JPH0469895B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 発明の分野 本発明は工業用フオトサーモグラフイツク放射
線写真用組立物に関する。この組立物は構成的に
独特のハロゲン化銀フオトサーモグラフイツク乳
剤と高効率希土類蛍光体スクリーンを組合わせて
いる。

技術背景 製品や材料の非破壊試験は現在の製造工業にお
ける品質管理にとつて不可欠なものとなつた。こ
の種の試験はオンラインで製品の構造上の完全性
を集中的に評価できる。非破壊試験で最も普通に
使用されている様式の一つは工業材料について撮
影された放射線写真像である。工業用Ｘ線写真は
建物や橋等の構造物に使用される支柱梁の試験に
長年用いられてきた。それは特に溶接の評価にお
いて及び性能に影響するかも知れない微小なひび
に関しての金属板の試験において有効である。

材料に対する工業的要求がより厳重になり、そ
してひびに関する許容度が小さくなつてきている
ので、より厳しい試験方法が要求されている。写
真および放射線写真を包含する全ての像形成方式
において、プロセスを通して得られる解像力には
使用される物理的要素が原因で固有の限度があ
る。現在の工業用Ｘ線手順の実施においては、増
感スクリーン（intensifying screen）の使用が放
射線写真で得られる解像力をさらに制限してい
る。これまで、増感スクリーンの螢光体粒子およ
びスクリーン自体が非破壊試験に用いられた放射
線写真で得られる粒状性および解像力における制
限因子であることは一般に認められている〔ワー
レンJ.マクゴナグル著非破壊試験
（Nondestructive Testing）第２版、サイエンス
出版、1971年、第119〜123頁；ラジオグラフイ
ー・イン・モダン・インダストリー第３版、イー
ストマンコダツク発行、1969年、第34〜38頁；お
よびR.ハルムシヨウ著フイジクス・オブ・イン
ダストリアル・ラジオグラフイー、ヘイウツドブ
ツクス発行、1966年、第110および176頁参照〕。
この制限は螢光体粒子から発生した可視光線が入
射Ｘ線のように直線行路で投射されるのではなく
拡がるという事実の結果であると考えられた。

最終像を生成するために液体現像を必要としな
いことからしばしば「ドライシルバー」組成物と
も称されているハロゲン化銀フオトサーモグラフ
イツク像形成材料はずつと以前から知られてい
る。この像形成材料は基本的に非感光性の還元性
銀源、照射されたときに銀を生成する感光性物
質、および銀源を還元するための還元剤からな
る。感光性物質は一般に写真用ハロゲン化銀であ
り、非感光性銀源に触媒近接していなければなら
ない。触媒近接とは写真用ハロゲン化銀を照射ま
たは露光することによつて銀核が発生したときに
その核が還元剤による銀源の還元を触媒できるよ
うにそれ等２つの物質が均質に物理的会合してい
ることである。銀が銀イオンの還元のための触媒
であること及び銀生成用感光性ハロゲン化銀即ち
触媒発生剤が多数の様々な態様で銀源と触媒近接
できること〔例えば銀源と含ハロゲン源との部分
的複分解（例えば、米国特許第3457075号）、ハロ
ゲン化銀を銀源物質の共沈（例えば、米国特許第
3839049号）、およびハロゲン化銀と銀源を均質に
会合させるその他方法〕は以前からわかつてい
た。

この技術領域で使用される銀源は銀イオンを含
有する材料である。最初のそして今だに好ましい
銀源は通常炭素原子10〜30個の長鎖カルボン酸の
銀塩からなる。ベヘン酸または同じような分子量
の酸の混合物の銀塩が主として使用されてきた。
その他の有機酸の塩や他の有機物質例えば銀イミ
ダゾールが提案されており、また、英国特許第
1110046号には像源物質として無機または有機銀
塩の錯体を使用することが開示されている。

写真乳剤およびフオトサーモグラフイツク乳剤
どちらにおいても、ハロゲン化銀の露光は銀原子
の小さなクラスターを生成する。これ等クラスタ
ーの像様分布は潜像として知られている。この潜
像は一般に通常の手段によつて可視化できないの
で、この感光性製品は可視像を生成するためにさ
らに処理されねばならない。可視像は潜像の核に
触媒近接している銀の接触還元によつて生成され
る。

