JPH0474564A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
- Publication number
- JPH0474564A JPH0474564A JP2189176A JP18917690A JPH0474564A JP H0474564 A JPH0474564 A JP H0474564A JP 2189176 A JP2189176 A JP 2189176A JP 18917690 A JP18917690 A JP 18917690A JP H0474564 A JPH0474564 A JP H0474564A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cup
- wafer
- mounting table
- container
- size
- Prior art date
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
この発明は、塗布装置に関する。
半導体製造工程のフォトリソグラフィー工程においては
、被処理体例えば半導体ウェーハにホトレジスト膜を塗
布した後、露光を行い、所望パターンのマスクを形成し
、その後、エツチング処理等を行うようにする。 前記ホトレジスト膜はウェーハの全面ニ渡って均一な厚
さになるようにする必要があり、一般に回転塗布装置が
用いられる。 この回転塗布装置は、カップ状容器からなる処理室（以
下スピンナカップという）内に回転載置台を有し、この
回転載置台にウェーハを真空吸むして固定し、一方、回
転載置台の上方のスピンナカップの開口位置にレジスト
液供給用のノズルを設置する。そして、このノズルから
ホトレジスト液を回転載置台に吸着固定されたウェー八
表面上に滴下し、スピンナカップ内を排気しながら回転
載置台を回転させてウェーハを回転し、その回転遠心力
によりレジスト液をウェーハ全面に拡げ、これと同時に
不要な液をウェーハ外へ飛散させ、その回転数及び回転
時間を調節することにより所望の厚さのホトレジスト膜
をウェーハ表面上に形成する。 ところで、この回転塗布装置において、不要なレジスト
液をウェーハ外に飛散させたとき、そのレジスト液がス
ピンナカップの内壁に当たって跳ね返り、その跳ね返り
のレジスト飛沫がウェーハ上に付着し、ウェーハ上に均
一なレジスト膜の塗布ができなくなってしまう。 このため、従来からこの跳ね返りのレジスト飛沫がウェ
ーハ上に付着しないようにするため、スピンナカップ内
に固定的に筒状仕切板を設けたり（特開昭５１−１５１
７３８号）、スピンナカップにレジスタ液跳ね返り防止
板やレジスタ液反射板を取り付けたり（特開昭６１−４
６０２８号）、また、ウェーハの周りとは僅かに離して
リング状遮蔽板を設ける（特公昭５３−３７７０１号）
等の方策が採られている。
、被処理体例えば半導体ウェーハにホトレジスト膜を塗
布した後、露光を行い、所望パターンのマスクを形成し
、その後、エツチング処理等を行うようにする。 前記ホトレジスト膜はウェーハの全面ニ渡って均一な厚
さになるようにする必要があり、一般に回転塗布装置が
用いられる。 この回転塗布装置は、カップ状容器からなる処理室（以
下スピンナカップという）内に回転載置台を有し、この
回転載置台にウェーハを真空吸むして固定し、一方、回
転載置台の上方のスピンナカップの開口位置にレジスト
液供給用のノズルを設置する。そして、このノズルから
ホトレジスト液を回転載置台に吸着固定されたウェー八
表面上に滴下し、スピンナカップ内を排気しながら回転
載置台を回転させてウェーハを回転し、その回転遠心力
によりレジスト液をウェーハ全面に拡げ、これと同時に
不要な液をウェーハ外へ飛散させ、その回転数及び回転
時間を調節することにより所望の厚さのホトレジスト膜
をウェーハ表面上に形成する。 ところで、この回転塗布装置において、不要なレジスト
液をウェーハ外に飛散させたとき、そのレジスト液がス
ピンナカップの内壁に当たって跳ね返り、その跳ね返り
のレジスト飛沫がウェーハ上に付着し、ウェーハ上に均
