JPH0473773B2 - - Google Patents
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- JPH0473773B2 JPH0473773B2 JP20056183A JP20056183A JPH0473773B2 JP H0473773 B2 JPH0473773 B2 JP H0473773B2 JP 20056183 A JP20056183 A JP 20056183A JP 20056183 A JP20056183 A JP 20056183A JP H0473773 B2 JPH0473773 B2 JP H0473773B2
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は製版用静電記録材料に係わり、特に透
明性プラスチツクフイルム支持体の片面に静電記
録層を有し、他方の面に活性光線遮光性を有し、
且つ可視光線透過性を有する剥離性マスク層を有
する製版用静電記録津材料に関するものである。 従来、写真印刷の製版作業に於いて、文字やカ
ラー写真を含む貼り込み原稿からPS印刷のため
の分版されたフイルム原稿を作成する過程で銀塩
その他の反転感光材料或はマスキング材料と称さ
れている原稿の不要部分を選択的に遮光する材料
等が使用されている。そして前記のマスキング材
料としては、活性光線遮光性の着色剤をプラスチ
ツクスや紙に添加せしめた着色プラスチツクスフ
イルムや着色紙、或は透明プラスチツクフイルム
の片面に、活性光線を遮光する能力の有る剥離性
被膜等を設けたものが知られている。 前者のマスキング材料は、材料自体を切り抜い
てパターン化して使用し、後者のマスキング材料
はプラスチツクフイルム支持体上の着色被膜のみ
をカツターナイフなどで切り、必要部分だけを支
持体から剥離して遮光膜のパターン化を形成する
ものである。 このようなパターン化の作業は、通常貼込み原
稿又は撮影したリス原稿と重ねて行い、パターン
化されたマスキング材料は銀塩等の写真材料と透
明粘着テープでり合わせて次の工程の原稿とされ
ている。 前記した従来のマスキング作業に於いては、ナ
イフ等によるカツテイング作業中に原稿の位置ズ
レを起こし易く、又感光性フイルムとマスキング
材料が重なるため、感光乳剤面と遮光性被膜との
間のベース厚が増し、焼きボケが生じる欠陥があ
つた。 また銀塩材料に於いては、感光膜の露光、現像
工程を暗室内で処理しなければならず、作業能率
が悪く露光、現像に伴う装置が必要であつた。 一方、ジアゾニウム感光材料においては、現像
時にアンモニアを使用するため臭いの問題があつ
た。 前記のジアゾニウム感光材料は銀塩材料に比べ
てある程度明室化することができるものの、それ
でも安全光を必要とした。更に銀塩材料、ジアゾ
ニウム感光材料ともに貯蔵安定性の問題があり、
特にジアゾニウム感光材料はセルフライフが１年
前後と短く、又、その保存には冷暗所又は装置を
要した。 そして又、前記の銀塩材料、ジアゾニウム感光
材料ともに、オリジナル原稿より光学的に第二原
図を得るため、経時変化修正をおこなうに伴い、
一定期間オリジナル原稿を保管する必要が有り、
保管中のオリジナル原稿の保存中における温度変
化による寸法安定性に問題があり、経時変化に伴
う修正時に、オリジナル原稿と修正図面との間
に、位置ズレを起こし、オリジナル原稿と修正図
面とのトンボ合わせによる位置決めが困難であつ
た。 一方、紙質のマスキング材料は、温湿度の影響
を受けて反り易く、ネガ原稿の大面積をマスクし
て使用する場合など、寸法精度が悪く精密製版に
は問題があつた。 本発明は前記従来の製版材料の欠陥を解消した
もので、その要旨は、低抵抗層と誘電体層をその
表面に有する体積抵抗値が101〜1020Ωcmである
透明支持体の裏面に、活性光線遮光性を有し、且
つ可視光線透過性を有する剥離性マスク層を設け
て成ることを特徴とする遮光性マスク層を有する
製版用静電記録材料である。 以下、図面を基に本発明を具体的に説明する。
図面に於いて、第１図は本発明の一実施例を示す
拡大断面図、第２図は活性光線遮光性を有し、且
つ可視光線透過性を有する剥離性マスク層をラミ
ネートするタイプの一実施例を示す拡大断面図、
第３図は第１図の材料を静電画像処理し、誘電体
層上に静電画像を形成し、遮光性マスク層を一部
剥離した状態を示す拡大断面図、第４図は第２図
の材料を静電画像処理し、誘電体層上に静電画像
を形成し、遮光性マスク層を一部剥離した状態を
示す拡大断面図である。 図面に於いて１は透明支持体であり、ポリエチ
レンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリ塩化ビニル樹脂及びトリアセチルセルロ
ース樹脂等のフイルム又はシートである。 前記透明支持体１の体積抵抗値は101〜1020Ω
cmである。なお支持体自体が導電性を有する透明
支持体であつてもよい。この導電性を有する透明
支持体の体積抵抗値は105〜1012Ωcmの範囲のも
のが適している。 そして又、透明支持体１の表面には低抵抗層２
が設けてあり、更に低抵抗層２の表面には誘電体
層３が設けてある。 前記低抵抗層２は、導電剤、例えばポリビニル
ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、２
−アクロイルエチルトリメチルアンモニウムクロ
ライドとビニルスルホンとの共重合体およびスル
ホン化スチレンオリゴマー等をアクリル樹脂、メ
トキシメチロール化ナイロン、熱可塑性ポリエス
テル樹脂およびポリウレタン樹脂等のバインダー
を介して塗工することによつて得られる。 そして、前記低抵抗層２の上に設ける誘電体層
３は、アクリル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、ポリビニルブチラール樹脂、シリコーン樹
脂、ポリスチレン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体およびセルロース誘導体樹脂等を水、有
機溶媒に溶解または分散せしめた塗工液を塗工、
乾燥することによつて設ける。なおこの塗工液に
は改質剤として微粉末シリカ等が配合される。 本発明においては、前記透明支持体１の裏面に
活性光線遮光性を有し、且つ可視光線透過性を有
する剥離性マスク層４を設けてある。 前記の活性光線遮光性を有し、且つ可視光線透
過性を有する剥離性マスク層４は特に紫外線に対
して遮光効果があり、可視光線に対しては透過性
を有する顔料又は染料を可撓性の熱可塑性高分子
物質に溶解分散せしめたものである。 具体的にはポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共
重合体、ポリビニルブチラール、ポリビニルホル
マール、ポリアミド及びポリウレタン等の熱可塑
性高分子物質にアゾ系染顔料、アントラキノン系
染顔料、銅フタロシアニン系顔料、黄鉛、ベンガ
ラ及びカーボンブラツク等を配合し、更に有機溶
媒で両者を溶解又は分散することによつて得た遮
光性塗工液を透明支持体１の裏面に、ハケ塗り、
ナイフコーター、ロールコーター等で塗布乾燥す
ることによつて設ける。又、この剥離性マスク層
中には、必要に応じてカチオン系帯電防止剤、ノ
ニオン系帯電防止剤、アニオン系帯電防止剤が添
加される。 前記活性光線遮光性を有し、且つ可視光線透過
性を有する剥離マスク層４の厚さは５〜50μ、好
ましくは10〜30μである。その光線透過率はラツ
テン18Aフイルターで2.0以上必要であり、又体
積抵抗値は105〜1016Ωcmであれば良い。 又、活性光線遮光性を有し、且つ可視光線透過
性を有する剥離マスク層４の透明支持体１に対す
る接着強度は通常の作業で剥離し易い範囲内であ
れば良く、180°剥離による接着力が１cm幅当たり
10〜500gに設定できる。 10g以下では脱落し易く、又500g以上では被膜
が破断したり、剥離が困難になるので好ましくな
い。 活性光線遮光性を有し、且つ可視光線透過性を
有する剥離性マスク４を設けるもう一つの方法
は、前記遮光性塗工液を透明支持体１とは別の透
明支持体５の表面に塗布し、該透明支持体５の裏
面に、感圧、感熱接着が可能なラミネート層６を
介して透明支持体１の裏面にラミネーターにより
ラミネートする。 具体的には、透明支持体５の厚さは５〜100μ
であり、好ましくは10〜50μである。透明支持体
５の表面に前記遮光性塗工液を乾燥膜厚が10〜
30μになるように塗布乾燥し、更に透明支持体５
の裏面にラミネート層を１〜50μ、好ましくは３
〜10μ設けることによつて成される。該遮光性マ
スク層のラミネート層６と透明支持体１の誘電体
層とは反対の面に50〜200℃の温度範囲でラミネ
ーターによりラミネートする。 前記ラミネート層６に使用する材料としては、
エポキシ樹脂、フエノール樹脂、アクリルニトリ
ルゴム、ネオプレンゴム、ブチラール樹脂、アク
リルゴム、ブタジエンゴム、イソプレンコム、ポ
リウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル
樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、シリコー
ン樹脂、シアノアクリレート樹脂、ポリビニルピ
ロリドン樹脂等から採択される接着剤の１種又は
２種以上が挙げられる。そしてその光線透過率は
ラツテン18Aフイルターで2.0以上必要であり、
又、180°剥離による接着力は１cm当たり10〜500g
が好ましい。 かくのごとく構成された本発明の活性光線遮光
性を有し、且つ可視光線透過性を有する剥離性マ
スク層を有する製版用静電記録材料は、静電記録
材料の裏面に紫外線に対して高い遮光性を有する
剥離性被膜を具備し、又静電記録材料の表面に
は、静電画像を得るための低抵抗層と誘電体層を
具備するもので、従来別々の材料として供給され
ていた二つの機能を一つの基材上に有する特徴が
有る。 この結果、本発明の遮光性マスク層をを有する
製版用静電記録材料を使用すると、画像の現出が
明室下で実施することができ、またトナーの定着
により画像の現出も簡単に行える。 また画像の消去、修正が消ゴム等で用意に行
え、複写機等によるコピーも可能である。 更に、感光性フイルムと異なつて保存性、セル
フライフの問題が解消され半永久的に画像の現出
が可能であり、画像現出後さらに、異なつた画像
を現出させオーバーラツプすることも可能で、か
つ静電記録機器の機能から画像データーをデジタ
ル変換することによつて、ネガ、ポジ両方の画像
を現出することができる。 又、画像データーをフロツピーデイスクに保存
することができ、画像データーが必要なとき、同
一画像を多数枚現出することができる。 更には、遮光性マスク層の剥離作業を行う際、
遮光性マスク層が可視光線透過性であることか
ら、下に在る静電画像を目視することができ、容
易に不要部分をカツターナイフ等でカツテイン
グ、剥離が行え、例えば切り抜き文字版を簡単
に、しかも精度良く作成することが可能であり、
オリジナル版としてリスフイルム等に焼付け、第
二原図を作成することもできる利点がある。 そして又、静電画像記録層と剥離性マスク層が
表裏一体となつて構成されているので、位置ズレ
を生じることがなく、焼きボケも大幅に改善され
る等、写真製版の質的向上に優れた効果をもたら
すものである。 以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。 実施例 １ (イ) 剥離性マスク層作成用塗工液の調整 下記組成の成分をボールミルに入れ、分散混合
し塗工液を得た。 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 140重量部 （商品名：ビニライトVYHH ユニオンカーバイト社製品） アクリルニトリルゴム 50重量部 （商品名：ニツポールNS230 日本合成ゴム社製品） スチレン樹脂 20重量部 アゾ染料 12重量部 （商品名：ネオザポンレツドGE バスフ社製品） 微粉末シリカ 16重量部 （商品名：エアロジルOK412 富士デビソン社製品） メチルエチルケトン 600重量部 トルオール 200重量部 (ロ) 低抵抗層用塗工液の調整 導電性樹脂 10重量部 （商品名：ケミスタツト6300H 三洋化成社製品） メトキシメチロール化ナイロン ５重量部 （商品名：テイサンレジンEF30T 帝国化学社製品） 水溶性ポリエステル樹脂 ５重量部 （商品名：バイロナールMD1200 東洋紡社製品） 微粉末シリカ 0.1重量部 （商品名：サイロイド308 富士デビソン社製品） カルボキシ化澱粉 0.05重量部 メタノール 20重量部 水 70重量部 メチルセルソルブ 10重量部 (ハ) 誘電体層用塗工液の調整 スチレン樹脂 ５重量部 ポリビニルブチラール樹脂 10重量部 メチルセルロース ５重量部 微粉末シリカ １重量部 （商品名：サイロイド308 富士デビソン社製品） カルボキシ化澱粉 ２重量部 メチルエチルケトン 60重量部 トリオール 20重量部 厚さ50μ、体積抵抗値2.6×1018Ωcmのポリエチ
レンテレフタレートフイルムの片面に前記(ロ)によ
つて調整した低抵抗用塗工液をコーテイングバー
＃15にて塗布、乾燥して膜厚が約4μの低抵抗層
を得た。 次いで、その上に前記(ハ)によつて調整した誘電
体層用塗工液をコーテイングバー＃10にて塗布、
乾燥して膜厚が3.5μの誘電体層を設けた。 更にポリエチレンテレフタレートフイルムのも
う一方の面に前記(イ)によつて調整した剥離性マス
ク層作成用塗工液をリバースロールコーターによ
つて塗布、乾燥し、膜厚が25μの高い遮光性を有
する剥離性マスク層を設けることによつて遮光性