フオトサーモグラフイツク乳剤はその比較的低
いスピードと粗い画像故に一般に高照度機露光に
限定されており、低照度露光には使用されてこな
かつた。

発明の概要 本発明は放射線写真像形成方法のために互いに
特有に適合させられた特殊なフオトサーモグラフ
イツク被膜と希土類増感スクリーンとの組合わせ
に関する。フオトサーモグラフイツク層は増感ス
クリーンの分光発光に対して色素増感されてお
り、そしてスクリーンとフイルムの組合わせは少
なくとも50以上の増幅係数を有する。また、この
乳剤は1.5／１〜6.2／１の有機銀塩／有機酸のモ
ル比範囲を有している。

発明の詳細 フオトサーモグラフイツク乳剤は通常、基体上
に１層または２層として構成されている。単一層
構成は銀源物質、ハロゲン化銀、現像剤およびバ
インダー、さらに任意の添加物質例えばトナー、
塗布助剤、その他助剤を含有していなければなら
ない。２層構成は一方の乳剤層中に銀源とハロゲ
ン化銀を、そして第２層中または両方の層中に他
の成分を含有しなければならない。

上記のように銀源物質は通常では銀イオンの還
元性源を含有する物質であればよかつた。しか
し、本発明の実施には、有機酸特に長鎖（炭素原
子10〜30個、好ましくは15〜28個）脂肪カルボン
酸の銀塩が必要とされる。配位子が4.0〜10.0の
総安定度定数を有する有機または無機銀塩の錯体
は本発明には実用的でない。銀源物質は像形成層
の約20〜70重量％を構成すべきである。好ましく
は、それは30〜55重量％として存在する。２層構
成における第２層は単一像形成層中に必要な銀源
物質のパーセンテージに影響しない。

ハロゲン化銀は臭化銀、ヨウ化銀、塩化銀、臭
ヨウ化銀、塩臭ヨウ化銀、塩臭化銀等のような感
光性ハロゲン化銀であり、銀源に触媒近接するよ
うな態様で乳剤層に添加されている。ハロゲン化
銀は一般に像形成層の0.75〜15重量％として存在
するが、それより多い量でも有効である。像形成
層中に１〜10重量％のハロゲン化銀を使用するこ
とが好ましく、1.5〜7.0重量％使用することが最
も好ましい。

銀イオンのための還元剤は銀イオンを金属銀に
還元する物質であればよいが、好ましくは有機物
質である。フエニドン、ヒドロキノンおよびカテ
コールのような通常の写真現像剤が有効である
が、ヒンダードフエノール還元剤が好ましい。還
元剤は像形成層の１〜20重量％として存在すべき
である。２層構成においては、還元剤が第２層中
に存在する場合には２〜20％のやや高い割合が望
ましい傾向がある。

フタラジノン、フタラジンおよびフタル酸のよ
うな調色剤は構成に必須ではないが、大いに望ま
しい。この物質は例えば0.2〜５重量％の量で存
在してもよい。

バインダーはゼラチン、ポリビニルアセター
ル、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、酢酸セル
ロース、ポリオレフイン、ポリエステル、ポリス
チレン、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネー
ト等のような周知の天然および合成樹脂のいずれ
から選択されてもよい。勿論、コポリマーやター
ポリマーもこれ等定義の中に包含される。ポリビ
ニルブチラールやポリビニルホルマールのような
ポリビニルアセタール、および、ポリ酢酸ビニ
ル／塩化ビニルのようなビニル共重合体は特に望
ましい。バインダーは一般に各層の20〜75重量％
の範囲で、好ましくは30〜55重量％の範囲で使用
される。

本発明による有効な物質を記載するにあたり、
アルキルグループのような、クラスを特徴付ける
用語「グループ」の使用はそのクラスの種の置換
を予想しそれ等をその記載の中に包含することを
表わしている。例えば、アルキルグループはヒド
ロキシ、ハロゲン、エーテル、ニトロ、アリール
およびカルボキシ置換を包含するのに対し、アル
キルまたはアルキル基は非置換アルキルだけを包
含する。

先に述べたように、種々の他の助剤を本発明の
フオトサーモグラフイツク乳剤に添加してもよ
い。例えば、調色剤、促進剤、アキユータンス染
料、増感剤、安定剤、界面活性剤、滑剤、塗布助
剤、かぶり防止剤、ロイコ染料、キレート化剤、
およびその他の種々の周知添加剤を有効に組込ん
でもよい。増感スクリーンの分光発光に適合した
アキユータンス染料の使用は特に望ましい。

