JPH0471897B2 - - Google Patents
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- JPH0471897B2 JPH0471897B2 JP19067588A JP19067588A JPH0471897B2 JP H0471897 B2 JPH0471897 B2 JP H0471897B2 JP 19067588 A JP19067588 A JP 19067588A JP 19067588 A JP19067588 A JP 19067588A JP H0471897 B2 JPH0471897 B2 JP H0471897B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tert
- alcohol
- compound
- reaction
- butoxyphenethyl
- Prior art date
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Description
【発明の詳細な説明】
イ） 発明の目的
産業上の利用分野
本発明は新規なｐ−またはｍ−tert−ブトキシ
フエネチルアルコールおよびその製造法に関す
る。
フエネチルアルコールおよびその製造法に関す
る。
本発明の化合物は医薬、農薬およびポリマーの
中間体として有用である。例えば心臓薬メトプロ
ロールの中間体として有用である。
中間体として有用である。例えば心臓薬メトプロ
ロールの中間体として有用である。
従来技術
従来、アルコキシフエネチルアルコールは数多
く知られている。
く知られている。
例えば、本発明化合物の異性体であるｐ−ｎ−
ブトキシフエネチルアルコールは、ｐ−ｎ−ブト
キシフエニルマグネシウムハライドとエチレンオ
キシドの反応により得られることがケミカルアブ
ストラクト52巻，12803頁（1958年）に記載され
ている。しかしながら、本発明化合物に関しては
文献末記載であり、新規化合物である。
ブトキシフエネチルアルコールは、ｐ−ｎ−ブト
キシフエニルマグネシウムハライドとエチレンオ
キシドの反応により得られることがケミカルアブ
ストラクト52巻，12803頁（1958年）に記載され
ている。しかしながら、本発明化合物に関しては
文献末記載であり、新規化合物である。
発明が解決しようとする問題点
ノルマルブトキシフエネチルアルコールなどの
ｎ−脂肪族アルコキシフエネチルアルコールから
脱アルキル基反応によりヒドロキシフエネチルア
ルコールを得るには、臭化水素酸、ヨウ化水素酸
あるいはトリフルオロ酢酸などを用いて強い条件
の処理を必要とし、収率や純度の低下をともな
う。特にｎ−ブトキシフエネチルアルコールの脱
ｎ−ブチル基反応は後記参考試験例に示すとおり
極めて困難を伴う。また、ベンジルオキシフエネ
チルアルコールのようにベンジル基による保護
は、一般的な方法として広く用いられているが、
脱ベンジル基反応は通常、水素還元による脱離反
応であるため、他の官能基に影響を与えたり、危
険を伴うなど操作上の問題点も多い。さらに、ト
リメチルシリルオキシフエネチルアルコール、ジ
メチル−tert−ブチルシリルオキシフエネチルア
ルコールのように保護基としてトリメチルシリル
基またはジメチル−tert−ブチルシリル基で保護
してなる化合物は、保護基がグリニヤール試薬と
反応したりまたは高価であつたりするなど不都合
な点を有する。
ｎ−脂肪族アルコキシフエネチルアルコールから
脱アルキル基反応によりヒドロキシフエネチルア
ルコールを得るには、臭化水素酸、ヨウ化水素酸
あるいはトリフルオロ酢酸などを用いて強い条件
の処理を必要とし、収率や純度の低下をともな
う。特にｎ−ブトキシフエネチルアルコールの脱
ｎ−ブチル基反応は後記参考試験例に示すとおり
極めて困難を伴う。また、ベンジルオキシフエネ
チルアルコールのようにベンジル基による保護
は、一般的な方法として広く用いられているが、
脱ベンジル基反応は通常、水素還元による脱離反
応であるため、他の官能基に影響を与えたり、危
険を伴うなど操作上の問題点も多い。さらに、ト
