JPH0472286B2 - - Google Patents
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- JPH0472286B2 JPH0472286B2 JP1870990A JP1870990A JPH0472286B2 JP H0472286 B2 JPH0472286 B2 JP H0472286B2 JP 1870990 A JP1870990 A JP 1870990A JP 1870990 A JP1870990 A JP 1870990A JP H0472286 B2 JPH0472286 B2 JP H0472286B2
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 56
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 31
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 49
- 239000010408 film Substances 0.000 description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 13
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 7
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 6
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 5
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229910020630 Co Ni Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002440 Co–Ni Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 229910020632 Co Mn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020637 Co-Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020678 Co—Mn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020707 Co—Pt Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020710 Co—Sm Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020516 Co—V Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020514 Co—Y Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- FPVKHBSQESCIEP-JQCXWYLXSA-N pentostatin Chemical compound C1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1N1C(N=CNC[C@H]2O)=C2N=C1 FPVKHBSQESCIEP-JQCXWYLXSA-N 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
(技術分野)
本発明はFeを使用した金属薄膜型の磁気記録
媒体の改良に関する。 (従来技術) 非磁性基体上に、真空蒸着、スパツタリング、
イオンプレーテイング等の手段により強磁性金属
の薄膜を形成した、いわゆる金属薄膜型の磁気記
録媒体は、通常の、バインダーを使用する型の磁
気記録媒体にくらべて記録密度を高くとることが
できる他、種々の利点を有しているため、実用化
への努力が払われている。 このような金属薄膜型の磁気記録媒体を作成す
るのに使用される金属としてはFe、Co、Ni、Cr
等の強磁性金属や、これら強磁性金属を主体とす
る合金が使用されることが多いが、その中でも
Coの単独あるいはCoを主体とする合金は磁気記
録媒体として高性能であるのでしばしば使用され
る。 一方、上記の強磁性金属のうちでもFeは、Co
やCoの合金にくらべて材料費が安く、磁気記録
媒体としたときにS/N比がすぐれており、しか
も歪率が低い等の種々の利点がある反面、抗磁力