本発明の基材はペーパー、コーテツドペーパー
（例えば、バインダー中の二酸化チタン）、重合体
フイルム、染料含有重合体フイルム、またはコー
テツド重合体フイルムからなつていてもよい。基
体は視覚的に均質な白色半透明でなければならな
い。これは透過光および反射光どちらによつても
読み取れる放射線写真を可能にする。それは２ミ
ル（５×10^-5ｍ）程の薄いものであつても又は構
造一体性を保つために必要な厚いものであつても
よい。場合によつては１mm以上の厚い支持体が望
ましいことさえある。基体は白色の視覚的に均質
な半透明プラスチツクフイルムである。基体の
「半透明」性の指標として、基体からの光散乱ま
たは反射のレベルをさらに規定するために光学不
透明度測定を行うことができる。「白色」は「純
粋白色」基体ではなく背景部に穏やかな色合いを
付与するための明かるい染料や顔料の使用を包含
してもよい。基体のコントラス比によつて表わさ
れるような好ましい不透明度値（半透明）の範囲
は80〜99％であり、最も好ましい範囲は90〜99％
である。この不透明度値は白色標準プラツグによ
つて裏打ちされた基体反射能を黒色標準プラツグ
と比較するハンターラボ製「ラボスキヤン」分光
比色計を用いて測定されてもよい。好ましい半透
明フイルムはフイルムの顔料負荷、着色表面被覆
および／またはフイルム内の微気泡（vesicle）
によつて構成されてもよい。重合体物質ポリエス
テル（例えばポリエチレンテレフタレート）、酢
酸セルロース（または三酢酸セルロース）、ポリ
ビニルアセタール（例えばポリビニルブチラー
ル）、ポリオレフイン、ポリアミド、ポリカーボ
ネート、ポリアクリル樹脂等のような周知のポリ
マー皮膜形成性材料のいずれであつてもよい。

フオトサーモグラフイツク乳剤の性質の釣合い
は乳剤中の物質の割合によつて正確に制限されね
ばならない。銀塩と有機酸の割合はフオトサーモ
グラフイツク要素に必要なセンシトメトリー特性
を得る際に特に臨界的である。幾多の製造会社の
ドライシルバー紙、サーマルジアゾフイルムおよ
びビジキユラーフイルムを包含する市販のフオト
サーモグラフイツク材料は適切に分光増感された
ときでさえ工業用Ｘ線スタンダードのいずれにも
十分満足に通すことができない。

従来のフオトサーモグラフイツク乳剤において
は、有機酸（例えば、ベヘン酸、ステアリン酸、
および長鎖酸の混合物）のほぼ純粋な銀塩を乳剤
の主な成分として使用することが普通である。時
にはもつと少量または多量の酸成分が乳剤中に包
含される。本発明の実施に於いては、有機銀塩対
有機酸のモル比は1.5／１〜6.2／１（塩／酸）の
範囲になければならない。この範囲未満ではコン
トラストが低く過ぎ、そしてこの範囲を越えると
スピードおよび背景部安定性が許容できない程降
下することが判明した。比は2.0／１〜4.0／１の
範囲にあることが好ましく、より好ましくは比は
2.0／１〜3.50／１の範囲にある。ハロゲン化銀
はその場でのハロゲン化によつて供給されてもよ
いし又は予め生成されたハロゲン化銀の使用によ
つて供給されてもよい。増感染料の使用は特に望
ましい。染料は増感スクリーンの分光発光に対し
て乳剤の分光応答を適合させるように使用するこ
とができる。共願中の米国特許出願第510068
（1983年７月１日出願）に開示されているように
乳剤を増感せしめるＪ−バンド染料を使用するこ
とが特に有効である。

