JPH047165B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH047165B2 JPH047165B2 JP59055288A JP5528884A JPH047165B2 JP H047165 B2 JPH047165 B2 JP H047165B2 JP 59055288 A JP59055288 A JP 59055288A JP 5528884 A JP5528884 A JP 5528884A JP H047165 B2 JPH047165 B2 JP H047165B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- reflecting member
- normal image
- projection lens
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C15/00—Surveying instruments or accessories not provided for in groups G01C1/00 - G01C13/00
- G01C15/002—Active optical surveying means
- G01C15/004—Reference lines, planes or sectors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Radar, Positioning & Navigation (AREA)
- Remote Sensing (AREA)
- Measurement Of Optical Distance (AREA)
- Optical Radar Systems And Details Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本件発明は、測量対象に向けて出射されるレー
ザー光を水平面内で走査させながら測量を行なう
レーザー測量機械の改良に関するものである。
ザー光を水平面内で走査させながら測量を行なう
レーザー測量機械の改良に関するものである。
従来より、水平面内で走査されるレーザー光を
測量対象に向けて出射し、その測量対象上におけ
るレーザー光の到達位置の高さを測量者の肉眼で
あるいは光電的に検出して水準測量を行なうよう
に構成されたレーザー測量機械が知られている。
この場合、レーザー光は常に真の水平面内で走査
される必要があるから機械本体の設置をするとき
は特に念入りな調整を行なう必要がある。
測量対象に向けて出射し、その測量対象上におけ
るレーザー光の到達位置の高さを測量者の肉眼で
あるいは光電的に検出して水準測量を行なうよう
に構成されたレーザー測量機械が知られている。
この場合、レーザー光は常に真の水平面内で走査
される必要があるから機械本体の設置をするとき
は特に念入りな調整を行なう必要がある。
このため、機械本体が傾斜したような場合でも
レーザー光の出射方向を一定方向に指向させるよ
うにする調整装置を組込んだレーザー測量機械が
提案された。
レーザー光の出射方向を一定方向に指向させるよ
うにする調整装置を組込んだレーザー測量機械が
提案された。
この種のレーザー測量機械の一つとしてレーザ
ー光の出射面を下端にしたレーザー発光管を機械
本体に懸吊することにより、レーザー光の出射方
向を鉛直方向に指向させ下方に設けた回転反射部
材で水平面を走査し得るように構成したものが知
られている。
ー光の出射面を下端にしたレーザー発光管を機械
本体に懸吊することにより、レーザー光の出射方
向を鉛直方向に指向させ下方に設けた回転反射部
材で水平面を走査し得るように構成したものが知
られている。
しかしながら、このような構成によるとレーザ
ー発光管を作動させるための電源供給用電線がレ
ーザー発光管の効果的懸吊に支障を与えることと
なりしかも高精度の調整が期待できなかつた。
ー発光管を作動させるための電源供給用電線がレ
ーザー発光管の効果的懸吊に支障を与えることと
なりしかも高精度の調整が期待できなかつた。
また、他の従来例としてはレーザー光を半導体
レーザーから出射させ、この半導体レーザーの下
方に、出射されたレーザー光を平行光束にするた
めの投影レンズを懸吊し、この投影レンズからの
レーザー光を回転ペンタプリズムにより水平面内
で走査し得るように構成したものが知られてい
る。
レーザーから出射させ、この半導体レーザーの下
方に、出射されたレーザー光を平行光束にするた
めの投影レンズを懸吊し、この投影レンズからの
レーザー光を回転ペンタプリズムにより水平面内