マスク層を有する製版用静電記録材料を得た。 前記の製版用静電記録材料をバーサテツク社製
静電記録装置V80により、速度1.2インチ／sec帯
電圧780Vで電荷を印加して潜像を現像定着した
ところ、鮮明な画像が得られた。 又、高い遮光性を有する剥離性マスク層の剥離
性も良好であつた。その結果を第１表に示す。 実施例 ２ 帯電防止材練込型ポリエステルフイルム支持体
（商品名：X53東レ社製品、厚さ75μ体積抵抗値
4.2×1013Ωcm）上に実施例１と同様にして低抵
抗層２、誘電体層３及び高い遮光性を有する剥離
性マスク層４を各々設けることによつて製版用静
電記録材料を得た。前記の静電記録材料をバーサ
テツク社製静電記録装置V80により、速度1.2イ
ンチ／sec帯電圧680Vで電荷を印加して潜像を現
像定着したところ、鮮明な画像が得られた。又、
高い遮光性を有する剥離性マスク層の剥離性も良
好であつた。その結果を第１表に示す。 実施例 ３ (ニ) ラミネート層用塗工液の調整 エチレン−酢酸ビニル共重合体 20重量部 （商品名：ソアレツクスDH 日本合成ゴム社製品） 微粉末シリカ 0.2重量部 （商品名：サイロイド308 富士デビソン社製品） メチルエチルケトン 50重量部 トリオール 30重量部 (ホ) ラミネート用高い遮光性を有するマスク層用
塗工液 ポリエステル樹脂 20.0重量部 （商品名：バイロン200 東洋紡社製品） アゾ染料 2.0重量部 （商品名：ネオザポンレツドGE バスフ社製品） アゾ染料 2.0重量部 （商品名：ネオザポンレツドGE バスフ社製品） レベリング剤 0.5重量部 （商品名：ペインタツトＭ ダウコーニング社製品） メチルエチルケトン 50.0重量部 トリオール 30.0重量部 厚さ20μのポリエチレンテレフタレートフイル
ム支持体の片面に前記(ホ)によつて調整したラミネ
ート用高い遮光性を有するマスク層用塗工液をリ
バースロールコーターにて塗工し、膜厚9μの遮
光性を有するマスク層４を設け、更に支持体４の
もう一方の面に前記(ニ)によつて調整したラミネー
ト用塗工液をコーテイングバー＃10にて塗工して
膜厚約3μの感圧接着が可能なラミネート層６を
設ける。次いで、予め準備したポリエチレンテレ
フタレートフイルム支持体（厚100μ体積抵抗5.3
×1018Ωcm）の片面に実施例１と同様にして低抵
抗体層２、誘電体層３を設けてある透明支持体１
のもう一方の面に、先にラミネートし層を約100
℃の熱ロール式ラミネーターにてラミネートし、
高い遮光性を有する剥離性マスク層（４，５，６
が一体となつた）を設けることによつて遮光性マ
スク層を有する製版用静電記録材料を得た。 この遮光性マスク層を有する静電記録材料の剥
離界面は、ラミネート層６と、透明支持体１の間
でラミネート層はマスク層の方に接着した支持体
面より剥離し、支持体面上にはラミネート層は残
らない。 この剥離性マスク層を有する製版用静電記録材
料を実施例１と同様の記録装置により、速度1.2
インチ／sec帯電圧700Vで電荷を印加して潜像を
現像定着したところ、鮮明な画像が得られた。そ
の結果を第１表に示す。 【表】
明性プラスチツクフイルム支持体の片面に静電記
録層を有し、他方の面に活性光線遮光性を有し、
且つ可視光線透過性を有する剥離性マスク層を有
する製版用静電記録津材料に関するものである。 従来、写真印刷の製版作業に於いて、文字やカ
ラー写真を含む貼り込み原稿からPS印刷のため
の分版されたフイルム原稿を作成する過程で銀塩
その他の反転感光材料或はマスキング材料と称さ
れている原稿の不要部分を選択的に遮光する材料
等が使用されている。そして前記のマスキング材
料としては、活性光線遮光性の着色剤をプラスチ
ツクスや紙に添加せしめた着色プラスチツクスフ
イルムや着色紙、或は透明プラスチツクフイルム
の片面に、活性光線を遮光する能力の有る剥離性
被膜等を設けたものが知られている。 前者のマスキング材料は、材料自体を切り抜い
てパターン化して使用し、後者のマスキング材料
はプラスチツクフイルム支持体上の着色被膜のみ
をカツターナイフなどで切り、必要部分だけを支
持体から剥離して遮光膜のパターン化を形成する
ものである。 このようなパターン化の作業は、通常貼込み原
稿又は撮影したリス原稿と重ねて行い、パターン
化されたマスキング材料は銀塩等の写真材料と透
明粘着テープでり合わせて次の工程の原稿とされ
ている。 前記した従来のマスキング作業に於いては、ナ
イフ等によるカツテイング作業中に原稿の位置ズ
レを起こし易く、又感光性フイルムとマスキング
材料が重なるため、感光乳剤面と遮光性被膜との