乳剤中の割合について臨界範囲を用い且つ応答
をスクリーン発光に適合させる適切な増感染料を
使用することによつて、本発明の教示に従つて最
低必要な性能特性を有するフイルムを製造でき
る。これ等最低性能特性は6ergs／cm²（フイルム
の最大波長感度で）に露出し131℃で５秒間現像
した場合のコントラスト2.0以上および拡散反射
光学濃度1.0として規定される。例えば、本発明
の或る態様では、緑色増感乳剤をＰ−22グリーン
フイルター（Ｐ−22グリーン螢光体のシミユレー
シヨン）を介してミリ秒の閃光によつて10^2.78ｍ
−燭−秒露光し131℃で４秒間現像して像形成し
た。その乳剤は約5ergs／cm²の露光でほぼ３のコ
ントラストと1.0の反射光学濃度を示した。

そのプロセスは通常のＸ線投射源またはγ線お
よび中性子源を包含するその他高エネルギー粒子
放射線源を用いることによつて実施される。周知
のように、使用される粒状螢光体は線源から発生
された放射線に対して高い吸収係数を有すべきで
ある。通常この放射線はＸ線、中性子線およびγ
線のいずれかとして規定される高エネルギー粒子
放射線である。工業材料は制御可能なＸ線源と本
発明の工業用放射線写真システムとの間に配置さ
れる。制御されたＸ線露光は線源から工業材料を
通つて増感スクリーンの平面即ち表面およびその
スクリーン内面に隣接した写真フイルムに対して
ほぼ垂直な角度で放射線写真システムに入射する
ように導かれる。スクリーンの螢光体によつて吸
収された放射線はスクリーンによつて光を発生せ
しめ、転じて乳剤中のハロゲン化銀中心に潜像を
生成する。それから、露光済みフイルムに通常の
熱現像が施こされる。

ハロゲン化銀粒子は塩化銀、臭化銀、ヨウ化
銀、臭ヨウ化銀、塩臭ヨウ化銀、塩臭化銀等、お
よびその混合物のような既知の写真用ハロゲン化
銀材料のいずれから選択されてもよい。

公知の写真助剤および処理助剤のぼう大なリス
トは本発明の実施に使用されてもよい。これ等物
質としては化学増感剤（硫黄および金化合物を包
含する）、現像促進剤（例えば、オニウムおよび
ポリオニウム化合物）、アルキレンオキシドポリ
マー促進剤、かぶり防止化合物、安定剤（例え
ば、アザインデン特にテトラーおよびペンタ−ア
ザインデン）、界面活性剤（特にフツ素化界面活
性剤）、帯電防止剤（特にフツ素化化合物）、可塑
剤、マツト剤等が挙げられる。脱色性染料を含有
する染料下層を使用してもよい。用語「脱色性」
が意味するところは、染料の光吸収能が実質的に
減少しなければならない又は完全に失われること
が可能でなければならないと云うことである。例
えば、基体とフオトサーモグラフイツク層との間
の下層を形成するバインダー中の染料はフイルム
要素からブリーチされるようにフイルム要素の処
理（現像）中に容易に熱的に漂白可能であつても
よい。また、その染料はアルカリ溶液漂白性、熱
漂白性もしくは亜硫酸塩漂白性快あつてもよいし
又はフイルム中の像の破壊を必要としない他のや
り方で除去可能であつてもよい。除去性達成につ
いては公知の多数の方法があるが、好ましい手段
は通常の現像温度で漂白可能な染料を使用するこ
とである。染料の熱漂白はそれ自体熱不安定性で
ある染料を選択することによつて又は加熱された
時に染料を漂白できる物質と組合わせることによ
つて遂行されてもよい。（米国特許第4336323号に
教示されているように）160〜200℃に加熱された
ときにHNO₃または窒素酸化物を遊離できる硝酸
塩と漂白性染料との組合わせは特に望ましい。

染料下層は放射線写真要素内でのクロストロー
クを防止するので特に重要である。クロストロー
クは（２スクリーンカセツトシステムにおける）
一方のスクリーンから発した光が乳剤を通過して
第２乳剤中に潜像を形成する時に起る。また、染
料層は光が乳剤通過後にベースから反射する片側
被覆フイルムでのハレーシヨンを防止するために
も役立ち得る。

本発明の工業用Ｘ線システムは特定されたフオ
トサーモグラフイツクフイルムと少なくとも１枚
の増感スクリーンを有するカセツトとの組合わせ
である。スクリーンは入射Ｘ線を吸収しその吸収
エネルギーをフオトサーモグラフイツクフイルム
に像形成を起させる可視光に変換する螢光体で被
覆されている。螢光体によつて発生される具体的
波長は螢光体の特性であり、入射Ｘ線のエネルギ
ーまたは波長には依存しない。