で走査し得るように構成したものが知られてい
る。
しかしながら、このような構成によるとレーザ
ー光の出射方向は下方であるから回転ペンタプリ
ズムにより走査した場合水平に指向されるレーザ
ー光が機械本体の枠体に遮ぎられてしまうため、
特定方向の測量精度の低下あるいは測量不能とな
る恐れがあつた。
ー光の出射方向は下方であるから回転ペンタプリ
ズムにより走査した場合水平に指向されるレーザ
ー光が機械本体の枠体に遮ぎられてしまうため、
特定方向の測量精度の低下あるいは測量不能とな
る恐れがあつた。
本件発明は、このような従来の問題点を解消す
るためになされたものであり、機械本体の状態如
何に拘らず測量対象に向けて出射されるレーザー
光を常時真の水平面内で走査し得るように調整可
能としたレーザー測量機械を提供することを目的
とする。
るためになされたものであり、機械本体の状態如
何に拘らず測量対象に向けて出射されるレーザー
光を常時真の水平面内で走査し得るように調整可
能としたレーザー測量機械を提供することを目的
とする。
以下、この発明を図面に基づいて説明する。
第１図および第２図はこの発明の原理を説明す
るものであり、機械本体１に４本のリボン２で懸
吊された取付台３にポロプリズム４を固定し、こ
のポロプリズム４の下方に光源５を配置する一
方、ポロプリズム４の上方に焦点距離がf0であつ
て光源５からの光を平行光束にするための投影レ
ンズ６を配置するようにしている。ここで、リボ
ン２の長さｌは焦点距離f0の２分の１に設定して
あるものとする。
るものであり、機械本体１に４本のリボン２で懸
吊された取付台３にポロプリズム４を固定し、こ
のポロプリズム４の下方に光源５を配置する一
方、ポロプリズム４の上方に焦点距離がf0であつ
て光源５からの光を平行光束にするための投影レ
ンズ６を配置するようにしている。ここで、リボ
ン２の長さｌは焦点距離f0の２分の１に設定して
あるものとする。
こうすると、機械本体１が鉛直軸Ｅに対して角
度θ0だけ傾斜した場合ポロプリズム４は投影レン
ズ６の光軸Ｌから距離H1、すなわちlθ0＝f0θ0／
２だけ移動する。なお、θ0は微小角であつて、θ0
≒tanθ0が成立するものとする。一方、光源５は
投影レンズ６の光軸Ｌ上にあるためポロプリズム
４に入射した光束は内部で４回反射をした後光軸
Ｌから距離H2、すなわち2lθ0＝f0θ0だけ離れた方
向に指向する。したがつて、投影レンズ６に入射
する光束は機械本体１が傾斜する前に比べてf0θ0
だけ平行移動することとなる。このため、対物レ
ンズ６を通過した光束Ｐは光軸Ｌと平行な軸線
L′に対して角度θ1をなす方向に指向し、この指向
方向は対物レンズ６の焦点位置Ｆ上にある。つま
り、f0θ1＝f0θ0の関係が常時成立し機械本体１が
θ0だけ傾斜した場合でも対物レンズ６を通過する
光束は鉛直軸Ｅと常に平行になる。このような現
象は機械本体１が紙面に垂直な方向に傾斜した場
合でも同様に成立するものである。
度θ0だけ傾斜した場合ポロプリズム４は投影レン
ズ６の光軸Ｌから距離H1、すなわちlθ0＝f0θ0／
２だけ移動する。なお、θ0は微小角であつて、θ0
≒tanθ0が成立するものとする。一方、光源５は
投影レンズ６の光軸Ｌ上にあるためポロプリズム
４に入射した光束は内部で４回反射をした後光軸
Ｌから距離H2、すなわち2lθ0＝f0θ0だけ離れた方
向に指向する。したがつて、投影レンズ６に入射
する光束は機械本体１が傾斜する前に比べてf0θ0
だけ平行移動することとなる。このため、対物レ
ンズ６を通過した光束Ｐは光軸Ｌと平行な軸線
L′に対して角度θ1をなす方向に指向し、この指向
方向は対物レンズ６の焦点位置Ｆ上にある。つま
り、f0θ1＝f0θ0の関係が常時成立し機械本体１が
θ0だけ傾斜した場合でも対物レンズ６を通過する
光束は鉛直軸Ｅと常に平行になる。このような現
象は機械本体１が紙面に垂直な方向に傾斜した場
合でも同様に成立するものである。
なお、ポロプリズム４の具体例は第３図に示す
とおりであり、第１の光源５′から発した光は集
光レンズ７により上部方向に指向され第１ないし
第４の反射面R1，R2，R3，R4にて反射され、上
方へ出射するようになつている。この出射方向Ｓ
は第４の反射面R4の下方に設けられた第２の光
源５″から光の（集光レンズ７′により上部方向へ
指向される）の光軸方向と一致する。つまり、同
一の出射方向Ｓに二つの異なる光束が重畳し得る
ようになる。第１の光源５′を赤外光を出射する
半導体レーザーとし、第２の光源５″を可視光光
源とすると、反射面R3を赤外反射可視光透過の
波長選択特性をもつ反射面に形成すれば光量損失