一なレジスト膜の塗布ができなくなってしまう。 このため、従来からこの跳ね返りのレジスト飛沫がウェ
ーハ上に付着しないようにするため、スピンナカップ内
に固定的に筒状仕切板を設けたり（特開昭５１−１５１
７３８号）、スピンナカップにレジスタ液跳ね返り防止
板やレジスタ液反射板を取り付けたり（特開昭６１−４
６０２８号）、また、ウェーハの周りとは僅かに離して
リング状遮蔽板を設ける（特公昭５３−３７７０１号）
等の方策が採られている。
ところが、従来のレジスト液跳ね返り付着防止用の筒状
仕切板や跳ね返り防止板等は、スピンナカップに固定的
取り付けてあり、取り外しができないので、メインテナ
ンスが面倒であった。 また、塗布処理を行う半導体ウェーハが変更された場合
には、そのウェーハサイズに対応した寸法に変更するこ
とができず、ウェーハサイズ似合わせた塗布装置を用意
する必要があるなどの欠点があった。 この発明は、以上の点にかんがみ、メインテナンスが容
易で、被処理体の大きさの変更に応じて適切な構造に容
易に変更可能なレジスト跳ね返りの付着の防止手段を備
えた塗布装置を提供しようとするものである。
仕切板や跳ね返り防止板等は、スピンナカップに固定的
取り付けてあり、取り外しができないので、メインテナ
ンスが面倒であった。 また、塗布処理を行う半導体ウェーハが変更された場合
には、そのウェーハサイズに対応した寸法に変更するこ
とができず、ウェーハサイズ似合わせた塗布装置を用意
する必要があるなどの欠点があった。 この発明は、以上の点にかんがみ、メインテナンスが容
易で、被処理体の大きさの変更に応じて適切な構造に容
易に変更可能なレジスト跳ね返りの付着の防止手段を備
えた塗布装置を提供しようとするものである。
この発明は、カップ状容器内に、被処理体を保持して回
転する回転載置台が設けられ、この回転載置台の上方位
置の前記カップ状容器の開口部から処理液を前記回転載
置台上の被処理体表面に供給し、この被処理体］を回転
載置台により回転させることにより前記被処理体の表面
に所望の厚さに処理液を塗布する装置において、 前記被処理体から飛散する処理液が前記カップ状容器の
壁に当たって前記被処理体に跳ね返るのを防止するため
の環状跳ね返り防止具を前記カップ状容器の前記開口部
に着脱自在に取り付けたことを特徴とする。
転する回転載置台が設けられ、この回転載置台の上方位
置の前記カップ状容器の開口部から処理液を前記回転載
置台上の被処理体表面に供給し、この被処理体］を回転
載置台により回転させることにより前記被処理体の表面
に所望の厚さに処理液を塗布する装置において、 前記被処理体から飛散する処理液が前記カップ状容器の
壁に当たって前記被処理体に跳ね返るのを防止するため
の環状跳ね返り防止具を前記カップ状容器の前記開口部
に着脱自在に取り付けたことを特徴とする。
この発明においては、環状の跳ね返り付着防止具は、カ
ップ状容器の開口部に着脱自在に嵌合されているので、
容易に取り外しが可能で、補修も容易である。 また、被処理体のサイズが変更されたら、環状跳ね返り
付着防止具もそのサイズに合わせて変更することができ
る。
ップ状容器の開口部に着脱自在に嵌合されているので、
容易に取り外しが可能で、補修も容易である。 また、被処理体のサイズが変更されたら、環状跳ね返り
付着防止具もそのサイズに合わせて変更することができ
る。
以下、この発明の一実施例をレジスト塗布装置の場合を
例にとって、図を参照しながら説明する。 第１図は、この例のレジスト塗布装置の縦断面図を示す
もので、スピンナカップ１は、例えばＳＵＳからなり、
カップ状形状をしている。 このスピンナカップ１は、同心円状の垂直壁２゜３が底
部で連続されて溝部４を有しており、この溝部４の底部
の図の左側の一部に貫通孔５が設けられ、この貫通孔５
が排液ダクト６に連通されている。 そして、外側の垂直壁２の上端縁には、水平方向に対し
て所定角度、例えば３０°の傾斜を有する折り曲げ部材
７が取り付けられて、外カップ８が構成されている。こ
の折り曲げ部材７は、その中央部が開ロアＡとされた環
状の構造となっている。また、内側の垂直壁３には、内
カツプ部材１０が取り付けられている。この内カツプ部