(Hc)の膜厚依存性が大きく、かつ、角型比が小
さく、しかも、耐腐食性が充分でない欠点を有し
ている。 (発明の目的) 従つて、本発明の目的は、安価である強磁性金
属Feの抗磁力の膜厚依存性の点を考慮し、所望
の磁気的出力を確保するとともに、角型比、抗磁
力の劣化を少なくするためにFe薄膜層を2層以
上にすること、及びFeが上記の必要な膜厚を得
たとき、Feの角型比、抗磁力等の特性低下を補
うため強磁性体金属であるCoの単独あるいはCo
を主体とする合金を中間層として設けることによ
り、Fe自体の有する上記特性低下を解消し、Fe
の利点を最大限に引き出した磁気記録媒体を提供
することにある。 (発明の構成) 本発明の磁気記録媒体は、非磁性基体上に2以
上のFe薄膜層と、各Fe薄膜層間に挿入されたCo
の単独あるいはCoを主体とする合金の薄膜層と
が積層さていることを特徴とするものである。 以下、図面を用いながら本発明を詳細に説明す
ると、第1図に示すように本発明の磁気記録媒体
1は例えば非磁性基体2上に第1のFe薄膜層3、
Coの単独あるいはCoを主体とする合金薄膜層4、
および第2のFe薄膜層5の各層が順次積層され
ている。この第1図の例では2つのFe薄膜層と、
2つの薄膜層の間に挿入されたCoの単独あるい
はCoを主体とする合金薄膜層とからなつている
が、Fe薄膜層を3層以上形成し、各Fe薄膜層間
にCoの単独あるいはCoを主体とする合金薄膜層
を挿入してもよい。 上記における非磁性基体2としては耐熱性を有
する合金樹脂フイルム、例えばポリエチレンテレ
フタレートフイルム、ポリイミドフイルムもしく
はポリカーボネートフイルム等の、金属箔、例え
ばアルミニウム箔、非磁性ニツケル箔、銅箔もし
くはステンレス箔等、或いはガラスやセラミツク
を用いることができる。これらのうち、磁気記録
媒体をテープ状に製造する際には耐熱性、抗張
力、及び寸法安定性の点で厚み4μ〜25μのポリエ
チレンテレフタレートフイルムを用いるとよい。 第1図のFe薄膜層と第2のFe薄膜層とは原則
的には同様の条件のものである。また、第1の
Fe薄膜層と第2のFe薄膜層を設ける理由として
は、Fe薄膜の場合、所望の磁気的出力を得るに
はある一定の膜厚(少なくとも500Å以上、望ま
しくは2000Å以上)が必要であり、Fe薄膜層を
一度に形成すると、所望の磁気的出力を出す膜厚
は確保されるが、角型比、抗磁力等の特性で良い
結果は得られないからである。その第1及び第2
のFe薄膜層は、Feを蒸着源とする蒸着等の手段
により設けることができ、所望の磁気的出力を得
るための膜厚を確保しながら、角型比、抗磁力等
の特性を満足させる手段を用いる。すなわち、一
度に所望の膜厚を形成せずに、上記角型比、抗磁
力等の特性の劣化しない範囲の膜厚を2回に分け
て形成する方法を用いる。また蒸着を行う際、被
蒸着基材の法線と金属蒸着流とのなす角度を0°よ
りも大きくとつて、いわゆる斜方蒸着とするのが
よい。本発明者等の研究によれば、前記の角度が
45°〜80°の間で形成されたFe薄膜は膜厚が200Å
〜2000Åであるとき、より好ましくは300Å〜
1000Åであるときにその磁気特性がすぐれている
ことが判明した。ここで200Å未満では薄膜の形
成が未熟で充分な磁束が得られず、その上、抗磁
力の向上を左右する因子の1つである形状異方性
効果の働きが小さいので抗磁力が小さいし、又、
2000Åを越えるとFe薄膜の傾斜柱が成長しすぎ、
隣接する傾斜柱の頂上どうしが癒着してしまい、
いずれにせよ、上記の範囲外では角型比・抗磁力
共低下するものである。 上記第1のFe薄膜層と第2のFe薄膜層の間の
中間層であるCoの単独あるいはCoを主体とする
合金薄膜層は、Fe薄膜層を分離する中間層とな
る。また、この時併せて強磁性体金属であるCo
の単独あるいはCoを主体とする合金のもつ良い
磁気特性(抗磁力及び角型比が大きい等)が作用
し、記録層全体の磁気特性が向上するため、第1
のFe薄膜層と第2のFe薄膜層の間にこのCoの単
独あるいはCoを主体とする合金中間層を設ける。
さらに、上記のCoの単独あるいはCoを主体とす
る合金薄膜層はCoの単独の他、Co−Ni、Co−
Cr、Co−Cu、Co−Au、Co−Y、Co−La、Co
−Pr、Co−Gd、Co−Sm、Co−Pt、Co−Dy、
Co−Mn、Co−V等のCoを一つの成分とする合
金を使用し、公知の手段により形成すればよい
が、第1及び第2のFe薄膜層と同様、角度が45°
〜80°の斜方蒸着により、前記理由により厚み200
Å〜2000Åになるよう形成するとよい。なお、上
記のうちでもCoを主体とし、NiをCo/Ni=95/
5〜65/35(重量比)になるよう添加したものが