を生ぜずに赤外光と可視光の２つの光束を投影す
ることができる。
とおりであり、第１の光源５′から発した光は集
光レンズ７により上部方向に指向され第１ないし
第４の反射面R1，R2，R3，R4にて反射され、上
方へ出射するようになつている。この出射方向Ｓ
は第４の反射面R4の下方に設けられた第２の光
源５″から光の（集光レンズ７′により上部方向へ
指向される）の光軸方向と一致する。つまり、同
一の出射方向Ｓに二つの異なる光束が重畳し得る
ようになる。第１の光源５′を赤外光を出射する
半導体レーザーとし、第２の光源５″を可視光光
源とすると、反射面R3を赤外反射可視光透過の
波長選択特性をもつ反射面に形成すれば光量損失
を生ぜずに赤外光と可視光の２つの光束を投影す
ることができる。
第４図は他の正立正像用ポロプリズム４′の例
を示したものであり、光源５Ａからの光束は第１
ないし第４の反射面r1，r2，r3，r4にてそれぞれ
反射されるようになつている。入射光軸と出射光
軸が一致するように構成されている。
を示したものであり、光源５Ａからの光束は第１
ないし第４の反射面r1，r2，r3，r4にてそれぞれ
反射されるようになつている。入射光軸と出射光
軸が一致するように構成されている。
第５図は上述の原理に基づいて構成されたレー
ザー測量機械を示すものである。機械本体１１は
調整可能な基台１２に据え付けられており、この
機械本体１１の底部略中央にはホルダー１３が固
定されていてこのホルダー１３の下部にはレーザ
ー光発光部としての半導体レーザー１４が配置さ
れていると共にその上方には投影レンズ１５が配
置されている。なお、第３図において説明した可
視光光源については図面上省略する。また、投影
レンズ１５の上方には正立正像反射部材を構成す
る正立正像のポロプリズム１６が懸吊台１７に固
定されており、この懸吊台１７は、機械本体１１
を構成する保持フレーム１８の天板にリボン１９
からなる懸吊線材により懸吊されている。リボン
１９は、投影レンズ１５の焦点距離f0の略二分の
一の長さを有していると共に、保持フレーム１８
に対象位置に配置された四本のプラスチツク紐に
より形成されている。
ザー測量機械を示すものである。機械本体１１は
調整可能な基台１２に据え付けられており、この
機械本体１１の底部略中央にはホルダー１３が固
定されていてこのホルダー１３の下部にはレーザ
ー光発光部としての半導体レーザー１４が配置さ
れていると共にその上方には投影レンズ１５が配
置されている。なお、第３図において説明した可
視光光源については図面上省略する。また、投影
レンズ１５の上方には正立正像反射部材を構成す
る正立正像のポロプリズム１６が懸吊台１７に固
定されており、この懸吊台１７は、機械本体１１
を構成する保持フレーム１８の天板にリボン１９
からなる懸吊線材により懸吊されている。リボン
１９は、投影レンズ１５の焦点距離f0の略二分の
一の長さを有していると共に、保持フレーム１８
に対象位置に配置された四本のプラスチツク紐に
より形成されている。
このため、正立正像のポロプリズム１６をリボ
ン１９で懸吊したものであるからその構成を簡素
化することができ、測量機械の小型軽量化を図る
ことができる。
ン１９で懸吊したものであるからその構成を簡素
化することができ、測量機械の小型軽量化を図る
ことができる。
加えて、正立正像のポロプリズム１６は、正立
正像のポロプリズム１６が前後左右にある程度傾
いても反射光の出射方向が変わらないので、その
取付け精度は要求されず、その取付け作業は簡単
なものとなる。
正像のポロプリズム１６が前後左右にある程度傾
いても反射光の出射方向が変わらないので、その
取付け精度は要求されず、その取付け作業は簡単
なものとなる。
さらに、保持フレーム１８の天板の下方にはも
う一つの保持フレーム２０が取り付けられてお
り、この保持フレーム２０には調整用平行平面ガ
ラス２１が取り付けられている。
う一つの保持フレーム２０が取り付けられてお
り、この保持フレーム２０には調整用平行平面ガ
ラス２１が取り付けられている。
保持フレーム１８の天板にはレンズホルダー２
２が取り付けられており、このレンズホルダー２
２には２群のレンズ２３1，２３2からなる投影レ
ンズ２３が固定されている。この２群のレンズ２
３1，２３2は１体で移動調整でき、かつレンズ２
３1，２３2のレンズ間隔を可変調整でき得るよう
に構成されている。
２が取り付けられており、このレンズホルダー２
２には２群のレンズ２３1，２３2からなる投影レ
ンズ２３が固定されている。この２群のレンズ２
３1，２３2は１体で移動調整でき、かつレンズ２
３1，２３2のレンズ間隔を可変調整でき得るよう
