JPH0474782A - 施釉装置 - Google Patents
施釉装置Info
- Publication number
- JPH0474782A JPH0474782A JP18241290A JP18241290A JPH0474782A JP H0474782 A JPH0474782 A JP H0474782A JP 18241290 A JP18241290 A JP 18241290A JP 18241290 A JP18241290 A JP 18241290A JP H0474782 A JPH0474782 A JP H0474782A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- belt line
- glazing
- glaze
- tile
- tiles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims abstract description 27
- 238000009434 installation Methods 0.000 abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Spray Control Apparatus (AREA)
- Specific Conveyance Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、タイルの表裏両面に良好に施釉し得る施釉
装置に関するものである。
装置に関するものである。
(従来技術及びその課題)
従来、タイル面に釉薬を塗布する工程においては、ベル
トライン上にタイルを載せて移送する過程においてスプ
レーブース内で釉薬をスプレーしてタイル面に塗布して
おり、タイル面の裏側にも釉薬を塗布するためには裏面
用の別のベルトラインとスプレーブースが必要であり、
タイル面の表裏両側に釉薬を塗布する施釉装置は、その
ベルトラインが極めて長いものとなり、設置スペースが
増大するとともに、表側及び裏側のそれぞれのスプレー
ブース等を管理するために管理が困難となり、又、裏側
用と表側用ではそれぞれ別のスプレーブースが使用され
るため、タイルの表裏側では釉薬の塗布状態に差が生じ
るという問題点があった。
トライン上にタイルを載せて移送する過程においてスプ
レーブース内で釉薬をスプレーしてタイル面に塗布して
おり、タイル面の裏側にも釉薬を塗布するためには裏面
用の別のベルトラインとスプレーブースが必要であり、
タイル面の表裏両側に釉薬を塗布する施釉装置は、その
ベルトラインが極めて長いものとなり、設置スペースが
増大するとともに、表側及び裏側のそれぞれのスプレー
ブース等を管理するために管理が困難となり、又、裏側
用と表側用ではそれぞれ別のスプレーブースが使用され
るため、タイルの表裏側では釉薬の塗布状態に差が生じ
るという問題点があった。
(課題を解決するための手段)
本発明は上記従来の問題点に鑑み案出したものであって
、設置スペースが小となり管理の容易な施釉装置を提供
せんことを目的とし、その第1の要旨は、タイル面に釉
薬を塗布し得るスプレブースを備えた施釉ベルトライン
と、該施釉ベルトラインへ前記釉薬を塗布したタイルを
再移送し得る戻しベルトラインとを主体として構成した
ことである。
、設置スペースが小となり管理の容易な施釉装置を提供
せんことを目的とし、その第1の要旨は、タイル面に釉
薬を塗布し得るスプレブースを備えた施釉ベルトライン
と、該施釉ベルトラインへ前記釉薬を塗布したタイルを
再移送し得る戻しベルトラインとを主体として構成した
ことである。
又、第2の要旨は、タイル面に釉薬を塗布し得るスプレ
ーブースを備えた施釉ベルトラインと、該施釉ベルトラ
インに並設された戻しベルトラインと、該戻しベルトラ
インと前記施釉ベルトライン間に配設され、タイルの移
送方向を変換させ得る回転可能な方向変換装置とを主体
として構成したことである。
ーブースを備えた施釉ベルトラインと、該施釉ベルトラ
インに並設された戻しベルトラインと、該戻しベルトラ
インと前記施釉ベルトライン間に配設され、タイルの移
送方向を変換させ得る回転可能な方向変換装置とを主体
として構成したことである。
又、第3の要旨は、タイル面に釉薬を塗布し得るスプレ
ーブースを備えた施紬ベルトラインと、該施釉ベルトラ
インにほぼ平行状に設けられた戻しベルトラインと、該
戻しベルトラインと前記施釉ベルトラインの両端側にそ
れぞれ配設され、その上面側にタイルを載せて一方側の
ベルトラインから他方側のベルトラインへタイルを移送
し得る回転可能な回転テーブルと、該各回転テーブルの
上方に回転可能に設けられ前記回転テーブル上のタイル
の移送をガイドしてタイルに方向性を与えるガイド円板
とを主体として構成したことである。
ーブースを備えた施紬ベルトラインと、該施釉ベルトラ
インにほぼ平行状に設けられた戻しベルトラインと、該