価格面等を考慮すれば好ましく、又、Co系金属
薄膜層の抗磁力が、他のFe薄膜層の抗磁力とほ
ぼ一致するよう斜方蒸着の角度を適宜に定めるの
が好ましい。 本発明はFe薄膜層間にCoの単独あるいはCoを
主体とする合金薄膜層を設けたので磁気特性及び
耐腐食性が向上する。まず、抗磁力の特性が向上
する理由は、各Fe薄膜層が中間層を介すること
により互いに独立するので、各Fe薄膜層の磁気
特性が加算された効果を生むためと考えられる。
Fe薄膜層を単に厚くしても抗磁力、角型比が低
下してしまうのは前記した通りであるが、前記し
た厚みの範囲のFe薄膜層の2工程に分けて2層
積層しても、やはり抗磁力、角型比が低下する。
これは、下層のFe薄膜の傾斜柱状構造を延長す
る傾向で次のFe薄膜層が形成されるので、同じ
トータル厚みを1工程で形成した場合と同様にな
つてしまい、前記した好ましい厚みの範囲を越え
てしまうためであろうと考えられる。 又、本発明において抗磁力、角型比が向上する
理由は、Coの単独あるいはCoを主体とする合金
薄膜層自身の抗磁力、角型比が良好であるため、
磁気記録媒体全体の抗磁力、角型比が向上するた
めの考えられる。 更に、耐腐食性が向上する理由は、Coの単独
あるいはCoを主体とする合金とFeの電気化学的
性質が似ており、かつ、Coの単独あるいはCoを
主体とする合金を用いた方がFeの場合よりも傾
斜柱が稠密に形成されるためと考えられる。 以上、第1図に示すものを中心に説明したが、
更に磁気記録媒体の表面に保護層を形成する等の
手段を付加してもよい。 (発明の効果) 本発明の磁気記録媒体はこのようにFe薄膜層
間に中間層を介在させているので、従来Fe単独
で一定の膜厚を得たときに生じていた抗磁力低下
を主に抑えることができ、さらに、角型比の低下
も抑えられる。 さらに、中間層に強磁性体のCoの単独あるい
はCoを主体とする合金を用いたことにより、記
録層全体としての抗磁力、角型比の特性が向上
し、また耐腐食性も向上するという効果を得るも
のである。 以下に本発明をより具体的に示すための実施例
を掲げる。 実施例 基体としては厚み6μのポリエチレンテレフタ
レートフイルムを用い、フイルム上に最低入射角
を65°とした斜方蒸着法により、まず、厚み850Å
のFe薄膜を設けた。次に、Fe薄膜上にCo:Ni=
80:20(重量比)のCo−Ni合金を用い、最低入射
角を45°とする斜方蒸着法により厚み400ÅのCo
−Ni合金の中間膜を設けた。更に、Co−Ni合金
薄膜上に前記したFe薄膜形成と同様にしてFe薄
膜を設けた。 比較例 1 基体は実施例1におけるものと同様とし、実施
例1におけるのと同様にして厚み850ÅのFe薄膜
層を2度形成した。 比較例 2 中間膜を厚み300Åのアルミニウム蒸着膜とし、
その他は実施例1と同様にした。 上記の実施例及び各比較例で得られた磁気記録
媒体の磁気特性・耐腐食性を評価した結果を表1
および表2に示す。
媒体の改良に関する。 (従来技術) 非磁性基体上に、真空蒸着、スパツタリング、
イオンプレーテイング等の手段により強磁性金属
の薄膜を形成した、いわゆる金属薄膜型の磁気記
録媒体は、通常の、バインダーを使用する型の磁
気記録媒体にくらべて記録密度を高くとることが
できる他、種々の利点を有しているため、実用化
への努力が払われている。 このような金属薄膜型の磁気記録媒体を作成す
るのに使用される金属としてはFe、Co、Ni、Cr
等の強磁性金属や、これら強磁性金属を主体とす
る合金が使用されることが多いが、その中でも
Coの単独あるいはCoを主体とする合金は磁気記
録媒体として高性能であるのでしばしば使用され
る。 一方、上記の強磁性金属のうちでもFeは、Co
やCoの合金にくらべて材料費が安く、磁気記録
媒体としたときにS/N比がすぐれており、しか
も歪率が低い等の種々の利点がある反面、抗磁力
(Hc)の膜厚依存性が大きく、かつ、角型比が小
さく、しかも、耐腐食性が充分でない欠点を有し
ている。 (発明の目的) 従つて、本発明の目的は、安価である強磁性金
属Feの抗磁力の膜厚依存性の点を考慮し、所望
の磁気的出力を確保するとともに、角型比、抗磁
力の劣化を少なくするためにFe薄膜層を2層以
上にすること、及びFeが上記の必要な膜厚を得
たとき、Feの角型比、抗磁力等の特性低下を補
うため強磁性体金属であるCoの単独あるいはCo
を主体とする合金を中間層として設けることによ
り、Fe自体の有する上記特性低下を解消し、Fe
の利点を最大限に引き出した磁気記録媒体を提供
することにある。 (発明の構成) 本発明の磁気記録媒体は、非磁性基体上に2以
上のFe薄膜層と、各Fe薄膜層間に挿入されたCo
