JPH0473225B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0473225B2 JPH0473225B2 JP58164424A JP16442483A JPH0473225B2 JP H0473225 B2 JPH0473225 B2 JP H0473225B2 JP 58164424 A JP58164424 A JP 58164424A JP 16442483 A JP16442483 A JP 16442483A JP H0473225 B2 JPH0473225 B2 JP H0473225B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base material
- resin base
- layer
- resin
- information recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は光学的記録あるいは再生方式に使用さ
れる円盤状の情報記録担体およびその製造方法に
関するものである。
れる円盤状の情報記録担体およびその製造方法に
関するものである。
従来例の構成とその問題点
光学的記録再生方式においては、回転駆動され
る円盤状情報記録担体(以下デイスクと呼ぶ)の
光記録層に、情報信号に対応したレーザ光を照射
することにより、光記録層に光学的な濃淡あるい
は凹凸を設けて、情報の記録再生を行うもので数
μmの微小信号を記録することができ、原理的に
は光の波長程度の高密度記録が可能な方式であ
る。また、記録・再生時にレーザ光のピツクアツ
プとデイスクが接触しないので摩耗がなく、静止
画,高速検索等の多機能が得られるものであるた
め、静止画フアイル,文書フアイル等,産業用,
業務用としても実用化化されつつある。
る円盤状情報記録担体(以下デイスクと呼ぶ)の
光記録層に、情報信号に対応したレーザ光を照射
することにより、光記録層に光学的な濃淡あるい
は凹凸を設けて、情報の記録再生を行うもので数
μmの微小信号を記録することができ、原理的に
は光の波長程度の高密度記録が可能な方式であ
る。また、記録・再生時にレーザ光のピツクアツ
プとデイスクが接触しないので摩耗がなく、静止
画,高速検索等の多機能が得られるものであるた
め、静止画フアイル,文書フアイル等,産業用,
業務用としても実用化化されつつある。
現在、樹脂基材表面に光案内用の溝を形成する
一例としては、第1図〜第4図に示すような方法
が用いられている。第1図は樹脂基材1の最内周
および最外周の一定範囲に、ナイロンたわし2等
のもの(以下面荒らしと呼ぶ)で樹脂基材の表面
に微小な凹凸を形成するものである。その後、溶
剤で超音波洗浄および純水でのスピナ洗浄をして
汚れを取り除き、光案内用の溝を転写するレプリ
ケーシヨンの工程に移る。このとき、溝転写用の
樹脂として光硬化性樹脂3を用いるため、樹脂基
材1と光硬化性樹脂3との接着強度を高めるため
の第2図に示すように溶剤バインダ4を予めスピ
ナ塗布する。
一例としては、第1図〜第4図に示すような方法
が用いられている。第1図は樹脂基材1の最内周
および最外周の一定範囲に、ナイロンたわし2等
のもの(以下面荒らしと呼ぶ)で樹脂基材の表面
に微小な凹凸を形成するものである。その後、溶
剤で超音波洗浄および純水でのスピナ洗浄をして
汚れを取り除き、光案内用の溝を転写するレプリ
ケーシヨンの工程に移る。このとき、溝転写用の
樹脂として光硬化性樹脂3を用いるため、樹脂基
材1と光硬化性樹脂3との接着強度を高めるため
の第2図に示すように溶剤バインダ4を予めスピ
ナ塗布する。
第3図はレプリケーシヨン工程を示したもの
で、光案内用溝を転写するための母型となる金属
スタンパ5に光硬化性樹脂3を塗布した後、バイ
ンダ4を塗布した樹脂基材1を図のように重ね合
せ、加圧板6a,6b加圧Aしながら紫外線Bを
照射して光軸化性樹脂3を硬化させる。その後第
4図に示すように金属スタンパ5から樹脂基材1
と光硬化性樹脂3を同時に剥離させて溝を転写す
る。これらの工程における面荒らし2とバインダ
4の塗布は樹脂基材1と光硬化性樹脂3との結合
度を高めるもので、光硬化性樹脂3と接着性の強
い金属スタンパ5を用いる時には大きな効果を有
するものである。しかしながら、これらの工程を
入れれば必然的に工数が増え、量産化のためには
むしろ好ましいとは言い難いものである。さら
に、面荒らしの工程は汚れを発生させる作業でも
あり、洗浄工程が入つているとはいえ完成デイス
クとした場合の画像のドロツプアウトの要因とも
なる可能性がある。