戻しベルトラインと前記施釉ベルトラインの両端側にそ
れぞれ配設され、その上面側にタイルを載せて一方側の
ベルトラインから他方側のベルトラインへタイルを移送
し得る回転可能な回転テーブルと、該各回転テーブルの
上方に回転可能に設けられ前記回転テーブル上のタイル
の移送をガイドしてタイルに方向性を与えるガイド円板
とを主体として構成したことである。
(作用)
スプレーブースを備えた施釉ベルトライン上を移送させ
る過程において、スプレーブース内でタイルの表面に釉
薬を塗布することができ、表面に釉薬を塗布した状態で
、タイルは戻しベルトラインに移され、タイルは戻しベ
ルトライン上を移送されて再び施釉ベルトライン上に戻
ることができ、この時に反転装置等によりタイルの表裏
を反転させれば施釉ベルトライン上のスプレーブース内
でタイルの裏側にも釉薬を塗布することかでき、同一の
スプレーブースを利用して同一の条件でタイルの表裏側
に良好に釉薬を塗布することができる。尚、戻しベルト
ラインと施釉ベルトライン間にターンテーブル等の方向
変換装置を配設しておけば、タイルの移送方向をこの方
向変換装置により良好に変換させることができ、さらに
方向変換装置を、回転テーブルとその上方のガイド円板
で構成すれば、タイルに良好な方向性が与えられる。
る過程において、スプレーブース内でタイルの表面に釉
薬を塗布することができ、表面に釉薬を塗布した状態で
、タイルは戻しベルトラインに移され、タイルは戻しベ
ルトライン上を移送されて再び施釉ベルトライン上に戻
ることができ、この時に反転装置等によりタイルの表裏
を反転させれば施釉ベルトライン上のスプレーブース内
でタイルの裏側にも釉薬を塗布することかでき、同一の
スプレーブースを利用して同一の条件でタイルの表裏側
に良好に釉薬を塗布することができる。尚、戻しベルト
ラインと施釉ベルトライン間にターンテーブル等の方向
変換装置を配設しておけば、タイルの移送方向をこの方
向変換装置により良好に変換させることができ、さらに
方向変換装置を、回転テーブルとその上方のガイド円板
で構成すれば、タイルに良好な方向性が与えられる。
(実施例)
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は施釉装置の平面概略構成図であり、第2図はそ
の側面概略構成図である。
の側面概略構成図である。
図において、施釉装置1は、タイルを移送可能な施釉ベ
ルトライン2と、この施釉ベルトライン2と所定間隔を
おいて平行状に設けられ同様にタイルを移送可能な戻し
ベルトライン3とを備えており、前記施釉ベルトライン
2上には所定間隔で3個のスプレーブース4a、4b、
4cが配設されており、この各スプレ−ブース4a、4
b、40間は防塵カバー5により施釉ベルトライン2の
上方が覆蓋されたものとなっている。
ルトライン2と、この施釉ベルトライン2と所定間隔を
おいて平行状に設けられ同様にタイルを移送可能な戻し
ベルトライン3とを備えており、前記施釉ベルトライン
2上には所定間隔で3個のスプレーブース4a、4b、
4cが配設されており、この各スプレ−ブース4a、4
b、40間は防塵カバー5により施釉ベルトライン2の
上方が覆蓋されたものとなっている。
又、施釉ベルトライン2及び戻しベルトライン3のそれ
ぞれの両端部間にはそれぞれ回転テーブル6と、その上
面側に小径のガイド円板7がそれぞれ回転可能に配設さ
れている。
ぞれの両端部間にはそれぞれ回転テーブル6と、その上
面側に小径のガイド円板7がそれぞれ回転可能に配設さ
れている。
この回転テーブル6とガイド円板7を第3図に概略斜視
図で示し、その作用を説明すると、前記戻しベルトライ
ン3の図示左端部は下向きに傾斜した下傾部3aとなっ
ており、この下傾部3a上に回転テーブル6が回転可能
に設けられている。
図で示し、その作用を説明すると、前記戻しベルトライ
ン3の図示左端部は下向きに傾斜した下傾部3aとなっ
ており、この下傾部3a上に回転テーブル6が回転可能
に設けられている。
従って、戻しベルトライン3上を複数のタイルT、Tが
次々と移送されてくると1、タイルT、Tは回転テーブ
ル6上に自然に載ることとなり、回転テーブル6の回転
に伴って水平面内で180’方向転換きれる。
次々と移送されてくると1、タイルT、Tは回転テーブ
ル6上に自然に載ることとなり、回転テーブル6の回転
に伴って水平面内で180’方向転換きれる。
前記施釉ベルトライン2の図示左端部には反転ベルト部
8が配設されており、この反転ベルト部8にはねじり状
にベルトが設けられており、このベルト上に前記回転テ
ーブル6からタイルTが送られて反転ベルト部8でタイ
ルは裏向きに反転され、その状態で前記施釉ベルトライ
ン2上にタイルTが裏向けられて移送される。尚、前記
ガイド円板7はタイルTが回転テーブル6上で180m
方向転換される時に良好な方向性を与えるためにタイル
Tの側面に当接してタイルTをガイドし、前記反転ベル
ト部8へ良好な方向性を付与して送り出すものである。
8が配設されており、この反転ベルト部8にはねじり状