の単独あるいはCoを主体とする合金の薄膜層と
が積層さていることを特徴とするものである。 以下、図面を用いながら本発明を詳細に説明す
ると、第1図に示すように本発明の磁気記録媒体
1は例えば非磁性基体2上に第1のFe薄膜層3、
Coの単独あるいはCoを主体とする合金薄膜層4、
および第2のFe薄膜層5の各層が順次積層され
ている。この第1図の例では2つのFe薄膜層と、
2つの薄膜層の間に挿入されたCoの単独あるい
はCoを主体とする合金薄膜層とからなつている
が、Fe薄膜層を3層以上形成し、各Fe薄膜層間
にCoの単独あるいはCoを主体とする合金薄膜層
を挿入してもよい。 上記における非磁性基体2としては耐熱性を有
する合金樹脂フイルム、例えばポリエチレンテレ
フタレートフイルム、ポリイミドフイルムもしく
はポリカーボネートフイルム等の、金属箔、例え
ばアルミニウム箔、非磁性ニツケル箔、銅箔もし
くはステンレス箔等、或いはガラスやセラミツク
を用いることができる。これらのうち、磁気記録
媒体をテープ状に製造する際には耐熱性、抗張
力、及び寸法安定性の点で厚み4μ〜25μのポリエ
チレンテレフタレートフイルムを用いるとよい。 第1図のFe薄膜層と第2のFe薄膜層とは原則
的には同様の条件のものである。また、第1の
Fe薄膜層と第2のFe薄膜層を設ける理由として
は、Fe薄膜の場合、所望の磁気的出力を得るに
はある一定の膜厚(少なくとも500Å以上、望ま
しくは2000Å以上)が必要であり、Fe薄膜層を
一度に形成すると、所望の磁気的出力を出す膜厚
は確保されるが、角型比、抗磁力等の特性で良い
結果は得られないからである。その第1及び第2
のFe薄膜層は、Feを蒸着源とする蒸着等の手段
により設けることができ、所望の磁気的出力を得
るための膜厚を確保しながら、角型比、抗磁力等
の特性を満足させる手段を用いる。すなわち、一
度に所望の膜厚を形成せずに、上記角型比、抗磁
力等の特性の劣化しない範囲の膜厚を2回に分け
て形成する方法を用いる。また蒸着を行う際、被
蒸着基材の法線と金属蒸着流とのなす角度を0°よ
りも大きくとつて、いわゆる斜方蒸着とするのが
よい。本発明者等の研究によれば、前記の角度が
45°〜80°の間で形成されたFe薄膜は膜厚が200Å
〜2000Åであるとき、より好ましくは300Å〜
1000Åであるときにその磁気特性がすぐれている
ことが判明した。ここで200Å未満では薄膜の形
成が未熟で充分な磁束が得られず、その上、抗磁
力の向上を左右する因子の1つである形状異方性
効果の働きが小さいので抗磁力が小さいし、又、
2000Åを越えるとFe薄膜の傾斜柱が成長しすぎ、
隣接する傾斜柱の頂上どうしが癒着してしまい、
いずれにせよ、上記の範囲外では角型比・抗磁力
共低下するものである。 上記第1のFe薄膜層と第2のFe薄膜層の間の
中間層であるCoの単独あるいはCoを主体とする
合金薄膜層は、Fe薄膜層を分離する中間層とな
る。また、この時併せて強磁性体金属であるCo
の単独あるいはCoを主体とする合金のもつ良い
磁気特性(抗磁力及び角型比が大きい等)が作用
し、記録層全体の磁気特性が向上するため、第1
のFe薄膜層と第2のFe薄膜層の間にこのCoの単
独あるいはCoを主体とする合金中間層を設ける。
さらに、上記のCoの単独あるいはCoを主体とす
る合金薄膜層はCoの単独の他、Co−Ni、Co−
Cr、Co−Cu、Co−Au、Co−Y、Co−La、Co
−Pr、Co−Gd、Co−Sm、Co−Pt、Co−Dy、
Co−Mn、Co−V等のCoを一つの成分とする合
金を使用し、公知の手段により形成すればよい
が、第1及び第2のFe薄膜層と同様、角度が45°
〜80°の斜方蒸着により、前記理由により厚み200
Å〜2000Åになるよう形成するとよい。なお、上
記のうちでもCoを主体とし、NiをCo/Ni=95/
5〜65/35(重量比)になるよう添加したものが
価格面等を考慮すれば好ましく、又、Co系金属
薄膜層の抗磁力が、他のFe薄膜層の抗磁力とほ
ぼ一致するよう斜方蒸着の角度を適宜に定めるの
が好ましい。 本発明はFe薄膜層間にCoの単独あるいはCoを
主体とする合金薄膜層を設けたので磁気特性及び
耐腐食性が向上する。まず、抗磁力の特性が向上
する理由は、各Fe薄膜層が中間層を介すること
により互いに独立するので、各Fe薄膜層の磁気
特性が加算された効果を生むためと考えられる。
Fe薄膜層を単に厚くしても抗磁力、角型比が低
下してしまうのは前記した通りであるが、前記し
た厚みの範囲のFe薄膜層の2工程に分けて2層
積層しても、やはり抗磁力、角型比が低下する。
これは、下層のFe薄膜の傾斜柱状構造を延長す
る傾向で次のFe薄膜層が形成されるので、同じ