リメチルシリルオキシフエネチルアルコール、ジ
メチル−tert−ブチルシリルオキシフエネチルア
ルコールのように保護基としてトリメチルシリル
基またはジメチル−tert−ブチルシリル基で保護
してなる化合物は、保護基がグリニヤール試薬と
反応したりまたは高価であつたりするなど不都合
な点を有する。
ロ） 発明の構成
問題点を解決するための手段
本発明者らは、上記従来技術の問題点を解決す
るために研究を重ねてきた結果、tert−ブチル基
がｐ−またはｍ−ヒドロキシフエネチルアルコー
ル合成および該誘導体合成時のヒドロキシル基の
保護基として極めて優れていることを見出した。
るために研究を重ねてきた結果、tert−ブチル基
がｐ−またはｍ−ヒドロキシフエネチルアルコー
ル合成および該誘導体合成時のヒドロキシル基の
保護基として極めて優れていることを見出した。
本発明は上記の知見に基づいて完成されたもの
であり、下記の構成を有する。
であり、下記の構成を有する。
(1) 式
で表わされるｐ−またはｍ−tert−ブトキシフ
エチネルアルコール。
エチネルアルコール。
(2) ｐ−またはｍ−tert−ブトキシフエニルハラ
イドを金属マグネシウムと反応させ、ｐ−また
はｍ−tert−ブトキシフエニルマグネシウムハ
ライドとし、これにエチレンオキシドを作用さ
せることを特徴とするｐ−またはｍ−tert−ブ
トキシフエネチルアルコールの製造法。
イドを金属マグネシウムと反応させ、ｐ−また
はｍ−tert−ブトキシフエニルマグネシウムハ
ライドとし、これにエチレンオキシドを作用さ
せることを特徴とするｐ−またはｍ−tert−ブ
トキシフエネチルアルコールの製造法。
(3) ｐ−またはｍ−tert−ブトキシフエニルハラ
イドがｐ−またはｍ−tert−ブトキシクロロベ
ンゼンである２記載の製造法。
イドがｐ−またはｍ−tert−ブトキシクロロベ
ンゼンである２記載の製造法。
本発明におけるｐ−またはｍ−tert−ブトキシ
フエネチルアルコールの製造法を反応式で示せば
次のとおりである。
フエネチルアルコールの製造法を反応式で示せば
次のとおりである。
〔式中、Ｘはハロゲン原子を示し、ヒドロキシ
基またはtert−ブトキシ基の結合位置はパラまた
はメタ−位である。〕 本発明のｐ−またはｍ−tert−ブトキシフエネ
チルアルコール（）は、ｐ−またはｍ−ハロゲ
ノフエノール（）のヒドロキシル基をtert−ブ
チル基で保護したｐ−またはｍ−tert−ブトキシ
フエニルハライド（）を金属マグネシウムと反
応させ、グリニヤール試薬であるｐ−またはｍ−
tert−ブトキシフエニルマグネシウムハライド
（）とし、これにエチレンオキシドを作用させ
ることにより合成できる。以下、本発明化合物の
製造法をさらに詳細に説明する。
基またはtert−ブトキシ基の結合位置はパラまた
はメタ−位である。〕 本発明のｐ−またはｍ−tert−ブトキシフエネ
チルアルコール（）は、ｐ−またはｍ−ハロゲ
ノフエノール（）のヒドロキシル基をtert−ブ
チル基で保護したｐ−またはｍ−tert−ブトキシ
フエニルハライド（）を金属マグネシウムと反
応させ、グリニヤール試薬であるｐ−またはｍ−
tert−ブトキシフエニルマグネシウムハライド
（）とし、これにエチレンオキシドを作用させ
ることにより合成できる。以下、本発明化合物の
製造法をさらに詳細に説明する。
(a) ｐ−またはｍ−tert−ブトキシフエニルハラ
イドの合成〔一般式（）の化合物〕 一般式（）の化合物は、非プロトン系の溶
媒、具体的にはジクロロメタン、ジクロロエタン
などのハロゲン化炭化水素系の溶媒系あるいはベ
ンゼン、トルエン等の芳香族系の溶媒系において
硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン
酸、三弗化ホウ素、強酸性イオン交換樹脂などの
触媒の存在下に一般式（）の化合物にイソブチ
レンを作用させることによつて得られる。
イドの合成〔一般式（）の化合物〕 一般式（）の化合物は、非プロトン系の溶
媒、具体的にはジクロロメタン、ジクロロエタン
などのハロゲン化炭化水素系の溶媒系あるいはベ