にベルトが設けられており、このベルト上に前記回転テ
ーブル6からタイルTが送られて反転ベルト部8でタイ
ルは裏向きに反転され、その状態で前記施釉ベルトライ
ン2上にタイルTが裏向けられて移送される。尚、前記
ガイド円板7はタイルTが回転テーブル6上で180m
方向転換される時に良好な方向性を与えるためにタイル
Tの側面に当接してタイルTをガイドし、前記反転ベル
ト部8へ良好な方向性を付与して送り出すものである。
尚、ガイド円板7の周縁部の周速度は回転テーブル6よ
りも速いものに設定されており、ガイド円板7の回転に
よりタイルTを良好にガイドして反転ベルト部8側に送
り出すことができる。
りも速いものに設定されており、ガイド円板7の回転に
よりタイルTを良好にガイドして反転ベルト部8側に送
り出すことができる。
同様に第1図における図示右側に設けられている回転テ
ーブル6とガイド円板7においても、施釉ベルトライン
2から方向転換させて良好に方向性を与えてタイルTを
戻しベルトライン3側に送り出すことができるものとな
っている。
ーブル6とガイド円板7においても、施釉ベルトライン
2から方向転換させて良好に方向性を与えてタイルTを
戻しベルトライン3側に送り出すことができるものとな
っている。
従って、先ず施釉ベルトライン2上にタイルTを載せて
移送する過程において、前記スプレーブース4a、4b
、4c内で釉薬がスプレー状にタイルTの表面側に塗布
されることとなり、本例では3個のスプレーブース4a
、4b、4cにより3回塗りが行なわれる。
移送する過程において、前記スプレーブース4a、4b
、4c内で釉薬がスプレー状にタイルTの表面側に塗布
されることとなり、本例では3個のスプレーブース4a
、4b、4cにより3回塗りが行なわれる。
このようにして表面側に釉薬を塗布したタイルTは前述
した如く回転テーブル6により方向転換され、かつガイ
ド円板7によりその方向性が与えられて良好に戻しベル
トライン3上に移され、戻しベルトライン3から前記左
端側の回転テーブル6とガイド円板7により円滑に反転
ヘルド部8に移送されて、ここで裏側に反転され、引き
続し1て施釉ベルトライン2上でタイルTの裏側に釉薬
が3回塗布される。
した如く回転テーブル6により方向転換され、かつガイ
ド円板7によりその方向性が与えられて良好に戻しベル
トライン3上に移され、戻しベルトライン3から前記左
端側の回転テーブル6とガイド円板7により円滑に反転
ヘルド部8に移送されて、ここで裏側に反転され、引き
続し1て施釉ベルトライン2上でタイルTの裏側に釉薬
が3回塗布される。
従って、このような施釉装置1.においては、タイルT
の表裏側を同一のスプレーブース4a、4b、4cを介
して施釉することができるため、裏表で施釉状態に差が
生ずることがない。又、従来のように裏側釉薬塗布用の
別体の釉薬ベルトラインを必要としないため、施釉装置
の設置スペースを極めて小なるものとすることができ、
又、スプレーブースを裏側用に別途設ける必要がないた
め管理が極めて容易となる。
の表裏側を同一のスプレーブース4a、4b、4cを介
して施釉することができるため、裏表で施釉状態に差が
生ずることがない。又、従来のように裏側釉薬塗布用の
別体の釉薬ベルトラインを必要としないため、施釉装置
の設置スペースを極めて小なるものとすることができ、
又、スプレーブースを裏側用に別途設ける必要がないた
め管理が極めて容易となる。
(発明の効果)
本発明の施釉装置は、タイル面に釉薬を塗布し得るスプ
レーブースを備えた施釉ベルトラインと、該施釉ベルト
ラインへ前記釉薬を塗布したタイルを再移送し得る戻し
ベルトラインとを主体として構成したことにより、タイ
ルを釉薬ベルトラインと戻しベルトライン上に良好に循
環させることができ、この過程においてスプレーブース
でタイル面に釉薬を塗布することができ、ベルトライン
内に反転装置等を設けておけばタイルの裏表面の施釉を
良好に行なうことができ、設置スペースが極めて小とな
り、その分、管理が容易となる効果を有する。
レーブースを備えた施釉ベルトラインと、該施釉ベルト
ラインへ前記釉薬を塗布したタイルを再移送し得る戻し
ベルトラインとを主体として構成したことにより、タイ
ルを釉薬ベルトラインと戻しベルトライン上に良好に循
環させることができ、この過程においてスプレーブース
でタイル面に釉薬を塗布することができ、ベルトライン
内に反転装置等を設けておけばタイルの裏表面の施釉を
良好に行なうことができ、設置スペースが極めて小とな
り、その分、管理が容易となる効果を有する。
又、スプレーブースは裏表で共用することができるため
、施釉状態に差が生ずることがなく、良好な施釉を行な
い得る効果を有する。
、施釉状態に差が生ずることがなく、良好な施釉を行な
い得る効果を有する。
又、戻しベルトラインと施釉ベルトライン間にターンテ
ーブル等の方向変換装置を配設しておけは、タイルの移
送方向をこの方向変換装置により良好に変換させること