材１゜は、断面がＬ字形の部分９と、水平方向に対して
所定角度例えば１５°の傾斜を有する傾斜部１１と、こ
の傾斜部１１から後述する回転載置台２゜の近傍まで水
平に延びる水平延長部１２と、前記傾斜部１１から前記
溝部４内に垂直に折り曲げられた垂直延長部１３とを備
える。また、前記り字形の部分９の底部には、排気ダク
ト９Ａが取り付けられており、図示しない排気ブロワ−
によって強制排気がなされるように構成されている。 そして、以上のように構成されたスピンナカップ１内に
、回転載置台２０を設置する。この場合回転載置台２０
は、図示しない回転機構により回転軸２１を中心に高速
回転するように構成されている。 また、回転載置台２０は、その載置面が前記内カップ部
材１０の水平延長部１２よりも若干高くなるような状態
で設定されている。したがって、図に示すように、回転
載置台２０上にウェーハＷが載置されたとき、回転載置
台２０より外側にはみだすウェーハＷの裏面は、内カツ
プ部＋４’ １０に対面するようになっている。 そして、外カップ８を構成する折り曲げ片７の開ロアＡ
の端縁に、環状の跳ね返り付着防止板３０が嵌合されて
、着脱自在に取り付けられている。 この環状の跳ね返り付着防止板３０は、例えばデルリン
製で、外カップ８の開ロアＡの径よりも大なる径の外周
と、外カップ８．の開ロアＡよりも小なる径の内周とで
挾まれる環状部３１と、この環状部３１よりスピンナカ
ップ１の内方に向かう突起片３２とて構成され、第２図
にも示すように断面がＬ字状になっている。そして、突
起片３２は、外カップ８の折り曲げ片７の厚さよりも長
く、載置台２０上のウェーハＷ表面より若干高い位置ま
で延長されている。 そして、この場合、突起片３２の外周側面３２Ａの径が
、開ロアＡの径にほぼ等しくなるように選定されるとと
もに、この例では突起片３２は、その先端にゆくほど厚
さが薄くなるように、突起片３２の外周側面３２Ａがテ
ーパ面とされている。 このテーパ面により、跳ね返り付着防止板３０を外カッ
プ８の開ロアＡ部に取り付ける際に、外カップ８と防止
板３０とが、こすれ合うことなく、嵌合させることがで
き、両者の接触によるゴミの発生を防止することができ
る。そして、環状部３１と外カップ８の折り曲げ片７と
が確実に接触して防止板３０の自重によって固定される
。 なお、勿論、摺動嵌合、圧入嵌合、螺合、止め金など、
着脱自在であればよい。 第３図は、跳ね返り付着防止板３０の他の例で、この例
の場合には、この防止板３０の突起片３２の外周側面３
２Ａが、図のように外方に膨出する形状となっており、
この膨出形状により防止板３０が外カップ８から弱い力
では外れないようにされて、しっかりと固定される。 さらに、外カップ８の開ロアＡの上方には、レジスト液
の供給用ノズル４０が設置されている。 次に、このレジスト塗布装置の動作について説明する。 まず、レジスト液が所定量、ノズル４０よりつ工−ハＷ
上に滴下される。次に、排気口から図示しない排気ブロ
アーにより吸引して排気を行いながら、同転載置台２０
が回転してウェーハＷが回転し、遠心力によりレジスト
がウェーハＷの全面に拡げられる。そして、不要なレジ
スト液がつ工−ハＷから振り飛ばされる。この振り飛ば
されたレジスト飛沫は、排気により図示のように下方に
吸引されるとともに、スピンナカップ１の内壁面に当た
って、ウェーハＷの表面側に跳ね返ろうとするが、防止
板３０の突起片３２の存在により、そのレジスト飛沫が
ウェーハＷの表面に付着するのが防止される。 また、内カツプ部材１０の傾斜部１１によりウェーハＷ
の裏面への跳ね返りも防止される。すなわち、ウェーハ
Ｗから振り飛ばされたレジスト飛沫は、内カツプ部材１
０の傾斜部１１に当たって跳ね返るが、その跳ね返りは
傾斜部１］によりウェーハＷ側には殆ど生じない。 以上のようなレジスト塗布処理を複数枚のウェハについ
て行うと、跳ね返り付着防止板３０が汚れる。このとき
は、この跳ね返り付着防止板３０が取り外し可能である
ので、防止板３０をスピンナカップ１から取り外し、洗
浄を行ったり、新たな防止板３０に取り替えたりするこ
とができる。 また、レジスト塗布するウェーハを、サイズの異なるも