に構成されている。
こうして、半導体レーザー１４を出射したレー
ザー光は集光レンズ１５、ポロプリズム１６、平
行平面ガラス２１および投影レンズ２３を通過し
て上方へ出射するようになつている。
ザー光は集光レンズ１５、ポロプリズム１６、平
行平面ガラス２１および投影レンズ２３を通過し
て上方へ出射するようになつている。
このとき、ポロプリズム１６は、レーザー光を
上方へ反射させると共にこの反射光の光軸を常時
鉛直方向に正立正像で指向させる。また、投影レ
ンズ２３は、ポロプリズム１６で上方へ反射され
たレーザー光を、略平行光束にして投影する。
上方へ反射させると共にこの反射光の光軸を常時
鉛直方向に正立正像で指向させる。また、投影レ
ンズ２３は、ポロプリズム１６で上方へ反射され
たレーザー光を、略平行光束にして投影する。
一方、機械本体１の上部には軸受２４が設けら
れており、この軸受２４にはプーリ２５を取り付
けた回転軸２６が装着されるようになつている。
そして、プーリ２５にはモータ２８に軸着された
プーリ２９に巻回されるベルト３０が巻回される
ようになつており、これにより回転軸２６が回転
駆動されることとなる。また、回転軸２６の上端
部には回転反射部材を構成するペンタプリズム３
１を取り付けたプリズムハウス３２が設けられて
おり、ペンタプリズム３１の入射光側には入射窓
３２Ａが配設されていると共に出射光側には調整
用プリズム３３が配設されている。なお、プリズ
ムハウス３２は簡単な取付手段例えば締結ビスな
どにより機械本体１に容易に着脱可能となつてい
る。すなわち、プリズムハウス３２を取り外した
時には鉛直上方にレーザー光を投影する装置とし
て機能する。ペンタプリズム３１により反射され
た出射光は測量対象である測量地点に向けて出射
されるようになつており、回転軸２６の回転によ
り測量対象上を走査することとなる。
れており、この軸受２４にはプーリ２５を取り付
けた回転軸２６が装着されるようになつている。
そして、プーリ２５にはモータ２８に軸着された
プーリ２９に巻回されるベルト３０が巻回される
ようになつており、これにより回転軸２６が回転
駆動されることとなる。また、回転軸２６の上端
部には回転反射部材を構成するペンタプリズム３
１を取り付けたプリズムハウス３２が設けられて
おり、ペンタプリズム３１の入射光側には入射窓
３２Ａが配設されていると共に出射光側には調整
用プリズム３３が配設されている。なお、プリズ
ムハウス３２は簡単な取付手段例えば締結ビスな
どにより機械本体１に容易に着脱可能となつてい
る。すなわち、プリズムハウス３２を取り外した
時には鉛直上方にレーザー光を投影する装置とし
て機能する。ペンタプリズム３１により反射され
た出射光は測量対象である測量地点に向けて出射
されるようになつており、回転軸２６の回転によ
り測量対象上を走査することとなる。
機械本体１の側部には電源としての電池３４を
収納する電池ボツクス３５が設けられており、ス
イツチ３６の投入により電気系統が作動するよう
になつている。
収納する電池ボツクス３５が設けられており、ス
イツチ３６の投入により電気系統が作動するよう
になつている。
前述したように、第５図に示すレーザー測量機
械は第１図および第２図に示す原理に基づいて構
成されているので、機械本体１が傾斜して半導体
レーザー１４からのレーザー光の出射方向にずれ
が生じたとしてもリボン１９の長さが投影レンズ
２３の焦点距離の２分の１の長さに設定されてい
るからポロプリズム１６から出射されるレーザー
光の光軸は鉛直方向に指向される。したがつて、
ペンタプリズム３１から測量対象に向けて出射さ
れる光束は常に水平面内で走査される。
械は第１図および第２図に示す原理に基づいて構
成されているので、機械本体１が傾斜して半導体
レーザー１４からのレーザー光の出射方向にずれ
が生じたとしてもリボン１９の長さが投影レンズ
２３の焦点距離の２分の１の長さに設定されてい
るからポロプリズム１６から出射されるレーザー
光の光軸は鉛直方向に指向される。したがつて、
ペンタプリズム３１から測量対象に向けて出射さ
れる光束は常に水平面内で走査される。
なお、半導体レーザー１４から出射されるレー
ザー光は不可視光である赤外光を用いるのが一般
的であり、測量地点に立設されるスタツフには、
赤外レーザー光を光電的に検出する検出器を上下
動可能に取り付けることにより水平測量を行なう
ようにしている。このため、検出器に入射するレ
ーザー光の位置は測量前の段階では容易に判断し
難い場合が多いことから、その概略位置を検知し
易くするための可視光源を用いている。つまり、
第３図に示す第１の光源５′を半導体レーザーと