ができ、さらに方向変換装置を、回転テーブルとその上
方のガイド円板で構成すれば、タイルに良好な方向性が
与えられ、タイルを回転テーブル上でガイド円板にガイ
ドさせて良好に水平面内で方向転換させることができる
効果を有する。
ーブル等の方向変換装置を配設しておけは、タイルの移
送方向をこの方向変換装置により良好に変換させること
ができ、さらに方向変換装置を、回転テーブルとその上
方のガイド円板で構成すれば、タイルに良好な方向性が
与えられ、タイルを回転テーブル上でガイド円板にガイ
ドさせて良好に水平面内で方向転換させることができる
効果を有する。
図は本発明の一実施例を示し、第1図は施釉装置の平面
概略構成図、第2図は第1図の側面概略構成図、第3図
は回転テーブルとガイド円板の作用を説明する斜視構成
図である。 1・・・施釉装置 2・・・施釉ベルトライン 3・ ・戻しベルトライン a b C・・・スプレーブース
概略構成図、第2図は第1図の側面概略構成図、第3図
は回転テーブルとガイド円板の作用を説明する斜視構成
図である。 1・・・施釉装置 2・・・施釉ベルトライン 3・ ・戻しベルトライン a b C・・・スプレーブース
Claims (3)
- (1)タイル面に釉薬を塗布し得るスプレーブースを備
えた施釉ベルトラインと、該施釉ベルトラインへ前記釉
薬を塗布したタイルを再移送し得る戻しベルトラインと
を主体として構成したことを特徴とする施釉装置。 - (2)タイル面に釉薬を塗布し得るスプレーブースを備
えた施釉ベルトラインと、該施釉ベルトラインに並設さ
れた戻しベルトラインと、該戻しベルトラインと前記施
釉ベルトライン間に配設され、タイルの移送方向を変換
させ得る回転可能な方向変換装置とを主体として構成し
たことを特徴とする施釉装置。 - (3)タイル面に釉薬を塗布し得るスプレーブースを備
えた施釉ベルトラインと、該施釉ベルトラインにほぼ平
行状に設けられた戻しベルトラインと、該戻しベルトラ
インと前記施釉ベルトラインの両端側にそれぞれ配設さ
れ、その上面側にタイルを載せて一方側のベルトライン
から他方側のベルトラインへタイルを移送し得る回転可
能な回転テーブルと、該各回転テーブルの上方に回転可
能に設けられ前記回転テーブル上のタイルの移送をガイ
ドしてタイルに方向性を与えるガイド円板とを主体とし
て構成したことを特徴とする施釉装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18241290A JPH0725609B2 (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | 施釉装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18241290A JPH0725609B2 (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | 施釉装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0474782A true JPH0474782A (ja) | 1992-03-10 |
| JPH0725609B2 JPH0725609B2 (ja) | 1995-03-22 |
Family
ID=16117840
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18241290A Expired - Lifetime JPH0725609B2 (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | 施釉装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0725609B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007071114A (ja) * | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Sanden Corp | 車両用空調システムのための可変容量型圧縮機 |
-
1990
- 1990-07-09 JP JP18241290A patent/JPH0725609B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007071114A (ja) * | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Sanden Corp | 車両用空調システムのための可変容量型圧縮機 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0725609B2 (ja) | 1995-03-22 |
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