本発明の実施に使用されるＸ線増感スクリーン
は周知の希土類蛍光体スクリーンである。これ等
螢光体は入射Ｘ線を吸収して異なる電磁スペクト
ルの輻射線特に可視光および紫外線を発生する物
質である。希土類（ガドリニウムおよびランタ
ン）オキシスルフイドおよびガドリニウムまたは
ランタンオキシブロミドは特に有効な螢光体であ
る。ガドリニウムオキシスルフイドおよびランタ
ンオキシスルフイドおよび燐酸塩および砒酸塩は
発光波長を制御しその効率を改善するためにドー
プされてもよい。これ等螢光体の多数は米国特許
第3725704号および英国特許第1565811号に示され
ている。燐酸塩および砒酸塩螢光体は一般に式 La（１−ａ−ｂ−ｃ−ｄ−ｅ）Gd_aCe_bEu_cTd_d
Th_eXO₄ （式中、ａは0.01〜0.50であり、ｂは０〜0.50
であり、ｃは０〜0.02であり、ｄは０〜0.10であ
り、e0〜0.02であり、そしてＸは燐または砒素原
子またはその混合物を表わす）によつて表わされ
てもよい。好ましくは、ｃは０であり、ａは0.05
〜0.30であり、そしてｄは０〜0.02である。ｂと
ｃとｄとｅの和は０より大きくすべきであり、最
も好ましくは少なくとも0.005にすべきである。

オキシスルフイド希土類蛍光体は式 La（２−ｇ−ｆ）Gd_aLu_hZ_fO₂S 〔式中、Ｚはドーパント元素（単数または複
数）であり、ｇは０〜1.99であり、ｈは０〜1.99
であり、そしてｆは0.0005〜0.16である〕によつ
て表わされてもよい。好ましくは、ｂは０であ
り、ａは0.15〜1.00であり、ｆは0.0010〜0.05で
あり、そしてＺはテルビウムである。螢光体の粒
径が6μ未満であることは必須であり、好ましく
は5μ未満である。少なくとも250ｇ／m²の螢光体
が存在しなければならず、好ましくは300〜700
ｇ／m²である。

本発明の実施においてシングルスクリーンカセ
ツトは片側被覆フオトサーモグラフイツク要素と
共に使用される。ダブルスクリーンカセツトは片
側または両側被覆要素どちらとも使用できるが、
何ら有意な利点は無くフイルムコストが増すだけ
である。

本発明のこれ等特徴およびその他特徴は下記の
非限定的な実施例に示されている。

例 １ 下記成分をブレンドすることによつて銀分散液
を調製した： 成 分 重量物 ベヘン酸銀フルソープ 12.5％固形分（メチルエチルケトン中） 35.2 ベヘン酸銀ハーフソープ（50／50酸／塩） 15.5％固形分（アセトン中） 21.12 トルエン 20.18 HgBr₂5％（メタノール中） 2.59 ポリビニルブチラール（Ｂ−76） 9.02 酢酸第二水銀 2.1％固形分（メタノール中） 0.76 ２，2′−メチレンビス−（４−メチル− ６−tert−ブチルフエノール） 2.35 メチルメタクリレート樹脂 30％固形分（トルエン／ブテノール9.1中）
6.57 イミダゾリジン分光増感染料 スクリーンから発生光に適合されている ．1166％固形分（メタノール中） 3.77 アセトン 4.26 ハレーシヨン防止染料 ．319固形分（メチルエチルケトン中） 3.67 この分散液を二酸化チタン添加２ミル（１×
10^-4ｍ）ポリエチレンテレフタレート基体上に被
覆した。基体不透明度は分光比色計で91.5％であ
つた。分散物の被覆量は12.9ｇ／m²であり、それ
は約0.93ｇ／m²の銀被覆量に相当する。

下記成分を用いて保護トツプコート配合物を調
製した： 成 分 重量部 アセトン 67.65 メチルエチルケトン 15.0 酢酸セルロースエステル 4.6 シリカ 0.28 メタノール 11.22 フタラジン 0.51 ４−メチル−フタル酸 0.36 テトラクロロフタル酸 0.11 無水テトラクロロフタル酸 0.085 この溶液を乾燥銀分散物上に乾量３ｇ／m²で適
用した。