で、光案内用溝を転写するための母型となる金属
スタンパ5に光硬化性樹脂3を塗布した後、バイ
ンダ4を塗布した樹脂基材1を図のように重ね合
せ、加圧板6a,6b加圧Aしながら紫外線Bを
照射して光軸化性樹脂3を硬化させる。その後第
4図に示すように金属スタンパ5から樹脂基材1
と光硬化性樹脂3を同時に剥離させて溝を転写す
る。これらの工程における面荒らし2とバインダ
4の塗布は樹脂基材1と光硬化性樹脂3との結合
度を高めるもので、光硬化性樹脂3と接着性の強
い金属スタンパ5を用いる時には大きな効果を有
するものである。しかしながら、これらの工程を
入れれば必然的に工数が増え、量産化のためには
むしろ好ましいとは言い難いものである。さら
に、面荒らしの工程は汚れを発生させる作業でも
あり、洗浄工程が入つているとはいえ完成デイス
クとした場合の画像のドロツプアウトの要因とも
なる可能性がある。
発明の目的
本発明は以上のような欠点を除去し、ドロツプ
アウト品質が良く、工数削減を実現する情報記録
担体およびその製造方法を提供するものである。
アウト品質が良く、工数削減を実現する情報記録
担体およびその製造方法を提供するものである。
発明の構成
本発明は、薬品を用いることにより樹脂基材の
外表面に均一で微小な凹凸形成領域を発生させ、
樹脂基材と溝転写用の付加層との接着性を強化す
るもので、従来の面荒らし,洗浄,バインダの塗
布を一括して行うことを可能にするものである。
こうすることにより、汚れを発生させる工程がな
くなるためドロツプアツプ品質が改善され、それ
と同時に大幅な工数削減が期待できるので、より
安価な情報記録担体を製造することができる。
外表面に均一で微小な凹凸形成領域を発生させ、
樹脂基材と溝転写用の付加層との接着性を強化す
るもので、従来の面荒らし,洗浄,バインダの塗
布を一括して行うことを可能にするものである。
こうすることにより、汚れを発生させる工程がな
くなるためドロツプアツプ品質が改善され、それ
と同時に大幅な工数削減が期待できるので、より
安価な情報記録担体を製造することができる。
実施例の説明
以下本発明の実施例を図面とともに説明する。
第5図は、トルエン7を満たした容器8の中にア
クリル樹脂からなる樹脂基材1を浸漬させたもの
である。浸漬時間がある程度長くなると、樹脂基
材1の表面に微小な凹凸形成領域を発生し始め、
最終的には外表面全体に均一な凹凸形成領域を生
じた変質層9が完成する。実験によれば浸漬時間
が96時間程度以上になると均一な変質層9がで
き、その微小凹凸形成領域の大きさは1μm前後
より小さいものである。
第5図は、トルエン7を満たした容器8の中にア
クリル樹脂からなる樹脂基材1を浸漬させたもの
である。浸漬時間がある程度長くなると、樹脂基
材1の表面に微小な凹凸形成領域を発生し始め、
最終的には外表面全体に均一な凹凸形成領域を生
じた変質層9が完成する。実験によれば浸漬時間
が96時間程度以上になると均一な変質層9がで
き、その微小凹凸形成領域の大きさは1μm前後
より小さいものである。
こうした変質層9のある樹脂基材1を用いてレ
プリケーシヨンを行えば、従来の面荒らし、バイ
ンダ塗布を施したものと同程度以上の接着強度が
得られるため、硬化後の光硬化性樹脂からなる付
加層3を金属スタンパ5との剥離が容易に行える
ようになる。
プリケーシヨンを行えば、従来の面荒らし、バイ
ンダ塗布を施したものと同程度以上の接着強度が
得られるため、硬化後の光硬化性樹脂からなる付
加層3を金属スタンパ5との剥離が容易に行える
ようになる。
また、微小凹凸形成領域は光硬化性樹脂からな
る付加層3と接触するので、樹脂基材と屈折率の
等価な光硬化性樹脂であれば微小凹凸形成領域内
への浸透により見かけ上凹凸形成領域がなくなつ
た状態と等しくなり、光学的にもレーザビームの
焦点および経路に影響を及ぼすことはない。
る付加層3と接触するので、樹脂基材と屈折率の
等価な光硬化性樹脂であれば微小凹凸形成領域内
への浸透により見かけ上凹凸形成領域がなくなつ
た状態と等しくなり、光学的にもレーザビームの
焦点および経路に影響を及ぼすことはない。
本発明の実施例においては、樹脂基材1のトル
エン中浸漬による方法であるため、変質層9は樹
脂基材1の両面に発生する。したがつて、溝を転
写する面と反対側の樹脂基材面は変質層9が残つ
た状態のままであるが、これについては第6図に
示すような情報記録担体の構成にすれば特に問題
はない。第6図は変質層9のある樹脂基材1に光
案内用の溝を転写した光硬化性樹脂からなる付加
層3が設けられ、その表面に光記録膜10が蒸着
されている。このような構成からなるデイスク基