間のベース厚が増し、焼きボケが生じる欠陥があ
つた。 また銀塩材料に於いては、感光膜の露光、現像
工程を暗室内で処理しなければならず、作業能率
が悪く露光、現像に伴う装置が必要であつた。 一方、ジアゾニウム感光材料においては、現像
時にアンモニアを使用するため臭いの問題があつ
た。 前記のジアゾニウム感光材料は銀塩材料に比べ
てある程度明室化することができるものの、それ
でも安全光を必要とした。更に銀塩材料、ジアゾ
ニウム感光材料ともに貯蔵安定性の問題があり、
特にジアゾニウム感光材料はセルフライフが１年
前後と短く、又、その保存には冷暗所又は装置を
要した。 そして又、前記の銀塩材料、ジアゾニウム感光
材料ともに、オリジナル原稿より光学的に第二原
図を得るため、経時変化修正をおこなうに伴い、
一定期間オリジナル原稿を保管する必要が有り、
保管中のオリジナル原稿の保存中における温度変
化による寸法安定性に問題があり、経時変化に伴
う修正時に、オリジナル原稿と修正図面との間
に、位置ズレを起こし、オリジナル原稿と修正図
面とのトンボ合わせによる位置決めが困難であつ
た。 一方、紙質のマスキング材料は、温湿度の影響
を受けて反り易く、ネガ原稿の大面積をマスクし
て使用する場合など、寸法精度が悪く精密製版に
は問題があつた。 本発明は前記従来の製版材料の欠陥を解消した
もので、その要旨は、低抵抗層と誘電体層をその
表面に有する体積抵抗値が101〜1020Ωcmである
透明支持体の裏面に、活性光線遮光性を有し、且
つ可視光線透過性を有する剥離性マスク層を設け
て成ることを特徴とする遮光性マスク層を有する
製版用静電記録材料である。 以下、図面を基に本発明を具体的に説明する。
図面に於いて、第１図は本発明の一実施例を示す
拡大断面図、第２図は活性光線遮光性を有し、且
つ可視光線透過性を有する剥離性マスク層をラミ
ネートするタイプの一実施例を示す拡大断面図、
第３図は第１図の材料を静電画像処理し、誘電体
層上に静電画像を形成し、遮光性マスク層を一部
剥離した状態を示す拡大断面図、第４図は第２図
の材料を静電画像処理し、誘電体層上に静電画像
を形成し、遮光性マスク層を一部剥離した状態を
示す拡大断面図である。 図面に於いて１は透明支持体であり、ポリエチ
レンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリ塩化ビニル樹脂及びトリアセチルセルロ
ース樹脂等のフイルム又はシートである。 前記透明支持体１の体積抵抗値は101〜1020Ω
cmである。なお支持体自体が導電性を有する透明
支持体であつてもよい。この導電性を有する透明
支持体の体積抵抗値は105〜1012Ωcmの範囲のも
のが適している。 そして又、透明支持体１の表面には低抵抗層２
が設けてあり、更に低抵抗層２の表面には誘電体
層３が設けてある。 前記低抵抗層２は、導電剤、例えばポリビニル
ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、２
−アクロイルエチルトリメチルアンモニウムクロ
ライドとビニルスルホンとの共重合体およびスル
ホン化スチレンオリゴマー等をアクリル樹脂、メ
トキシメチロール化ナイロン、熱可塑性ポリエス
テル樹脂およびポリウレタン樹脂等のバインダー
を介して塗工することによつて得られる。 そして、前記低抵抗層２の上に設ける誘電体層
３は、アクリル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、ポリビニルブチラール樹脂、シリコーン樹
脂、ポリスチレン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体およびセルロース誘導体樹脂等を水、有
機溶媒に溶解または分散せしめた塗工液を塗工、
乾燥することによつて設ける。なおこの塗工液に
は改質剤として微粉末シリカ等が配合される。 本発明においては、前記透明支持体１の裏面に
活性光線遮光性を有し、且つ可視光線透過性を有
する剥離性マスク層４を設けてある。 前記の活性光線遮光性を有し、且つ可視光線透
過性を有する剥離性マスク層４は特に紫外線に対
して遮光効果があり、可視光線に対しては透過性
を有する顔料又は染料を可撓性の熱可塑性高分子
物質に溶解分散せしめたものである。 具体的にはポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共
重合体、ポリビニルブチラール、ポリビニルホル
マール、ポリアミド及びポリウレタン等の熱可塑
性高分子物質にアゾ系染顔料、アントラキノン系
