JPH0216417Y2

JPH0216417Y2 -

Info

Publication number: JPH0216417Y2
Application number: JP1983065923U
Authority: JP
Priority date: 1983-04-30
Filing date: 1983-04-30
Publication date: 1990-05-07
Also published as: JPS59173130U

Description

【考案の詳細な説明】

本考案は非磁性基体上に強磁性金属薄膜層を形
成してなる磁気記録媒体における強磁性金属薄膜
の腐食を防止しうる改良された磁気記録媒体に関
する。近年、高密度磁気記録の要求の高まりとともに
真空蒸着、スパツタリング、イオンプレーテイン
グ等の方法により、非磁性基体上に強磁性金属薄
膜層を形成した、いわゆる金属薄膜型の磁気記録
媒体が開発されている。これらの金属薄膜型の磁
気記録媒体は通常のバインダーを使用する磁気記
録媒体に比べて高密度記録が可能である他、種々
の利点を有しており、実用化への努力が種々行わ
れている。しかし、このような金属薄膜型の磁気記録媒体
の強磁性金属薄膜層として通常よく用いられる
CoあるいはFe等を含む強磁性薄膜層は材料組成
そのものが腐食に対して弱く、特にCoを含む強
磁性薄膜層の場合、磁気記録媒体としての磁気特
性を向上させるため一般には斜め蒸着法により形
成するので薄膜の構造は柱状構造となり柱状粒子
と柱状粒子との間にすき間が生じているため腐食
の問題は重大である。又、強磁性薄膜層形成時の
基体の熱ダメージを少なくする、磁気記録媒体と
しての出力を大きくする、ノイズを減少させる等
の目的から、強磁性薄膜層を厚み方向に複数に分
割（例えば３分割）し、分割された各強磁性薄膜
層の間の中間膜として非磁性金属、例えばAl、
Cr、Ti、Sn等の金属膜が配されている。このよ
うな中間層を伴なう層構成で磁気記録媒体が形成
されていると、中間膜と強磁性薄膜層との間で電
気化学的な腐食が生じるため、腐食が進行しやす
く、このような金属薄膜型の磁気記録媒体の最大
の欠点となつている。特に中間膜として用いられ
る非磁性金属としてAlを用いた場合、膜形成の
容易さ、磁気特性に悪影響を与えないこと、低価
格等の面からは非常にすぐれている反面、前述し
た電気化学的な腐食が著しく、大きな問題点とな
つている。本考案者は以上のような従来の技術の有する問
題点を改善しようとして種々検討の結果、非磁性
基体と、最下層の強磁性金属薄膜層との間にスズ
の薄膜層を介在させることにより、上記の欠点が
解消されることを見い出した。本考案は以上の事実に基づいてなされたもので
あつて、即ち、本考案は、基体上に２層以上の強
磁性金属薄膜層と、各強磁性金属薄膜層の間のア
ルミニウム薄膜層と、基体の最下層の強磁性金属
薄膜層との間のスズ薄膜層とが積層されているこ
とを特徴とする磁気記録媒体をその要旨とするも
のである。以下、本考案を図面を引用しつつ詳細に説明す
る。第１図は本考案の磁気記録媒体の構造を示す断
面図であつて非磁性の基体１の表面にスズ薄膜層
２、斜方蒸着により形成された第１の磁気記録層
３、アルミニウム薄膜層からなる中間層４、及び
斜方蒸着により形成された第２の磁気記録層５が
順次積層されている。上記において基体１としては耐熱性を有する合
成樹脂フイルム、例えばポリエチレンテレフタレ
ートフイルム、ポリイミドフイルム若しくはポリ
カーボネートフイルム等、金属箔、例えばアルミ
ニウム箔、非磁性ニツケル箔、銅箔若しくはステ
ンレス箔等、或いはガラスやセラミツクを用いる
ことができる。これらのうち磁気テープ状に磁気
記録媒体を製造する際には耐熱性、抗張力、及び
寸法安定性の点で厚み4μ〜25μのポリエチレンテ
レフタレートフイルムを用いるとよい。基体１の表面に積層されたスズ薄膜層２は、
200Å〜1500Å程度の厚みの薄膜層であり、公知
の蒸着、スパツタリング、めつき、イオンプレー
テイング等の手法により、設けることができる。スズ薄膜層２の表面に積層された、斜方蒸着に
より形成された第１の磁気記録層３はCo、Ni、
Feの強磁性金属の単体、合金、化合物である酸
化物もしくは窒化物など、または、更にこれらに
Cr、Ｖ、Mn等の遷移金属やSm、Dy等の希土類