仕上げられたフオトサーモグラフイツクフイル
ムはキセノンフラツシユセンシトメーターを用い
てＰ−22グリーン螢光体シミユレートフイルター
を介して10^-3秒の設定で、０〜４連続濃度ウエツ
ジを通して露光された。露光済サンプルはローラ
ー駆動熱プロセツサーで131℃で４秒間処理され
た。そのセンシトメトリーはD_nio＝0.16、D_nax＝
1.68、コントラスト3.00、グロス濃度1.0で測定し
た感度6ergs／cm²として記録された。

例 ２ 例１のフイルムを保護トツプコートに隣接した
3Mトリマツクス 螢光体スクリーンと共にカセ
ツトの中に入れた。このカセツトをアルミニウム
テストバーを介して125kv源に36インチのフイル
ム焦点距離（ffd）で300ミリ秒間露出した。現像
後のセンシトメトリー結果は例１と実質的に同じ
であつた。

本発明から得られる放射線写真は特異光学的性
質を有する： (a) 試験放射線写真は拡大して又は拡大無しで反
射光によつて読み取ることができる。このシス
テムはパイプライン溶接検査のような野外放射
線写真に特に有効である。

(b) 試験放射線写真は高照度工業用Ｘ線ビユーア
ーの助けで透過光によつて読み取ることができ
る。これは鋳造の実際におけるＸ線検査の普通
の方法である。

このシステムは放射線写真の細部の驚くべき高
解像力をもたらす。200本／インチを越す試験目
標解像力がこの放射線写真では達成された。フオ
トサーモグラフイツク半透明フイルムで達成され
た写真コントラストと高解像力とを兼ね備えたこ
の特徴はASTM E94スタンダードによつて定義
されているような処理放射線写真での２％放射線
写真感度を可能にする。この放射線写真感度は
MIL−STD−271E、AWS構造用溶接コード
（1982）に定められている標準品質レベルおよび
その他の放射線写真に関する工業標準に合致す
る。

希土類増感スクリーンによる50以上の増幅係数
は非破壊試験で使用される通常のＸ線源での実用
的な露光時間を可能にする。この増幅係数を有す
るシステムで達成される驚くべき高解像力は希土
類蛍光体の効力に一部起因する。平均粒子サイズ
5μmのテレビウムドープトガドリニウムオキシス
ルフイドをスクリーン被覆量300ｇ／m²で使用す
ると、非破壊試験の要求に合致する解像力と増幅
のそれ等特徴が達成された。

現状の工業用Ｘ線写真の実際は露光済み放射線
写真の湿式処理を必要とする。水性浴に使用され
る化学薬品は環境毒性であるのでその処理のため
に特殊な手段を必要とする。加えて、湿式の化学
作用は腐蝕性であり、経費高である。工業用Ｘ線
フイルムの湿式処理はパイプライン溶接検査のよ
うな野外検査では特にやつかいである。この点に
おいて、湿式化学現像手段を装備したトレーラー
やその他の大きな運搬具も含めて運搬可能な実験
室は高価な要求である。これ等条件は本発明のシ
ステムによつて解消されるか又は大巾に改善され
る。フオトサーモグラフイツクフイルムの熱処理
は簡単な電気的な熱ロールプロセツサーによつて
遂行される。必要な電気はバツテリーや発電器等
から得られる。これは時間と経費のかなりの節約
をもつて放射線写真の現場現像を可能にする。

例 ３ 真空カセツト、Ｅ−Ｚ−EMのVAC−Ｕ
PACに８×10インチのトリマツクス−６、3M社
製希土類ガドリニウムオキシスルフイド螢光体ス
クリーンを、例１のフオトサーモグラフイツクフ
イルムの８×10インチシートと一緒に装填した。
カセツトは水アスピレーターによつて排気され、
そしてその表面に小麦粒100ｇが一様に分布され
た。このシステムを次の条件でＸ線に露出した： キロボルト＝17kv_p ミリアンペア＝3ma フイルム焦点距離＝24インチ 露光時間＝２分 フオトサーモグラフイツクフイルムをカセツト
から取出し、そして270〓に加熱された可動ロー
ラーと接触させることによつて現像した。全現像
時間は10秒であつた。その放射線写真は像を３倍
に拡大するLUXO拡大器を通して反射光によつ
て観察された。サンプルの虫害粒が容易に計数さ
れ、食い荒らされた小麦粒パーセントが記録され
た。