し第２の光源５″を可視光出射用ランプとして用
いれば良い。
ザー光は不可視光である赤外光を用いるのが一般
的であり、測量地点に立設されるスタツフには、
赤外レーザー光を光電的に検出する検出器を上下
動可能に取り付けることにより水平測量を行なう
ようにしている。このため、検出器に入射するレ
ーザー光の位置は測量前の段階では容易に判断し
難い場合が多いことから、その概略位置を検知し
易くするための可視光源を用いている。つまり、
第３図に示す第１の光源５′を半導体レーザーと
し第２の光源５″を可視光出射用ランプとして用
いれば良い。
また、２群のレンズで構成されている投影レン
ズ２３は、入射レーザー光を平行光束にするため
２群一体で移動することも可能であると共に、両
レンズ群の間隔を変えることにより焦点距離を調
整することも可能である。さらに、平行平面ガラ
ス２１は傾き自在となつており、入射するレーザ
ー光の出射方向の調整を行ない得るようになつて
いる。正立正像反射部材であるポロプリズム１６
は正立正像プリズムであれば良く、第３図に示す
ような複数の直角プリズムを組合わせたものある
いは第４図に示すようなダハプリズムと台形プリ
ズムとを組合わせたものでも良い。
ズ２３は、入射レーザー光を平行光束にするため
２群一体で移動することも可能であると共に、両
レンズ群の間隔を変えることにより焦点距離を調
整することも可能である。さらに、平行平面ガラ
ス２１は傾き自在となつており、入射するレーザ
ー光の出射方向の調整を行ない得るようになつて
いる。正立正像反射部材であるポロプリズム１６
は正立正像プリズムであれば良く、第３図に示す
ような複数の直角プリズムを組合わせたものある
いは第４図に示すようなダハプリズムと台形プリ
ズムとを組合わせたものでも良い。
以上説明したように、この発明によればレーザ
ー光発光部からのレーザー光を正立正像反射部材
の下方から入射させると共にこの正立正像反射部
材からの出射光を常に鉛直方向に指向させ得るよ
うにし、正立正像反射部材を通過した光束を回転
反射部材により水平方向に光路変換して走査し得
るようにしたので、機械本体の傾斜如何に拘らず
常時水平面内での走査が行なえ、しかも機械本体
の枠体などに遮ぎられることなくいずれの方向に
おいても常時一定の光が得られるので測量精度も
一定かつ高度に保ち得るようになる。
ー光発光部からのレーザー光を正立正像反射部材
の下方から入射させると共にこの正立正像反射部
材からの出射光を常に鉛直方向に指向させ得るよ
うにし、正立正像反射部材を通過した光束を回転
反射部材により水平方向に光路変換して走査し得
るようにしたので、機械本体の傾斜如何に拘らず
常時水平面内での走査が行なえ、しかも機械本体
の枠体などに遮ぎられることなくいずれの方向に
おいても常時一定の光が得られるので測量精度も
一定かつ高度に保ち得るようになる。
更に、正立正像反射部材の取付け精度は要求さ
れず、その取付け作業は簡単なものとなる。しか
も、正立正像反射部材を懸吊線材で懸吊したもの
であるからその構成を簡素化することができ、測
量機械の小型軽量化を図ることができる。
れず、その取付け作業は簡単なものとなる。しか
も、正立正像反射部材を懸吊線材で懸吊したもの
であるからその構成を簡素化することができ、測
量機械の小型軽量化を図ることができる。
第１図および第２図はこの発明の原理を説明す
る光学系の概略構成図であつて第１図は機械本体
が傾斜していない場合、第２図は機械本体が傾斜
した場合をそれぞれ示し、第３図はポロプリズム
を説明する斜視図、第４図は他のポロプリズムを
説明する斜視図、第５図はこの発明に係るレーザ
ー測量機械の一実施例を説明する縦断面図であ
る。 １１……機械本体、１４……半導体レーザー
（レーザー光発光部）、｛１６……ポロプリズム、
１７……懸吊台、１９……リボン｝正立正像反射
部材、２３……投影レンズ、３１……ペンタプリ
ズム（回転反射部材）。
る光学系の概略構成図であつて第１図は機械本体
が傾斜していない場合、第２図は機械本体が傾斜
した場合をそれぞれ示し、第３図はポロプリズム
を説明する斜視図、第４図は他のポロプリズムを
説明する斜視図、第５図はこの発明に係るレーザ
ー測量機械の一実施例を説明する縦断面図であ
る。 １１……機械本体、１４……半導体レーザー
（レーザー光発光部）、｛１６……ポロプリズム、
１７……懸吊台、１９……リボン｝正立正像反射
部材、２３……投影レンズ、３１……ペンタプリ
ズム（回転反射部材）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ レーザー光発光部と、このレーザー光発光部