ンゼン、トルエン等の芳香族系の溶媒系において
硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン
酸、三弗化ホウ素、強酸性イオン交換樹脂などの
触媒の存在下に一般式（）の化合物にイソブチ
レンを作用させることによつて得られる。
(b) ｐ−またはｍ−tert−ブトキシフエニルマグ
ネシウムハライドの合成〔一般式（）の化合
物〕 グリニヤール試薬である一般式（）化合物
は、活性化した金属マグネシウムを無水テトラヒ
ドロフラン中でかきまぜつつ一般式（）の化合
物を40℃ないし溶媒の還流温度で滴下し、さらに
１〜８時間の攪拌を続けることによつて得られ
る。
ネシウムハライドの合成〔一般式（）の化合
物〕 グリニヤール試薬である一般式（）化合物
は、活性化した金属マグネシウムを無水テトラヒ
ドロフラン中でかきまぜつつ一般式（）の化合
物を40℃ないし溶媒の還流温度で滴下し、さらに
１〜８時間の攪拌を続けることによつて得られ
る。
反応に使用する金属マグネシウムは市販のテー
プ状あるいは削り状のものを一般式（）の化合
物に対して１〜２倍モル程度を使用するが反応開
始に先だつて、金属マグネシウムの活性化を目的
に窒素雰囲気あるいは減圧条件でかきまぜたり、
微量のヨウ素あるいはヨウ化メチル、臭化メチ
ル、ジブロモエタン等で反応処理することは、グ
リニヤール反応を円滑に進める上で有効である。
一般式（）の化合物の合成時の溶媒はテトラヒ
ドロフランやジエチルエーテル単独あるいはベン
ゼンやトルエンなどの混合系であつても同様の結
果を得ることができる。
プ状あるいは削り状のものを一般式（）の化合
物に対して１〜２倍モル程度を使用するが反応開
始に先だつて、金属マグネシウムの活性化を目的
に窒素雰囲気あるいは減圧条件でかきまぜたり、
微量のヨウ素あるいはヨウ化メチル、臭化メチ
ル、ジブロモエタン等で反応処理することは、グ
リニヤール反応を円滑に進める上で有効である。
一般式（）の化合物の合成時の溶媒はテトラヒ
ドロフランやジエチルエーテル単独あるいはベン
ゼンやトルエンなどの混合系であつても同様の結
果を得ることができる。
なお、一般式（）において、Ｘが塩素である
ｐ−またはｍ−tert−ブトキシフエニルマグネシ
ウムクロリドは新規化合物である。
ｐ−またはｍ−tert−ブトキシフエニルマグネシ
ウムクロリドは新規化合物である。
(c) ｐ−またはｍ−tert−ブトキシフエネチルア
ルコールの合成〔式（）の化合物〕 式（）化合物はグリニヤール試薬（）にエ
チレンオキシドを作用させて得られる。エチレン
オキシドの使用量はグリニヤール試薬（）に対
して１〜２倍モル量を０〜50℃、好ましくは20〜
30℃でガス状で吹込むかあるいは溶媒で希釈して
滴下し、さらに１〜５時間攪拌を続ける。
ルコールの合成〔式（）の化合物〕 式（）化合物はグリニヤール試薬（）にエ
チレンオキシドを作用させて得られる。エチレン
オキシドの使用量はグリニヤール試薬（）に対
して１〜２倍モル量を０〜50℃、好ましくは20〜
30℃でガス状で吹込むかあるいは溶媒で希釈して
滴下し、さらに１〜５時間攪拌を続ける。
反応後は塩化アンモニウム水溶液あるいは希薄
な鉱酸水溶液で注水処理して有機層を分離後、水
洗し芒硝で脱水して溶媒を留去後、減圧蒸留によ
り目的とする式（）化合物を得る。
な鉱酸水溶液で注水処理して有機層を分離後、水
洗し芒硝で脱水して溶媒を留去後、減圧蒸留によ
り目的とする式（）化合物を得る。
次に実施例および参考例を示して本発明をさら
に具体的に説明する。
に具体的に説明する。
実施例 １
攪拌機および還流コンデンサーを取り付け、窒
素置換し、乾燥した１の４径フラスコに、削り
状金属マグネシウム29.2ｇ（1.2モル）を入れ、
これに無水テトラヒドロフラン50mlおよび臭化エ
チル２mlを加えた。金属マグネシウム表面で発泡
と反応の開始を確認した後、ｐ−tert−ブトキシ
クロロベンゼン184.6ｇ（1.0モル）を無水テトラ
ヒドロフラン500mlに溶解した溶液を還流温度で
約２時間を要して滴下し、さらに５時間攪拌を続
け、ｐ−tert−ブトキシフエニルマグネシウムク