のに変更したときは、それに応じたサイズの跳ね返り１
７１着防止板に変更することが容易に交換できる。例え
ば、ウェーハサイズがより小さいものの場合には、跳ね
返り付着防止板３０として突起片３２の部分の厚みが厚
く、中央の開口の大きさがウェーハサイズに応じて小さ
くなるものに交換する。ウェーハサイズが大幅に変わる
場合には、カップ等の寸法がウェーハサイズに対応して
変化するが、その場合には、跳ね返り付着防止板３０と
して環状部３１のサイズ及び突起片３２の厚みは同じで
あるが、カップ等の寸法をウェーハサイズに対応させて
形成したものを使用するようにしてもよい。すなわち、
例えば、跳ね返り付着防止板３０の内径ｄを、ウェーハ
サイズが４インチである場合には１１．２ｍｍ、５イン
チである場合には１３７ｍｍ、６インチである場合には
１−６２關というように変更するものである。 なお、以上の例ではウェーハのレジスト塗布装置に、こ
の発明を適用した場合であるが、この発明は、現像処理
液やその他の処理液を塗布する装置の全てに適用可能で
あり、また、被処理体としては、ウェーハに限られるも
のではないことは言うまでもない。 パパ
例にとって、図を参照しながら説明する。 第１図は、この例のレジスト塗布装置の縦断面図を示す
もので、スピンナカップ１は、例えばＳＵＳからなり、
カップ状形状をしている。 このスピンナカップ１は、同心円状の垂直壁２゜３が底
部で連続されて溝部４を有しており、この溝部４の底部
の図の左側の一部に貫通孔５が設けられ、この貫通孔５
が排液ダクト６に連通されている。 そして、外側の垂直壁２の上端縁には、水平方向に対し
て所定角度、例えば３０°の傾斜を有する折り曲げ部材
７が取り付けられて、外カップ８が構成されている。こ
の折り曲げ部材７は、その中央部が開ロアＡとされた環
状の構造となっている。また、内側の垂直壁３には、内
カツプ部材１０が取り付けられている。この内カツプ部
材１゜は、断面がＬ字形の部分９と、水平方向に対して
所定角度例えば１５°の傾斜を有する傾斜部１１と、こ
の傾斜部１１から後述する回転載置台２゜の近傍まで水
平に延びる水平延長部１２と、前記傾斜部１１から前記
溝部４内に垂直に折り曲げられた垂直延長部１３とを備
える。また、前記り字形の部分９の底部には、排気ダク
ト９Ａが取り付けられており、図示しない排気ブロワ−
によって強制排気がなされるように構成されている。 そして、以上のように構成されたスピンナカップ１内に
、回転載置台２０を設置する。この場合回転載置台２０
は、図示しない回転機構により回転軸２１を中心に高速
回転するように構成されている。 また、回転載置台２０は、その載置面が前記内カップ部
材１０の水平延長部１２よりも若干高くなるような状態
で設定されている。したがって、図に示すように、回転
載置台２０上にウェーハＷが載置されたとき、回転載置
台２０より外側にはみだすウェーハＷの裏面は、内カツ
プ部＋４’ １０に対面するようになっている。 そして、外カップ８を構成する折り曲げ片７の開ロアＡ
の端縁に、環状の跳ね返り付着防止板３０が嵌合されて
、着脱自在に取り付けられている。 この環状の跳ね返り付着防止板３０は、例えばデルリン
製で、外カップ８の開ロアＡの径よりも大なる径の外周
と、外カップ８．の開ロアＡよりも小なる径の内周とで
挾まれる環状部３１と、この環状部３１よりスピンナカ
ップ１の内方に向かう突起片３２とて構成され、第２図
にも示すように断面がＬ字状になっている。そして、突
起片３２は、外カップ８の折り曲げ片７の厚さよりも長
く、載置台２０上のウェーハＷ表面より若干高い位置ま
で延長されている。 そして、この場合、突起片３２の外周側面３２Ａの径が
、開ロアＡの径にほぼ等しくなるように選定されるとと
もに、この例では突起片３２は、その先端にゆくほど厚
さが薄くなるように、突起片３２の外周側面３２Ａがテ
ーパ面とされている。 このテーパ面により、跳ね返り付着防止板３０を外カッ
プ８の開ロアＡ部に取り付ける際に、外カップ８と防止
板３０とが、こすれ合うことなく、嵌合させることがで
き、両者の接触によるゴミの発生を防止することができ