から出射したレーザー光を上方へ反射させるとと
もにこの反射光の光軸を常時鉛直方向に正立正像
で指向させる正立正像反射部材と、この正立正像
反射部材を懸吊する懸吊線材と、前記正立正像反
射部材で上方へ反射されたレーザー光を略平行光
束にして投影するための投影レンズ系と、この投
影レンズ系から得られる平行光束を略90度光路変
換して水平面内にてその平行光束を測量対象に対
して走査するため回転可能に配設された回転反射
部材とを有するレーザー測量機械。 ２ 前記正立正像反射部材はポロプリズムである
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のレ
ーザー測量機械。 ３ 前記懸吊線材は投影レンズ系の焦点距離の略
２分の１の長さに設定されていることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載のレーザー測量機
械。 ４ 前記正立正像反射部材は４本の懸吊線材によ
つて懸吊されていることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載のレーザー測量機械。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5528884A JPS60200117A (ja) | 1984-03-24 | 1984-03-24 | レ−ザ−測量機械 |
| EP85400559A EP0162734B1 (en) | 1984-03-24 | 1985-03-22 | Laser surveying equipment |
| DE8585400559T DE3584470D1 (de) | 1984-03-24 | 1985-03-22 | Geodaetisches instrument mit laser. |
| DE198585400559T DE162734T1 (de) | 1984-03-24 | 1985-03-22 | Geodaetisches instrument mit laser. |
| US06/715,571 US4781457A (en) | 1984-03-24 | 1985-03-25 | Laser surveying equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5528884A JPS60200117A (ja) | 1984-03-24 | 1984-03-24 | レ−ザ−測量機械 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60200117A JPS60200117A (ja) | 1985-10-09 |
| JPH047165B2 true JPH047165B2 (ja) | 1992-02-10 |
Family
ID=12994393
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5528884A Granted JPS60200117A (ja) | 1984-03-24 | 1984-03-24 | レ−ザ−測量機械 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60200117A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02116708A (ja) * | 1988-10-27 | 1990-05-01 | Asahi Seimitsu Kk | 測量機械の基準ビーム放射装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5181152A (ja) * | 1975-01-14 | 1976-07-15 | Sokkisha | Rezaakojidosuichokuoyobisuiheisenkaiki |
| US4221483A (en) * | 1978-11-20 | 1980-09-09 | Spectra-Physics, Inc. | Laser beam level instrument |
-
1984
- 1984-03-24 JP JP5528884A patent/JPS60200117A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60200117A (ja) | 1985-10-09 |
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