ロリドを得た。
素置換し、乾燥した１の４径フラスコに、削り
状金属マグネシウム29.2ｇ（1.2モル）を入れ、
これに無水テトラヒドロフラン50mlおよび臭化エ
チル２mlを加えた。金属マグネシウム表面で発泡
と反応の開始を確認した後、ｐ−tert−ブトキシ
クロロベンゼン184.6ｇ（1.0モル）を無水テトラ
ヒドロフラン500mlに溶解した溶液を還流温度で
約２時間を要して滴下し、さらに５時間攪拌を続
け、ｐ−tert−ブトキシフエニルマグネシウムク
ロリドを得た。
一部のサンプルを分取し注水分解後、ガスクロ
マトグラフイーにより分析するとグリニヤール試
薬の転換率は99.8％であつた。
マトグラフイーにより分析するとグリニヤール試
薬の転換率は99.8％であつた。
続いてエチレンオキシド48.4ｇ（1.1モル）を
20〜30℃で１時間を要して吹込み、さらに同温度
で２時間攪拌を続けた。
20〜30℃で１時間を要して吹込み、さらに同温度
で２時間攪拌を続けた。
次いで飽和塩化アンモニウム水溶液500ml中に
反応液を注ぎ込んで処理し、さらにトルエン500
mlを加えて有機層を分液し、水洗後無水芒硫で脱
水して溶媒を留去し、減圧条件で蒸留して沸点
117〜121℃／３mmHgの留分としてｐ−tert−ブ
トキシフエネチルアルコール175.4ｇ（収率90.3
％）を得た。ガスクロマトグラフイーによる分析
純度は99.8％であつた。
反応液を注ぎ込んで処理し、さらにトルエン500
mlを加えて有機層を分液し、水洗後無水芒硫で脱
水して溶媒を留去し、減圧条件で蒸留して沸点
117〜121℃／３mmHgの留分としてｐ−tert−ブ
トキシフエネチルアルコール175.4ｇ（収率90.3
％）を得た。ガスクロマトグラフイーによる分析
純度は99.8％であつた。
分析値および物性値は以下の通りであつた。
(1) 元素分析値
Ｃ Ｈ
計算値 74.2％ 9.3％
実測値 74.3％ 9.3％
(2) NMRスペクトル
δ1.30（9H，ｓ，Ha） δ2.74（2H，ｔ，Hd）
δ3.10（1H，ｓ，Hf） δ3.68（2H，ｔ，He）
δ6.68（2H，ｄ，Hb） δ7.18（2H，ｄ，Hc）
(3) 赤外吸収スペクトル
3350cm-1 Ｏ−Ｈ伸縮
1100cm-1
実施例 ２
攪拌機および還流コンデンサーを取り付け、窒
素置換し、乾燥した１の４径フラスコに削り状
金属マグネシウム24.3ｇ（1.0モル）を入れ、こ
れに無水ジエチルエーテル10mlおよび臭化エチル
２mlを加えた。金属マグネシウム表面での発泡と
反応の開始を確認した後、ｐ−tert−ブトキシブ
ロムベンゼン114.6ｇ（0.5モル）を無水ジエチル
エーテル400mlに溶解した溶液を還流温度で約１
時間を要して滴下し、さらに５時間攪拌を続け、
ｐ−tert−ブトキシフエニルマグネシウムブロミ
ドを得た。一部のサンプルを分取し、注水分解
後、ガスクロマトグラフイーにより分析すると、
グリニヤール試薬の転換率は99.9％であつた。
素置換し、乾燥した１の４径フラスコに削り状
金属マグネシウム24.3ｇ（1.0モル）を入れ、こ
れに無水ジエチルエーテル10mlおよび臭化エチル
２mlを加えた。金属マグネシウム表面での発泡と
反応の開始を確認した後、ｐ−tert−ブトキシブ
ロムベンゼン114.6ｇ（0.5モル）を無水ジエチル
エーテル400mlに溶解した溶液を還流温度で約１
時間を要して滴下し、さらに５時間攪拌を続け、
ｐ−tert−ブトキシフエニルマグネシウムブロミ
ドを得た。一部のサンプルを分取し、注水分解
後、ガスクロマトグラフイーにより分析すると、
グリニヤール試薬の転換率は99.9％であつた。
続いてエチレンオキシド24.2ｇ（0.55モル）を
20〜30℃で１時間を要して吹込み、さらに同温度
で２時間攪拌を続けてｐ−tert−ブトキシフエネ
チルアルコールを合成した。次いで飽和塩化アン
モニウム水溶液250ml中に反応液を注ぎ込んで処
理し、さらにトルエン250mlを加えて有機層を分
液し、水洗後無水芒硝で脱水して溶媒を留去し、
減圧条件で蒸留して沸点117〜121℃／３mmHgの
留分としてｐ−tert−ブトキシフエネチルアルコ