染顔料、銅フタロシアニン系顔料、黄鉛、ベンガ
ラ及びカーボンブラツク等を配合し、更に有機溶
媒で両者を溶解又は分散することによつて得た遮
光性塗工液を透明支持体１の裏面に、ハケ塗り、
ナイフコーター、ロールコーター等で塗布乾燥す
ることによつて設ける。又、この剥離性マスク層
中には、必要に応じてカチオン系帯電防止剤、ノ
ニオン系帯電防止剤、アニオン系帯電防止剤が添
加される。 前記活性光線遮光性を有し、且つ可視光線透過
性を有する剥離マスク層４の厚さは５〜50μ、好
ましくは10〜30μである。その光線透過率はラツ
テン18Aフイルターで2.0以上必要であり、又体
積抵抗値は105〜1016Ωcmであれば良い。 又、活性光線遮光性を有し、且つ可視光線透過
性を有する剥離マスク層４の透明支持体１に対す
る接着強度は通常の作業で剥離し易い範囲内であ
れば良く、180°剥離による接着力が１cm幅当たり
10〜500gに設定できる。 10g以下では脱落し易く、又500g以上では被膜
が破断したり、剥離が困難になるので好ましくな
い。 活性光線遮光性を有し、且つ可視光線透過性を
有する剥離性マスク４を設けるもう一つの方法
は、前記遮光性塗工液を透明支持体１とは別の透
明支持体５の表面に塗布し、該透明支持体５の裏
面に、感圧、感熱接着が可能なラミネート層６を
介して透明支持体１の裏面にラミネーターにより
ラミネートする。 具体的には、透明支持体５の厚さは５〜100μ
であり、好ましくは10〜50μである。透明支持体
５の表面に前記遮光性塗工液を乾燥膜厚が10〜
30μになるように塗布乾燥し、更に透明支持体５
の裏面にラミネート層を１〜50μ、好ましくは３
〜10μ設けることによつて成される。該遮光性マ
スク層のラミネート層６と透明支持体１の誘電体
層とは反対の面に50〜200℃の温度範囲でラミネ
ーターによりラミネートする。 前記ラミネート層６に使用する材料としては、
エポキシ樹脂、フエノール樹脂、アクリルニトリ
ルゴム、ネオプレンゴム、ブチラール樹脂、アク
リルゴム、ブタジエンゴム、イソプレンコム、ポ
リウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル
樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、シリコー
ン樹脂、シアノアクリレート樹脂、ポリビニルピ
ロリドン樹脂等から採択される接着剤の１種又は
２種以上が挙げられる。そしてその光線透過率は
ラツテン18Aフイルターで2.0以上必要であり、
又、180°剥離による接着力は１cm当たり10〜500g
が好ましい。 かくのごとく構成された本発明の活性光線遮光
性を有し、且つ可視光線透過性を有する剥離性マ
スク層を有する製版用静電記録材料は、静電記録
材料の裏面に紫外線に対して高い遮光性を有する
剥離性被膜を具備し、又静電記録材料の表面に
は、静電画像を得るための低抵抗層と誘電体層を
具備するもので、従来別々の材料として供給され
ていた二つの機能を一つの基材上に有する特徴が
有る。 この結果、本発明の遮光性マスク層をを有する
製版用静電記録材料を使用すると、画像の現出が
明室下で実施することができ、またトナーの定着
により画像の現出も簡単に行える。 また画像の消去、修正が消ゴム等で用意に行
え、複写機等によるコピーも可能である。 更に、感光性フイルムと異なつて保存性、セル
フライフの問題が解消され半永久的に画像の現出
が可能であり、画像現出後さらに、異なつた画像
を現出させオーバーラツプすることも可能で、か
つ静電記録機器の機能から画像データーをデジタ
ル変換することによつて、ネガ、ポジ両方の画像
を現出することができる。 又、画像データーをフロツピーデイスクに保存
することができ、画像データーが必要なとき、同
一画像を多数枚現出することができる。 更には、遮光性マスク層の剥離作業を行う際、
遮光性マスク層が可視光線透過性であることか
ら、下に在る静電画像を目視することができ、容
易に不要部分をカツターナイフ等でカツテイン
グ、剥離が行え、例えば切り抜き文字版を簡単
に、しかも精度良く作成することが可能であり、
オリジナル版としてリスフイルム等に焼付け、第
二原図を作成することもできる利点がある。 そして又、静電画像記録層と剥離性マスク層が
表裏一体となつて構成されているので、位置ズレ
を生じることがなく、焼きボケも大幅に改善され
る等、写真製版の質的向上に優れた効果をもたら
すものである。 以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。 実施例 １ (イ) 剥離性マスク層作成用塗工液の調整 下記組成の成分をボールミルに入れ、分散混合