例 ４ 能動成分と受動成分を含有する印刷回路板を、
例３と同じ希土類蛍光体スクリーンとフオトサー
モグラフイツクフイルムを含有する真空カセツト
の上に置いた。さらに、映像品質指標ASTMタ
イプＢNo.１を回路板の上に置いた。カセツトを排
気後、このシステムをＸ線源に露出した： 70KV_p 60アンペア秒 36インチffd このフオトサーモグラフイツクフイルムを例３
のように現像した。この放射線写真は
PENETREX 高照度工業用Ｘ線ビユーアーの助
けで透過光によつて検査された。

タイプＢ映像品質指標中の６本のタングステン
ワイヤは完全に揃つてこの放射線写真中に見るこ
とができた。このことは印刷回路板の検査におい
て0.0005インチ程の小さな欠陥の検出を確実にす
るものである。

例 ５ 螢光体増幅スクリーン無しで例１のフオトサー
モグラフイツクフイルムを用いて、例４の印刷回
路板の放射線写真を作製する。

フオトサーモグラフイツクフイルムを含有する
カセツト、ビームに対して回路板を介在させて、
次の露光手法を適用した： 70KV_p 3000ミリアンペア秒 36インチffd 例２のように熱現像したところ、回路板の弱い
像が生じたにすぎなかつた。回路板の薄い部分に
相当する放射線写真の部分は反射濃度0.5であつ
た。この濃度は回路板の適切な検査のためには不
足であつた。増感スクリーンの必要性はこの例か
ら明らかである。

例 ６ ８×10インチの可撓性ビニルカセツト（ロンシ
ヤン・インダストリアル社製）にトリマツクス−
６希土類蛍光体スクリーン（3M社製）を例１の
フオトサーモグラフイツクフイルムと共に装填し
た。厚さが0.75〜1.0インチの間で変動するアル
ミニウム鋳物をカセツトに接触させて置いた。Ｘ
線源に向けて鋳物表面上に適切なアルミニウム透
過度計MIL−STD−271を置いた。このＸ線露出
は次の通りであつた： 90KV_p 300ミリアンペア秒 36インチffd このフオトサーモグラフイツクフイルムを例３
のように現像した。

この放射線写真は例４のように透過光によつて
観察された。0.75インチおよび1.0インチどちら
かの透過度計においても２−2Tホールが透過度
計の輪郭通りに明確に目に見えた。従つて、この
放射線写真はASTM−E94に定義されているよう
な２％放射線写真感度を与える。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ ａ） カセツト ｂ） 該カセツトの内面上の、平均直径6μ未満
   の希土類蛍光体粒子を有するＸ線増感スクリー
   ンを少なくとも１枚 ｃ） 該増感スクリーンに隣接した感光性材料 からなる工業用Ｘ線像形成用組立物において、 該感光性材料が、視覚的に均質な白色半透明基
   体上の長鎖脂肪カルボン酸、長鎖脂肪カルボン酸
   の銀塩、ハロゲン化銀、銀用有機還元剤、および
   バインダーからなるフオトサーモグラフイツク乳
   剤の層であり、しかも該長鎖脂肪カルボン酸の銀
   塩が該長鎖脂肪カルボン酸に対して1.5／１〜
   6.2／１のモル比で存在することを特徴とする組
   立物。 ２ 該酸が10〜30個の炭素原子を有する、特許請
   求の範囲第１項の組立物。 ３ 銀塩の酸が10〜30個の炭素原子を有する、特
   許請求の範囲第１項の組立物。 ４ 酸および銀塩の酸が10〜30個の炭素原子を有
   する、特許請求の範囲第１項の組立物。 ５ 該基体が酸化物粒子を添加されたポリエステ
   ルフイルムからなり、そしてその基体の不透明度
   が80〜99％である、特許請求の範囲第１項の組立
   物。 ６ 該基体が酸化物粒子を添加されたポリエステ
   ルフイルムからなり、そしてその基体の不透明度
   が90〜99％である、特許請求の範囲第４項の組立
   物。 ７ 該半透明基体が半透明にするための粒状物質
   および／または気泡を含有している、特許請求の
   範囲第１項の組立物。