る。そして、環状部３１と外カップ８の折り曲げ片７と
が確実に接触して防止板３０の自重によって固定される
。 なお、勿論、摺動嵌合、圧入嵌合、螺合、止め金など、
着脱自在であればよい。 第３図は、跳ね返り付着防止板３０の他の例で、この例
の場合には、この防止板３０の突起片３２の外周側面３
２Ａが、図のように外方に膨出する形状となっており、
この膨出形状により防止板３０が外カップ８から弱い力
では外れないようにされて、しっかりと固定される。 さらに、外カップ８の開ロアＡの上方には、レジスト液
の供給用ノズル４０が設置されている。 次に、このレジスト塗布装置の動作について説明する。 まず、レジスト液が所定量、ノズル４０よりつ工−ハＷ
上に滴下される。次に、排気口から図示しない排気ブロ
アーにより吸引して排気を行いながら、同転載置台２０
が回転してウェーハＷが回転し、遠心力によりレジスト
がウェーハＷの全面に拡げられる。そして、不要なレジ
スト液がつ工−ハＷから振り飛ばされる。この振り飛ば
されたレジスト飛沫は、排気により図示のように下方に
吸引されるとともに、スピンナカップ１の内壁面に当た
って、ウェーハＷの表面側に跳ね返ろうとするが、防止
板３０の突起片３２の存在により、そのレジスト飛沫が
ウェーハＷの表面に付着するのが防止される。 また、内カツプ部材１０の傾斜部１１によりウェーハＷ
の裏面への跳ね返りも防止される。すなわち、ウェーハ
Ｗから振り飛ばされたレジスト飛沫は、内カツプ部材１
０の傾斜部１１に当たって跳ね返るが、その跳ね返りは
傾斜部１］によりウェーハＷ側には殆ど生じない。 以上のようなレジスト塗布処理を複数枚のウェハについ
て行うと、跳ね返り付着防止板３０が汚れる。このとき
は、この跳ね返り付着防止板３０が取り外し可能である
ので、防止板３０をスピンナカップ１から取り外し、洗
浄を行ったり、新たな防止板３０に取り替えたりするこ
とができる。 また、レジスト塗布するウェーハを、サイズの異なるも
のに変更したときは、それに応じたサイズの跳ね返り１
７１着防止板に変更することが容易に交換できる。例え
ば、ウェーハサイズがより小さいものの場合には、跳ね
返り付着防止板３０として突起片３２の部分の厚みが厚
く、中央の開口の大きさがウェーハサイズに応じて小さ
くなるものに交換する。ウェーハサイズが大幅に変わる
場合には、カップ等の寸法がウェーハサイズに対応して
変化するが、その場合には、跳ね返り付着防止板３０と
して環状部３１のサイズ及び突起片３２の厚みは同じで
あるが、カップ等の寸法をウェーハサイズに対応させて
形成したものを使用するようにしてもよい。すなわち、
例えば、跳ね返り付着防止板３０の内径ｄを、ウェーハ
サイズが４インチである場合には１１．２ｍｍ、５イン
チである場合には１３７ｍｍ、６インチである場合には
１−６２關というように変更するものである。 なお、以上の例ではウェーハのレジスト塗布装置に、こ
の発明を適用した場合であるが、この発明は、現像処理
液やその他の処理液を塗布する装置の全てに適用可能で
あり、また、被処理体としては、ウェーハに限られるも
のではないことは言うまでもない。 パパ
以上説明したように、この発明によれば、処理液の被処
理体への跳ね返り付着防止板を、カップ状容器の開口に
着脱自在に取り付けるようにしたので、この跳ね返り付
着防止板を取り替えたり、洗浄することにより、跳ね返
った不要処理液の処理を行うことができ、メインテナン
スが容易になるとともに、塗布対象となる被処理体のサ
イズの変更に応して、跳ね返り付着防止板を交換するこ
とができる。
理体への跳ね返り付着防止板を、カップ状容器の開口に
着脱自在に取り付けるようにしたので、この跳ね返り付
着防止板を取り替えたり、洗浄することにより、跳ね返
った不要処理液の処理を行うことができ、メインテナン
スが容易になるとともに、塗布対象となる被処理体のサ
イズの変更に応して、跳ね返り付着防止板を交換するこ
とができる。
第１図は、この発明の一実施例のレジスト塗布装置を示
す図、第２図及び第３図は、跳ね返り付着防止板の例の