板に樹脂基材1と同様なアクリル樹脂からなる保
護板11が光硬化型接着剤12によつて全面貼り
合せられている。さらに、このデイスクの外表面
は樹脂基材1と等価な屈折率をもつ光硬化性樹脂
からなるハードコート層13で覆われており、デ
イスク外表面に残つている変質層9も光学的に影
響を与ぼすことはない。
エン中浸漬による方法であるため、変質層9は樹
脂基材1の両面に発生する。したがつて、溝を転
写する面と反対側の樹脂基材面は変質層9が残つ
た状態のままであるが、これについては第6図に
示すような情報記録担体の構成にすれば特に問題
はない。第6図は変質層9のある樹脂基材1に光
案内用の溝を転写した光硬化性樹脂からなる付加
層3が設けられ、その表面に光記録膜10が蒸着
されている。このような構成からなるデイスク基
板に樹脂基材1と同様なアクリル樹脂からなる保
護板11が光硬化型接着剤12によつて全面貼り
合せられている。さらに、このデイスクの外表面
は樹脂基材1と等価な屈折率をもつ光硬化性樹脂
からなるハードコート層13で覆われており、デ
イスク外表面に残つている変質層9も光学的に影
響を与ぼすことはない。
なお、このような浸漬方法によれば、樹脂基材
表面に汚れがあつても同時にクリーニングされる
効果もあり、面荒らし,洗浄,バインダ塗布の工
程を一度に薬品処理によつて済ますことが可能で
ある。
表面に汚れがあつても同時にクリーニングされる
効果もあり、面荒らし,洗浄,バインダ塗布の工
程を一度に薬品処理によつて済ますことが可能で
ある。
次に本発明の第2の実施例について説明する。
第7図はアクリル樹脂からなる樹脂基材1の外部
から機械的な力を加えながら加熱Aをした状態で
トルエンを噴霧Bしたものである。このような操
作を数回繰り返すことにより、樹脂基材1の表面
に微小な凹凸形成領域が発生し、レプリケーシヨ
ンの際の接着力強度を高めることができる。
第7図はアクリル樹脂からなる樹脂基材1の外部
から機械的な力を加えながら加熱Aをした状態で
トルエンを噴霧Bしたものである。このような操
作を数回繰り返すことにより、樹脂基材1の表面
に微小な凹凸形成領域が発生し、レプリケーシヨ
ンの際の接着力強度を高めることができる。
これは、樹脂基材1の応力の発生した状態でト
ルエン等の薬品により凹凸形成領域の発生を促進
させるものである。応力の発生方法は、機械的な
ものと熱的なものの2種類があるが、それぞれを
個別に行う場合でも同時に行う場合でも微小凹凸
形成の発生は可能である。
ルエン等の薬品により凹凸形成領域の発生を促進
させるものである。応力の発生方法は、機械的な
ものと熱的なものの2種類があるが、それぞれを
個別に行う場合でも同時に行う場合でも微小凹凸
形成の発生は可能である。
また、この実施例では、応力を発生した状態で
トルエンを噴霧することによつて変質層を形成し
ているが、噴霧方法でなくてもトルエンを含ませ
た布もしくはは紙などで短時間に樹脂基材表面を
拭う方法でも同様な効果が得られる。このとき、
トルエン等の溶剤が樹脂基材上に漏れた状態で長
時間維持されないことが重要で、これは溶剤が揮
発する際に気化熱を奪い、樹脂基材表面層に微小
な応力差によるひずみを発生させることを利用し
ているためである。したがつて応力を予め加えて
おくことは、この現象を助長させるためであり、
変質層の形成を促進させる役割を果たしている。
なお、キシレン等の溶剤を用いる時は、樹脂基材
がポリカーボネートとの組合せの場合に、特に応
力を予め加えた状態でなくても変質層の形成が可
能である。
トルエンを噴霧することによつて変質層を形成し
ているが、噴霧方法でなくてもトルエンを含ませ
た布もしくはは紙などで短時間に樹脂基材表面を
拭う方法でも同様な効果が得られる。このとき、
トルエン等の溶剤が樹脂基材上に漏れた状態で長
時間維持されないことが重要で、これは溶剤が揮
発する際に気化熱を奪い、樹脂基材表面層に微小
な応力差によるひずみを発生させることを利用し
ているためである。したがつて応力を予め加えて
おくことは、この現象を助長させるためであり、
変質層の形成を促進させる役割を果たしている。
なお、キシレン等の溶剤を用いる時は、樹脂基材
がポリカーボネートとの組合せの場合に、特に応
力を予め加えた状態でなくても変質層の形成が可
能である。
ここに、トルエンあるいはキシレンを含ませた
布または紙で拭う方法および噴霧する方法は、同
時に樹脂基材表面を洗浄する効果も有しており、
改めて樹脂基材を洗浄する必要はない。また樹脂
基材の両面に同様な処理を施した場合、組立後の
デイスクの外表面側になる面は、第1の実施例の
場合のようにハードコート層13を設けることに