ール82.9ｇ（収率85.3％）を得た。ガスクロマト
グラフイーによる分析純度は99.5％であつた。
20〜30℃で１時間を要して吹込み、さらに同温度
で２時間攪拌を続けてｐ−tert−ブトキシフエネ
チルアルコールを合成した。次いで飽和塩化アン
モニウム水溶液250ml中に反応液を注ぎ込んで処
理し、さらにトルエン250mlを加えて有機層を分
液し、水洗後無水芒硝で脱水して溶媒を留去し、
減圧条件で蒸留して沸点117〜121℃／３mmHgの
留分としてｐ−tert−ブトキシフエネチルアルコ
ール82.9ｇ（収率85.3％）を得た。ガスクロマト
グラフイーによる分析純度は99.5％であつた。
実施例 ３
攪拌機および還流コンデンサーを取り付け、窒
素置換し、乾燥した１の４径フラスコに、削り
状金属マグネシウム29.2ｇ（1.2モル）を入れ、
これに無水テトラヒドロフラン50mlおよび臭化エ
チル２mlを加えた。金属マグネシウム表面で発泡
と反応の開始を確認した後、ｍ−tert−ブトキシ
クロロベンゼン184.6ｇ（1.0モル）を無水テトラ
ヒドロフラン500mlに溶解した溶液を還流温度で
約２時間を要して滴下し、さらに５時間攪拌を続
けてｍ−tert−ブトキシフエニルマグネシウムク
ロリドを得た。
素置換し、乾燥した１の４径フラスコに、削り
状金属マグネシウム29.2ｇ（1.2モル）を入れ、
これに無水テトラヒドロフラン50mlおよび臭化エ
チル２mlを加えた。金属マグネシウム表面で発泡
と反応の開始を確認した後、ｍ−tert−ブトキシ
クロロベンゼン184.6ｇ（1.0モル）を無水テトラ
ヒドロフラン500mlに溶解した溶液を還流温度で
約２時間を要して滴下し、さらに５時間攪拌を続
けてｍ−tert−ブトキシフエニルマグネシウムク
ロリドを得た。
一部のサンプルを分取して加水分解後、ガスク
ロマトグラフイーにより分析するとグリニヤール
試薬の転換率は99.9％であつた。続いてエチレン
オキシド48.4ｇ（1.1モル）を20〜30℃で１時間
を要して吹込み、さらに同温度で２時間攪拌を続
けた。
ロマトグラフイーにより分析するとグリニヤール
試薬の転換率は99.9％であつた。続いてエチレン
オキシド48.4ｇ（1.1モル）を20〜30℃で１時間
を要して吹込み、さらに同温度で２時間攪拌を続
けた。
次いで飽和塩化アンモニウム水溶液500ml中に
反応液を注ぎ込んで加水分解し、さらにトルエン
500mlを加えて有機層を分液し、水洗後無水芒硝
で脱水して溶媒を留去し、減圧条件で精留して沸
点129〜130℃／４mmHgとしてｍ−tert−ブトキ
シフエネチルアルコール176.2ｇ（収率90.7％）
を得た。
反応液を注ぎ込んで加水分解し、さらにトルエン
500mlを加えて有機層を分液し、水洗後無水芒硝
で脱水して溶媒を留去し、減圧条件で精留して沸
点129〜130℃／４mmHgとしてｍ−tert−ブトキ
シフエネチルアルコール176.2ｇ（収率90.7％）
を得た。
ガスクロマトグラフイーによる分析純度は99.9
％であつた。
％であつた。
分析値および物性値は以下の通りであつた。
(1) 元素分析値
Ｃ Ｈ
計算値 74.2％ 9.3％
実測値 74.2％ 9.2％
(2) NMRスペクトル
δ1.30（9H，ｓ，Ha） δ2.75（2H，ｔ，Hf）
δ3.40（1H，bs，Hh） δ3.65（2H，ｔ，Hg）
δ6.60−7.20（4H，ｍ，Hb−He）
(3) 赤外吸収スペクトル
3350cm-1 Ｏ−Ｈ伸縮
1140cm-1
〔脱ブトキシ化試験〕
参考例 １
攪拌機の付いた300ml容量のフラスコにｐ−
tert−ブトキシフエネチルアルコール97.1ｇ（0.5
モル）を入れ、25〜30℃で濃塩酸150ｇを滴下し
て２時間攪拌を続けた。
tert−ブトキシフエネチルアルコール97.1ｇ（0.5
モル）を入れ、25〜30℃で濃塩酸150ｇを滴下し
て２時間攪拌を続けた。
反応後、炭酸ソーダ水溶液で中和して300mlの
ジクロロメタンで抽出後、溶媒留出してｐ−ヒド
ロキシフエネチルアルコールの粗結晶を得た。次
いで真空蒸留によつて、沸点140℃／３mmHgの留