し塗工液を得た。 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 140重量部 （商品名：ビニライトVYHH ユニオンカーバイト社製品） アクリルニトリルゴム 50重量部 （商品名：ニツポールNS230 日本合成ゴム社製品） スチレン樹脂 20重量部 アゾ染料 12重量部 （商品名：ネオザポンレツドGE バスフ社製品） 微粉末シリカ 16重量部 （商品名：エアロジルOK412 富士デビソン社製品） メチルエチルケトン 600重量部 トルオール 200重量部 (ロ) 低抵抗層用塗工液の調整 導電性樹脂 10重量部 （商品名：ケミスタツト6300H 三洋化成社製品） メトキシメチロール化ナイロン ５重量部 （商品名：テイサンレジンEF30T 帝国化学社製品） 水溶性ポリエステル樹脂 ５重量部 （商品名：バイロナールMD1200 東洋紡社製品） 微粉末シリカ 0.1重量部 （商品名：サイロイド308 富士デビソン社製品） カルボキシ化澱粉 0.05重量部 メタノール 20重量部 水 70重量部 メチルセルソルブ 10重量部 (ハ) 誘電体層用塗工液の調整 スチレン樹脂 ５重量部 ポリビニルブチラール樹脂 10重量部 メチルセルロース ５重量部 微粉末シリカ １重量部 （商品名：サイロイド308 富士デビソン社製品） カルボキシ化澱粉 ２重量部 メチルエチルケトン 60重量部 トリオール 20重量部 厚さ50μ、体積抵抗値2.6×1018Ωcmのポリエチ
レンテレフタレートフイルムの片面に前記(ロ)によ
つて調整した低抵抗用塗工液をコーテイングバー
＃15にて塗布、乾燥して膜厚が約4μの低抵抗層
を得た。 次いで、その上に前記(ハ)によつて調整した誘電
体層用塗工液をコーテイングバー＃10にて塗布、
乾燥して膜厚が3.5μの誘電体層を設けた。 更にポリエチレンテレフタレートフイルムのも
う一方の面に前記(イ)によつて調整した剥離性マス
ク層作成用塗工液をリバースロールコーターによ
つて塗布、乾燥し、膜厚が25μの高い遮光性を有
する剥離性マスク層を設けることによつて遮光性
マスク層を有する製版用静電記録材料を得た。 前記の製版用静電記録材料をバーサテツク社製
静電記録装置V80により、速度1.2インチ／sec帯
電圧780Vで電荷を印加して潜像を現像定着した
ところ、鮮明な画像が得られた。 又、高い遮光性を有する剥離性マスク層の剥離
性も良好であつた。その結果を第１表に示す。 実施例 ２ 帯電防止材練込型ポリエステルフイルム支持体
（商品名：X53東レ社製品、厚さ75μ体積抵抗値
4.2×1013Ωcm）上に実施例１と同様にして低抵
抗層２、誘電体層３及び高い遮光性を有する剥離
性マスク層４を各々設けることによつて製版用静
電記録材料を得た。前記の静電記録材料をバーサ
テツク社製静電記録装置V80により、速度1.2イ
ンチ／sec帯電圧680Vで電荷を印加して潜像を現
像定着したところ、鮮明な画像が得られた。又、
高い遮光性を有する剥離性マスク層の剥離性も良
好であつた。その結果を第１表に示す。 実施例 ３ (ニ) ラミネート層用塗工液の調整 エチレン−酢酸ビニル共重合体 20重量部 （商品名：ソアレツクスDH 日本合成ゴム社製品） 微粉末シリカ 0.2重量部 （商品名：サイロイド308 富士デビソン社製品） メチルエチルケトン 50重量部 トリオール 30重量部 (ホ) ラミネート用高い遮光性を有するマスク層用
塗工液 ポリエステル樹脂 20.0重量部 （商品名：バイロン200 東洋紡社製品） アゾ染料 2.0重量部 （商品名：ネオザポンレツドGE バスフ社製品） アゾ染料 2.0重量部 （商品名：ネオザポンレツドGE バスフ社製品） レベリング剤 0.5重量部 （商品名：ペインタツトＭ ダウコーニング社製品） メチルエチルケトン 50.0重量部 トリオール 30.0重量部 厚さ20μのポリエチレンテレフタレートフイル
ム支持体の片面に前記(ホ)によつて調整したラミネ
ート用高い遮光性を有するマスク層用塗工液をリ
バースロールコーターにて塗工し、膜厚9μの遮
光性を有するマスク層４を設け、更に支持体４の
もう一方の面に前記(ニ)によつて調整したラミネー
ト用塗工液をコーテイングバー＃10にて塗工して
膜厚約3μの感圧接着が可能なラミネート層６を
設ける。次いで、予め準備したポリエチレンテレ
フタレートフイルム支持体（厚100μ体積抵抗5.3
×1018Ωcm）の片面に実施例１と同様にして低抵