より、光学的に問題のないものができる。ただ
し、この変質層の形成は樹脂基材1と光硬化性樹
脂からなる付加層3との接着強度を高くすること
を主目的とするものであり、反対側の面に対する
処理は必ずしも必要とはしない。
布または紙で拭う方法および噴霧する方法は、同
時に樹脂基材表面を洗浄する効果も有しており、
改めて樹脂基材を洗浄する必要はない。また樹脂
基材の両面に同様な処理を施した場合、組立後の
デイスクの外表面側になる面は、第1の実施例の
場合のようにハードコート層13を設けることに
より、光学的に問題のないものができる。ただ
し、この変質層の形成は樹脂基材1と光硬化性樹
脂からなる付加層3との接着強度を高くすること
を主目的とするものであり、反対側の面に対する
処理は必ずしも必要とはしない。
なお本発明で光記録膜を使用する場合、その材
料としてはレーザ光の照射により光吸収係数ある
いは光吸収係数と屈折率の両方が変化するものが
必要であり、その一例としてテルルの低酸化物
TeOx(x≒1.0)を主成分とする薄膜を設けたも
のがある。これらの薄膜としては、
Ge15Te81Sb2S2,AS2S3等のアモルフアス薄膜が
使われる。このような光記録層を設けた場合に2
つの樹脂基材を全面貼合せるときは接着剤として
光記録膜を劣化させないものを使用する必要があ
り、例えば光硬化型接着剤の場合にはポリビニル
アルコール性の接着剤が望ましい。
料としてはレーザ光の照射により光吸収係数ある
いは光吸収係数と屈折率の両方が変化するものが
必要であり、その一例としてテルルの低酸化物
TeOx(x≒1.0)を主成分とする薄膜を設けたも
のがある。これらの薄膜としては、
Ge15Te81Sb2S2,AS2S3等のアモルフアス薄膜が
使われる。このような光記録層を設けた場合に2
つの樹脂基材を全面貼合せるときは接着剤として
光記録膜を劣化させないものを使用する必要があ
り、例えば光硬化型接着剤の場合にはポリビニル
アルコール性の接着剤が望ましい。
また本発明の実施例では、光記録膜の代わりに
単なる反射膜を設けた場合でも、微小凹凸形成領
域の発生に対しては何ら差し支えない。
単なる反射膜を設けた場合でも、微小凹凸形成領
域の発生に対しては何ら差し支えない。
以上の実施例における樹脂基材としては、アク
リル樹脂(PMMA),ポリカーボネートの他はポ
リスチレン,塩化ビニル,ポリエステル,アセテ
ート等があり、有機高分子からなる材質を用いる
場合に特に有効である。
リル樹脂(PMMA),ポリカーボネートの他はポ
リスチレン,塩化ビニル,ポリエステル,アセテ
ート等があり、有機高分子からなる材質を用いる
場合に特に有効である。
また、この実施例で使用できる有機溶剤として
はトルエン,キシレンの他にメチルエチルケト
ン,フエノール,四塩化炭素,アセトン,メチル
アルコール,サリチル酸メチル等があるが、樹脂
基材の種類によつて最適な有機溶剤はそれぞれ異
なる場合がある。
はトルエン,キシレンの他にメチルエチルケト
ン,フエノール,四塩化炭素,アセトン,メチル
アルコール,サリチル酸メチル等があるが、樹脂
基材の種類によつて最適な有機溶剤はそれぞれ異
なる場合がある。
発明の効果
以上のように本発明によれば、簡単な方法で樹
脂基材表面に微小凹凸形成領域を発生させ、樹脂
基材と光案内用の溝を形成する付加層との接着強
度を高めることにより、大幅な工数削減を行うと
同時にドロツプアウト品質の高い、安価な情報記
録担体を得るために大きな効果を有するものであ
る。
脂基材表面に微小凹凸形成領域を発生させ、樹脂
基材と光案内用の溝を形成する付加層との接着強
度を高めることにより、大幅な工数削減を行うと
同時にドロツプアウト品質の高い、安価な情報記
録担体を得るために大きな効果を有するものであ
る。
第1図は樹脂基材に面荒らしを施す従来例にお
ける情報記録担体の斜視図、第2図は樹脂基材に
バインダを塗布する従来例における情報記録担体
の断面図、第3図はレプリケーシヨンを行う方法
を示した従来例における情報記録担体と加圧板の
断面図、第4図はレプリカを金属スタンパから剥
す方法を示す従来例における情報記録担体と金属
スタンパの断面図、第5図は本発明の一実施例に
おける情報記録担体の製造方法を示す装置の断面
図、第6図は同情報記録担体の断面図、第7図は
本発明の他の実施例における情報記録担体の製造
状態を示す断面図である。 1……樹脂基材、3……光硬化性樹脂からなる
付加層、9……変質層、10……光記録膜、11
……保護板、12……光硬化型接着剤、13……
ハードコード層、7……トルエン、8……容器。
ける情報記録担体の斜視図、第2図は樹脂基材に