分63.4ｇ（ガスクロマトグラフイー純度99.9％、
収率91.9％）を得た。目的物の融点は91〜２℃で
赤外吸収スペクトルは標品のｐ−ヒドロキシフエ
ネチルアルコールと完全に一致した。
ジクロロメタンで抽出後、溶媒留出してｐ−ヒド
ロキシフエネチルアルコールの粗結晶を得た。次
いで真空蒸留によつて、沸点140℃／３mmHgの留
分63.4ｇ（ガスクロマトグラフイー純度99.9％、
収率91.9％）を得た。目的物の融点は91〜２℃で
赤外吸収スペクトルは標品のｐ−ヒドロキシフエ
ネチルアルコールと完全に一致した。
一方、ｐ−ｎ−ブトキシフエネチルアルコール
19.4ｇ（0.1モル）および濃塩酸30ｇ（0.3モル）
を100mlフラスコに入れ、25〜30℃で２時間攪拌
を続けたが、、全く変化は認められなかつた。
19.4ｇ（0.1モル）および濃塩酸30ｇ（0.3モル）
を100mlフラスコに入れ、25〜30℃で２時間攪拌
を続けたが、、全く変化は認められなかつた。
さらに還流温度で５時間攪拌を続けても変化は
なかつた。同様に濃臭化水素酸30ｇを加えて還流
温度で５時間攪拌を続けたところ原料は消失して
いたが、目的のｐ−ヒドロキシフエネチルアルコ
ールは得られず、副生成物としてアルコール部分
が臭素化されたｐ−ｎ−ブトキシフエネチルプロ
マイドと一部にｐ−ヒドロキシフエネチルブロマ
イドがそれぞれ生成された。
なかつた。同様に濃臭化水素酸30ｇを加えて還流
温度で５時間攪拌を続けたところ原料は消失して
いたが、目的のｐ−ヒドロキシフエネチルアルコ
ールは得られず、副生成物としてアルコール部分
が臭素化されたｐ−ｎ−ブトキシフエネチルプロ
マイドと一部にｐ−ヒドロキシフエネチルブロマ
イドがそれぞれ生成された。
参考例 ２
攪拌機の付いた300mlフラスコにｍ−tert−ブ
トキシフエネチルアルコール97.1ｇ（0.5モル）
を入れ、25〜30℃で濃塩酸200ｇを滴下して２時
間攪拌を続けた。
トキシフエネチルアルコール97.1ｇ（0.5モル）
を入れ、25〜30℃で濃塩酸200ｇを滴下して２時
間攪拌を続けた。
反応後、炭酸ソーダ水溶液で中和して300mlの
ジクロロメタンで抽出後、溶媒を留去して、減圧
蒸留で沸点169℃／５mmHgの留分64.5ｇ（ガスク
ロマトグラフイー純度99.9％、収率93.3％）のｍ
−ヒドロキシフエネチルアルコールを得た。
ジクロロメタンで抽出後、溶媒を留去して、減圧
蒸留で沸点169℃／５mmHgの留分64.5ｇ（ガスク
ロマトグラフイー純度99.9％、収率93.3％）のｍ
−ヒドロキシフエネチルアルコールを得た。
一方、参考例に記載のｐ−ｎ−ブトキシフエネ
チルアルコールと同様な脱ブトキシ操作に従い、
ｍ−ｎ−ブトキシフエネチルアルコールの脱ブト
キシ化を行つた結果、目的のｍ−ヒドロキシフエ
ネチルアルコールは得られず、副生成物としてア
ルコール部分が臭素化されたｍ−ｎ−ブトキシフ
エネチルブロマイドと一部にｍ−ヒドロキシフエ
ネチルブロマイドがそれぞれ生成した。
チルアルコールと同様な脱ブトキシ操作に従い、
ｍ−ｎ−ブトキシフエネチルアルコールの脱ブト
キシ化を行つた結果、目的のｍ−ヒドロキシフエ
ネチルアルコールは得られず、副生成物としてア
ルコール部分が臭素化されたｍ−ｎ−ブトキシフ
エネチルブロマイドと一部にｍ−ヒドロキシフエ
ネチルブロマイドがそれぞれ生成した。
ハ） 発明の効果
本発明化合物における水酸基の保護基としての
tert−ブチル基は穏やかな酸性条件下の処理によ
り容易に脱離するが、グリニヤール試薬や有機リ
チウム化合物などの金属試薬あるいは無機アルカ
リに対しては不活性である。従つて上記の試薬を
使用して本発明化合物を種々のエーテル化合物や
エステル化合物に導いた後に、穏やかな酸性条件
下で処理し、エーテルやエステル結合を損うこと
なく、保護基であるtert−ブチル基のみを選択的
に脱離することができる。また本発明化合物を脱
水反応に付してｐ−またはｍ−tert−ブトキシス
チレンモノマーとし、重合させた後、弱酸で処理
してブチル基を脱離することができる。
tert−ブチル基は穏やかな酸性条件下の処理によ
り容易に脱離するが、グリニヤール試薬や有機リ