トータル厚みを1工程で形成した場合と同様にな
つてしまい、前記した好ましい厚みの範囲を越え
てしまうためであろうと考えられる。 又、本発明において抗磁力、角型比が向上する
理由は、Coの単独あるいはCoを主体とする合金
薄膜層自身の抗磁力、角型比が良好であるため、
磁気記録媒体全体の抗磁力、角型比が向上するた
めの考えられる。 更に、耐腐食性が向上する理由は、Coの単独
あるいはCoを主体とする合金とFeの電気化学的
性質が似ており、かつ、Coの単独あるいはCoを
主体とする合金を用いた方がFeの場合よりも傾
斜柱が稠密に形成されるためと考えられる。 以上、第1図に示すものを中心に説明したが、
更に磁気記録媒体の表面に保護層を形成する等の
手段を付加してもよい。 (発明の効果) 本発明の磁気記録媒体はこのようにFe薄膜層
間に中間層を介在させているので、従来Fe単独
で一定の膜厚を得たときに生じていた抗磁力低下
を主に抑えることができ、さらに、角型比の低下
も抑えられる。 さらに、中間層に強磁性体のCoの単独あるい
はCoを主体とする合金を用いたことにより、記
録層全体としての抗磁力、角型比の特性が向上
し、また耐腐食性も向上するという効果を得るも
のである。 以下に本発明をより具体的に示すための実施例
を掲げる。 実施例 基体としては厚み6μのポリエチレンテレフタ
レートフイルムを用い、フイルム上に最低入射角
を65°とした斜方蒸着法により、まず、厚み850Å
のFe薄膜を設けた。次に、Fe薄膜上にCo:Ni=
80:20(重量比)のCo−Ni合金を用い、最低入射
角を45°とする斜方蒸着法により厚み400ÅのCo
−Ni合金の中間膜を設けた。更に、Co−Ni合金
薄膜上に前記したFe薄膜形成と同様にしてFe薄
膜を設けた。 比較例 1 基体は実施例1におけるものと同様とし、実施
例1におけるのと同様にして厚み850ÅのFe薄膜
層を2度形成した。 比較例 2 中間膜を厚み300Åのアルミニウム蒸着膜とし、
その他は実施例1と同様にした。 上記の実施例及び各比較例で得られた磁気記録
媒体の磁気特性・耐腐食性を評価した結果を表1
および表2に示す。
【表】
第1図は本発明の磁気記録媒体の実施例の断面
図である。 1……磁気記録媒体、2……非磁性基体、3,
5……Fe薄膜層、4……Coの単独あるいはCoを
主体とする合金薄膜層。
図である。 1……磁気記録媒体、2……非磁性基体、3,
5……Fe薄膜層、4……Coの単独あるいはCoを
主体とする合金薄膜層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 非磁性基体上に2以上のFe薄膜層と、各Fe
薄膜層間に挿入されたCoの単独あるいはCoを主
体とする合金の薄膜層とが積層されていることを
特徴とする磁気記録媒体。 2 各Fe薄膜層の厚みは200Å〜2000Åであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気
記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1870990A JPH02223009A (ja) | 1990-01-29 | 1990-01-29 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1870990A JPH02223009A (ja) | 1990-01-29 | 1990-01-29 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02223009A JPH02223009A (ja) | 1990-09-05 |
| JPH0472286B2 true JPH0472286B2 (ja) | 1992-11-17 |
Family
ID=11979182
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1870990A Granted JPH02223009A (ja) | 1990-01-29 | 1990-01-29 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02223009A (ja) |
-
1990
- 1990-01-29 JP JP1870990A patent/JPH02223009A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02223009A (ja) | 1990-09-05 |
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