抗体層２、誘電体層３を設けてある透明支持体１
のもう一方の面に、先にラミネートし層を約100
℃の熱ロール式ラミネーターにてラミネートし、
高い遮光性を有する剥離性マスク層（４，５，６
が一体となつた）を設けることによつて遮光性マ
スク層を有する製版用静電記録材料を得た。 この遮光性マスク層を有する静電記録材料の剥
離界面は、ラミネート層６と、透明支持体１の間
でラミネート層はマスク層の方に接着した支持体
面より剥離し、支持体面上にはラミネート層は残
らない。 この剥離性マスク層を有する製版用静電記録材
料を実施例１と同様の記録装置により、速度1.2
インチ／sec帯電圧700Vで電荷を印加して潜像を
現像定着したところ、鮮明な画像が得られた。そ
の結果を第１表に示す。 【表】
第１図は本発明の遮光性マスク層を有する製版
用静電記録材料の一実施例を示す拡大断面図、第
２図は遮光性マスク層をラミネートするタイプの
一実施例を示す拡大断面図、第３図は第１図の材
料を静電画像処理し、誘電体層上に静電画像を形
成し、遮光性マスク層の一部を剥離した状態を示
す拡大断面図、第４図は第２図の材料を静電画像
処理し、誘電体層上に静電画像を形成し、遮光性
マスク層の一部を剥離した状態を示す拡大断面図
である。 １……透明支持体、２……低抵抗層、３……誘
電体層、４……活性光線遮光性を有し、可視光線
透過性を有する剥離性マスク層、５……剥離性マ
スク層支持体、６……ラミネート層、７……静電
画像。
用静電記録材料の一実施例を示す拡大断面図、第
２図は遮光性マスク層をラミネートするタイプの
一実施例を示す拡大断面図、第３図は第１図の材
料を静電画像処理し、誘電体層上に静電画像を形
成し、遮光性マスク層の一部を剥離した状態を示
す拡大断面図、第４図は第２図の材料を静電画像
処理し、誘電体層上に静電画像を形成し、遮光性
マスク層の一部を剥離した状態を示す拡大断面図
である。 １……透明支持体、２……低抵抗層、３……誘
電体層、４……活性光線遮光性を有し、可視光線
透過性を有する剥離性マスク層、５……剥離性マ
スク層支持体、６……ラミネート層、７……静電
画像。
Claims (1)
- １ 低抵抗層と誘電体層をその表面に有する体積
抵抗値が101〜1020Ωcmである透明支持体の裏面
に、活性光線遮光性を有し、且つ可視光線透過性
を有する剥離性マスク層を設けて成ることを特徴
とする遮光性マスク層を有する製版用静電記録材
料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58200561A JPS6091363A (ja) | 1983-10-26 | 1983-10-26 | 遮光性マスク層を有する製版用静電記録材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58200561A JPS6091363A (ja) | 1983-10-26 | 1983-10-26 | 遮光性マスク層を有する製版用静電記録材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6091363A JPS6091363A (ja) | 1985-05-22 |
| JPH0473773B2 true JPH0473773B2 (ja) | 1992-11-24 |
Family
ID=16426359
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58200561A Granted JPS6091363A (ja) | 1983-10-26 | 1983-10-26 | 遮光性マスク層を有する製版用静電記録材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6091363A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6374052A (ja) * | 1986-09-18 | 1988-04-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成材料 |
-
1983
- 1983-10-26 JP JP58200561A patent/JPS6091363A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6091363A (ja) | 1985-05-22 |
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