チウム化合物などの金属試薬あるいは無機アルカ
リに対しては不活性である。従つて上記の試薬を
使用して本発明化合物を種々のエーテル化合物や
エステル化合物に導いた後に、穏やかな酸性条件
下で処理し、エーテルやエステル結合を損うこと
なく、保護基であるtert−ブチル基のみを選択的
に脱離することができる。また本発明化合物を脱
水反応に付してｐ−またはｍ−tert−ブトキシス
チレンモノマーとし、重合させた後、弱酸で処理
してブチル基を脱離することができる。
従つて本発明の化合物は医薬、農薬およびポリ
マー等の合成中間体として有用である。
マー等の合成中間体として有用である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式 で表わされるｐ−またはｍ−tert−ブトキシフエ
ネチルアルコール。 ２ ｐ−またはｍ−tert−ブトキシフエニルハラ
イドを金属マグネシウムと反応させ、ｐ−または
ｍ−tert−ブトキシフエニルマグネシウムハライ
ドとし、これにエチレンオキシドを作用させるこ
とを特徴とするｐ−またはｍ−tert−ブトキシフ
エネチルアルコールの製造法。 ３ ｐ−またはｍ−tert−ブトキシフエニルハラ
イドがｐ−またはｍ−tert−ブトキシクロロベン
ゼンである請求項２記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19067588A JPH01156939A (ja) | 1987-09-11 | 1988-08-01 | ｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェネチルアルコールおよびその製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62-226570 | 1987-09-11 | ||
| JP22657087 | 1987-09-11 | ||
| JP19067588A JPH01156939A (ja) | 1987-09-11 | 1988-08-01 | ｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェネチルアルコールおよびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01156939A JPH01156939A (ja) | 1989-06-20 |
| JPH0471897B2 true JPH0471897B2 (ja) | 1992-11-16 |
Family
ID=26506246
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19067588A Granted JPH01156939A (ja) | 1987-09-11 | 1988-08-01 | ｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェネチルアルコールおよびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01156939A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003055285A (ja) * | 2001-08-09 | 2003-02-26 | Hokko Chem Ind Co Ltd | ４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−４’−ハロゲノビフェニルおよびその製法、並びに４−ハロゲノ−４’−ヒドロキシビフェニルの製法 |
-
1988
- 1988-08-01 JP JP19067588A patent/JPH01156939A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01156939A (ja) | 1989-06-20 |
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