を添加したものを用いて、公知の斜方蒸着により
形成することができる。斜方蒸着による磁気特性
が最も発揮され、磁束密度が高いものとしてはコ
バルトを主体とし、耐食性の向上をも考慮してニ
ツケルを35重量％以内添加したものを挙げること
ができ、この場合磁気記録層の厚みを300Å〜
1500Åとするのが良い。中間層４は、第１の磁気記録層及び第２の磁気
記録層を磁性的に遮断し、かつ、表面が一定の状
態に仕上がつていればよく、好ましくは、200Å
〜1500Å程度の厚みのアルミニウム薄膜層であ
り、公知の蒸着、スパツタリング、めつき、イオ
ンプレーテイング等の手法により設けることがで
きる。中間層４の表面に積層する第２の磁気記録層５
は、第１の磁気記録層３と同様である。以上、本考案の構成の一例を説明したが、更に
本考案の磁気記録媒体は次のような構造であつて
もよい。第２図は本考案の他の例を示すもので基体１１
上に、スズ層１２、第１の磁気記録層１３、第１
のアルミニウム中間層１４、第２の磁気記録層１
５、第２のアルミニウム中間層１６、及び、第３
の磁気記録層１７を順次積層してなる。第２図に
おいては磁気記録層は３つの層からなるが、更に
アルミニウム中間層及び磁気記録層を交互に形成
し、多層の磁気記録層を有する磁気記録媒体とす
ることもでき、このように多層化することにより
更に残留磁束が増加する。なお、本考案において、第１，第２，第３，
…，の各磁気記録層は、同じ材質であつても、互
いに異なつていてもよいのは、言うまでもない。又、本考案の磁気記録媒体には第３図中６で示
すように保護層６を設けてもよく、このように保
護層６を設けると耐食性、走行性の向上を図るこ
とができる。保護層６は適宜な合成樹脂塗料に界
面活性剤や滑剤としてワツクス、オイル等、更に
は顔料を添加して塗布することにより形成でき
る。以上の本考案によれば、従来の金属薄膜型の磁
気記録媒体に比して、著しく耐腐食性が改善され
る。なお、耐腐食性向上のみを考えれば、基体に
直接接する層と同様に中間層にスズを用いてもよ
いが、この場合にはスズが最下層と中間層の２層
以上になるので磁気特性に悪影響（保磁力が低下
する。）を与える。したがつて本考案のように最
下層にスズを用い、中間層にアルミニウムを用い
た場合にのみ、磁気特性と耐食性を両立させるこ
とができる。以下に本考案をより具体的に示すための実施例
及び比較例を掲げる。実施例基体として、厚み６mmのポリエチレンテレフタ
レートフイルムを使用し、基体上に厚み300Åの
スズ蒸着層を設け、次に、直径600mmの冷却ドラ
ムに前記の蒸着剤フイルムを沿わせて走行させつ
つ、真空度５×10^-5Torr.にて、Co：Ni＝８：２
の合金を用い、フイルムの法線に対し、入射角が
90゜で蒸着を開始し、蒸着終了時の入射角が40゜と
なるように入射角を連続的に変えて蒸着を行い、
厚み1000Åの第１の磁気層を作製した。第１の磁
気記録層を形成した上に、厚み300Åのアルミニ
ウム中間層を蒸着により設け、更に、中間層の上
に上記の第１の磁気層を形成したのと同じ条件で
同じ厚みの第２の磁気層を形成した。比較例１実施例と同様に、但し、基体上に直接接する層
としてスズ蒸着層にかえて厚み300Åのアルミニ
ウム蒸着層を形成した。比較例２実施例と同様に、但し、アルミニウム中間層に
かえて厚み300Åのスズ蒸着層を用いた。以上の
実施例、比較例１及び２で得られた各磁気記録媒
体についての静磁気特性を表１に、耐食性を表２
に示す。表１、表２の結果から明らかなように、基体に
直接接する最下層にスズを用い、中間層にアルミ
ニウムを用いることにより磁気特性に悪影響を与
えることなく、耐食性を著しく向上させることが
できる。

【表】

【表】【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図は、本考案の磁気記録媒体の断
面図である。１，１１……基体、２，１２……スズ薄膜層、
３，５，１３，１５，１７……強磁性金属薄膜
層、４，１４，１６……アルミニウム中間層、６
……保護層。

Claims

【実用新案登録請求の範囲】

基体上に２層以上の強磁性金属薄膜層と、各強
磁性金属薄膜層の間のアルミニウム薄膜層と、基
体と最下層の強磁性金属薄膜層との間のスズ薄膜
層とが積層されていることを特徴とする磁気記録
媒体。