断面図である。 １；スピンナカップ ６；排液ダクト ７；折り曲げ片 ８；外カップ ９Ａ、排気ダクト １０；内カツプ部材 ２０；回転載置台 ３０；跳ね返り付着防止板 ３１；環状部 ３２；突起片 Ｗ；半導体ウェーハ 代理人 弁理士 佐 藤 正 美
す図、第２図及び第３図は、跳ね返り付着防止板の例の
断面図である。 １；スピンナカップ ６；排液ダクト ７；折り曲げ片 ８；外カップ ９Ａ、排気ダクト １０；内カツプ部材 ２０；回転載置台 ３０；跳ね返り付着防止板 ３１；環状部 ３２；突起片 Ｗ；半導体ウェーハ 代理人 弁理士 佐 藤 正 美
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 カップ状容器内に、被処理体を保持して回転する回転
載置台が設けられ、この回転載置台の上方位置の前記カ
ップ状容器の開口部から処理液を前記回転載置台上の被
処理体表面に供給し、この被処理体を回転載置台により
回転させることにより前記被処理体の表面に所望の厚さ
に処理液を塗布する装置において、 前記被処理体から飛散する処理液が前記カップ状容器の
壁に当たって前記被処理体に跳ね返るのを防止するため
の環状跳ね返り防止具を前記カップ状容器の前記開口部
に着脱自在に取り付けたことを特徴とする塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2189176A JP2849863B2 (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2189176A JP2849863B2 (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | 塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0474564A true JPH0474564A (ja) | 1992-03-09 |
| JP2849863B2 JP2849863B2 (ja) | 1999-01-27 |
Family
ID=16236762
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2189176A Expired - Lifetime JP2849863B2 (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2849863B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5861061A (en) * | 1996-06-21 | 1999-01-19 | Micron Technology, Inc. | Spin coating bowl |
| CN111299070A (zh) * | 2018-12-11 | 2020-06-19 | 聚昌科技股份有限公司 | 消除扰流的液气分离式涂布机结构 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6784546B2 (ja) * | 2016-09-08 | 2020-11-11 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置 |
-
1990
- 1990-07-17 JP JP2189176A patent/JP2849863B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5861061A (en) * | 1996-06-21 | 1999-01-19 | Micron Technology, Inc. | Spin coating bowl |
| CN111299070A (zh) * | 2018-12-11 | 2020-06-19 | 聚昌科技股份有限公司 | 消除扰流的液气分离式涂布机结构 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2849863B2 (ja) | 1999-01-27 |
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