バインダを塗布する従来例における情報記録担体
の断面図、第3図はレプリケーシヨンを行う方法
を示した従来例における情報記録担体と加圧板の
断面図、第4図はレプリカを金属スタンパから剥
す方法を示す従来例における情報記録担体と金属
スタンパの断面図、第5図は本発明の一実施例に
おける情報記録担体の製造方法を示す装置の断面
図、第6図は同情報記録担体の断面図、第7図は
本発明の他の実施例における情報記録担体の製造
状態を示す断面図である。 1……樹脂基材、3……光硬化性樹脂からなる
付加層、9……変質層、10……光記録膜、11
……保護板、12……光硬化型接着剤、13……
ハードコード層、7……トルエン、8……容器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 樹脂基材の少くとも一方の面全域に微少な凹
凸よりなる変質層を形成し、この変質層の上に光
案内用溝を形成した付加層を設け、この付加層の
上に光記録膜を設けた情報記録担体。 2 付加層に樹脂基材と等価な屈折率をもつ光硬
化性樹脂を使用した特許請求の範囲第1項記載の
情報記録担体。 3 樹脂基材をトルエン等の溶剤に浸漬して表面
に微少な凹凸よりなる変質層を形成し、この変質
層の上に光案内用溝を形成した付加層を形成し、
この付加層の上に光記録膜を形成した情報記録担
体の製造方法。 4 樹脂基材に応力を加えながらトルエン等の溶
剤を噴霧して微少な凹凸よりなる変質層を形成
し、この変質層の上に光案内用溝を形成した付加
層を形成し、この付加層の上に光記録膜を形成し
た情報記録担体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58164424A JPS6055531A (ja) | 1983-09-06 | 1983-09-06 | 情報記録担体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58164424A JPS6055531A (ja) | 1983-09-06 | 1983-09-06 | 情報記録担体およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6055531A JPS6055531A (ja) | 1985-03-30 |
| JPH0473225B2 true JPH0473225B2 (ja) | 1992-11-20 |
Family
ID=15792884
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58164424A Granted JPS6055531A (ja) | 1983-09-06 | 1983-09-06 | 情報記録担体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6055531A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2512706B2 (ja) * | 1985-05-27 | 1996-07-03 | 日立マクセル株式会社 | 光情報記録媒体およびその製造方法 |
| JPS6391843A (ja) * | 1986-10-06 | 1988-04-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光デイスク基板 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5528226U (ja) * | 1978-08-09 | 1980-02-23 | ||
| JPS57138064A (en) * | 1981-02-16 | 1982-08-26 | Fujitsu Ltd | Optical disc medium |
| NL8101515A (nl) * | 1981-03-27 | 1982-10-18 | Philips Nv | Optisch uitleesbare informatieschijf en werkwijze voor de vervaardiging ervan. |
-
1983
- 1983-09-06 JP JP58164424A patent/JPS6055531A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6055531A (ja) | 1985-03-30 |
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