL−CCD方式は光電変換部と電荷転送
部が1画素別々に設置されているため、開口率の向上が
制限される。また、電荷転送素子の電荷取扱い可能量を
増加させるために、電荷転送素子幅(H)を大きくする
ことは光電変換部の面積を縮小し、開口率を低下させる
こととなる。
さらに、開口率と電荷取扱い可能量を一定に保ったまま
転送効率を向上させるには電荷転送素子の幅とゲート電
極面積を一定に保ったまた実効チャネル長を減少させる
ことが必要となる。
この発明は上記のような課題を解決するためになされた
もので、特に、電荷転送素子のゲート電極面積を一定に
保って、実効チャネル長を減少できる電荷転送素子を得
ることを目的とする。
[課題を解決するための手段] この発明による電荷転送素子は、半導体基板上に、電荷
を転送するための電荷転送領域と前記電荷の転送を制御
するための複数個のゲート電極とを備えた電荷転送素子
において、前記電荷の転送方向と前記ゲート電極の延伸
方向が、垂直或いは平行以外の特定の角度を有している
構成である。
[作 用] この発明による電荷転送素子においては、複数個のゲー
ト電極と電荷転送方向とのなす角度を45度とした場合
、ゲートtiの面積Sは、5=LXW(但し、しはゲー
ト長、Wはゲート幅)となり、従来の電荷転送素子と同
一の面積を確保することができる。
また、フリンジ電界ドリフト効果の発生要因となる隣接
のゲート電極方向の実効的なゲート長Laし は、La−一でr となり、従来の電荷転送素子と比べ
ると、   の長さとなる。
汀 従って、隣接のゲート電極との距離が短かくなるため、
フリンジ電界ドリフト効果が大きくなり、高転送効率の
電荷転送素子を得ることができる。
[実施例コ 以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第1図は、この発明による電荷転送素子の一実施例を示
す平面図である。
第1図において、(1)は図示しない、半導体基板上に
斜めに設けられた複数個の制御・転送電極としてのゲー
ト電極、(2)は分離領域、(4)は電荷の転送を行う
ための電荷転送領域、(5)は前記ゲート電極(1)に
電圧を与える信号線で、この信号線(5)には、4相駆
動の駆動信号φ1〜φ、が印加されている。従って、電
荷の転送方向と前記ゲト電極(1)の延伸方向が、垂直
或いは平行以外の特定の角度を有している。
なお、第1図の実施例における電荷転送の方法は、従来
例で説明した電荷転送素子と同一であり、各ゲート電極
(1)に信号線(5)を介して、4相駆動の電圧を印加
することにより、第6図で示したように、ポテンシャル
井戸が形成され、このポテンシャル井戸を移動させるこ
とによって電荷転送が行われる。
従って、第1図のゲート電極1と電荷転送方向とのなす
角度を45度とすると、ゲート電極1の面積Sは、5=
LxW(但し、Lはゲート電極のゲト長、Wはゲート電
極の幅)となり、従来の電荷転送素子と同一の面積を確
保することがてきる。
一方、フリンジ電界ドリフト効果の発生要因となる隣接
のゲート電極方向の実効的なゲート長Laこの実効的な
ゲート長Laが短かくなることによって、隣接のゲート
電極との距離が短かくなり、フリンジ電界ドリフト効果
が大きくなると共に、高転送効率の電荷転送素子を得る
ことができる。
なお、前述の実施例では、4相駆動の電荷転送素子の場
合について説明したが、4相駆動に限らず、2相駆動、
3相駆動等の他の駆動方法による電荷転送素子の場合で
も、前述の実施例と同様の作用効果を奏することがてき
る。
「発明の効果」 以上のように、この発明によれば、電荷転送素子の制御
 転送電極であるゲート電極の延伸方向を、電荷の転送
方向に対して、垂直或いは平行以外の特定の方向である
斜めになるように構成したので、電荷転送素子の電荷取
扱い可能量を減少させずに高転送効率の電荷転送素子を
実現することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示す平面図、第2図、第
3図は従来の電荷転送素子の平面図、第4図は第5図の
φl〜φ4に印加されるクロック図、第5図は第2図の
A−A′断面図、第6図はクロックによるポテンシャル
図である。 (1)はゲート電極、(2)は分離領域、(4)は電荷
転送領域である。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 ’7f、1図 1  ケ゛’−トtゼな 2  宏1准11X 4  、’tfT転送/領1収 麗3図 昂5図 !lF、6図 手 続 補 正 書 平成 と 1 月11 日

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  半導体基板上に、電荷を転送するための電荷転送領域
    と前記電荷の転送を制御するための複数個のゲート電極
    とを備えた電荷転送素子において、前記電荷の転送方向
    と前記ゲート電極の延伸方向が、垂直或いは平行以外の
    特定の角度を有していることを特徴とする電荷転送素子
JP2107474A 1990-04-25 1990-04-25 電荷転送素子 Pending JPH046839A (ja)

Priority Applications (1)

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JP2107474A JPH046839A (ja) 1990-04-25 1990-04-25 電荷転送素子

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JP2107474A JPH046839A (ja) 1990-04-25 1990-04-25 電荷転送素子

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH046839A true JPH046839A (ja) 1992-01-10

Family

ID=14460121

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JP2107474A Pending JPH046839A (ja) 1990-04-25 1990-04-25 電荷転送素子

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6713793B1 (en) 1999-07-15 2004-03-30 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Field effect transistor structure with bent gate
US7540178B2 (en) 2005-07-18 2009-06-02 Sms Demag Ag Rolling installation and method for producing metal strips

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01266763A (ja) * 1988-04-18 1989-10-24 Nec Corp 電荷転送装置
JPH0316231A (ja) * 1989-06-14 1991-01-24 Matsushita Electron Corp 電荷転送装置

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