JPH0474849A - シャドウマスク材 - Google Patents
シャドウマスク材Info
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- JPH0474849A JPH0474849A JP18834490A JP18834490A JPH0474849A JP H0474849 A JPH0474849 A JP H0474849A JP 18834490 A JP18834490 A JP 18834490A JP 18834490 A JP18834490 A JP 18834490A JP H0474849 A JPH0474849 A JP H0474849A
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- mask material
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、カラーブラウン管用シャドウマスク材に関す
るものであり、特にシャドウマスクを製造する工程での
プレス成形前に行なわれる軟化焼鈍工程を必要としない
ように調整したシャドウマスク材に関する。
るものであり、特にシャドウマスクを製造する工程での
プレス成形前に行なわれる軟化焼鈍工程を必要としない
ように調整したシャドウマスク材に関する。
カラーブラウン管のシャドウマスク材としては長年アル
ミキルド鋼が使用されてきたが、最近ではカラーテレビ
の大型化、デイスプレィの超高精細化等の要求により、
熱膨張率の低いＮ ｉ−Ｆ ｅ系合金であるアンバー合
金が用いられるようになってきている。
ミキルド鋼が使用されてきたが、最近ではカラーテレビ
の大型化、デイスプレィの超高精細化等の要求により、
熱膨張率の低いＮ ｉ−Ｆ ｅ系合金であるアンバー合
金が用いられるようになってきている。
このようなアンバー合金を用いたシャドウマスクの製造
工程は一般に次の通りである。
工程は一般に次の通りである。
まず、材料の溶解および鋳造後適宜の圧延工程を経由し
、最終冷間加工にて所定の厚さを有するシャドウマスク
材を得る。次にシャドウマスク材はエツチング穿孔加工
されてフラットマスクとなり、このフラットマスクは軟
化焼鈍されてプレス成形性を付与され、その後プレスに
よりシャドウマスクの形状に応じた球面に成形される。
、最終冷間加工にて所定の厚さを有するシャドウマスク
材を得る。次にシャドウマスク材はエツチング穿孔加工
されてフラットマスクとなり、このフラットマスクは軟
化焼鈍されてプレス成形性を付与され、その後プレスに
よりシャドウマスクの形状に応じた球面に成形される。
球面成形されたマスクは黒化処理を施されシャドウマス
クとなる。
クとなる。
上記工程のうち、プレス成形性を付与するために行なわ
れる軟化焼鈍工程は、フラットマスクを数十枚重ね合わ
せるか、１枚１枚吊り下げた状態で行なわれるため、生
産性に問題があった。
れる軟化焼鈍工程は、フラットマスクを数十枚重ね合わ
せるか、１枚１枚吊り下げた状態で行なわれるため、生
産性に問題があった。
また、軟化焼鈍工程において、フラットマスク同士の密
着による焼付あるいは焼鈍むらが発生するという問題も
あった。
着による焼付あるいは焼鈍むらが発生するという問題も
あった。
このような問題に対し、特開昭６２−２３８００３号公
報あるいは特開平２−２５２０１号公報には、シャドウ
マスク材の表面粗さを大きくして、焼鈍時の材料同士の
密着を防ぎ焼付を低減することが提案されている。
報あるいは特開平２−２５２０１号公報には、シャドウ
マスク材の表面粗さを大きくして、焼鈍時の材料同士の
密着を防ぎ焼付を低減することが提案されている。
また、シャドウマスク材にＳｉ、Ｍｎ、Ａ１等の酸化し
易い元素を添加することによって、表面に酸化膜を形成
し、焼付を防止することも知られている。
易い元素を添加することによって、表面に酸化膜を形成
し、焼付を防止することも知られている。
また、プレス成形前の焼鈍をなくすことも試みられてい
る。たとえば、特開昭６２−１４９８１９号公報では、
材料の強さをビッカース硬さ（以下Ｈｖという） Ｈｖ
１８０〜２２０とし、１０％以上の伸びを有するアンバ
ー合金を得ることにより、エツチング工程での材料の蛇
行の防止とプレス成形性を両立させプレス成形前の軟化
焼鈍工程を省略しようとしている。
る。たとえば、特開昭６２−１４９８１９号公報では、
材料の強さをビッカース硬さ（以下Ｈｖという） Ｈｖ
１８０〜２２０とし、１０％以上の伸びを有するアンバ
ー合金を得ることにより、エツチング工程での材料の蛇
行の防止とプレス成形性を両立させプレス成形前の軟化
焼鈍工程を省略しようとしている。
上述したような表面粗さを大きくする方法では、エツチ
ングは表面粗さに影響されるのでエツチング穿孔部の形
状が不足となる問題がある。また、添加元素を加える方
法では、Ｓｉ、Ｍｎ、Ａ１などによりエツチングの均一
性が得られなかったり、黒化処理の劣化を招くという問
題があった。
ングは表面粗さに影響されるのでエツチング穿孔部の形
状が不足となる問題がある。また、添加元素を加える方
法では、Ｓｉ、Ｍｎ、Ａ１などによりエツチングの均一
性が得られなかったり、黒化処理の劣化を招くという問
題があった。
このように軟化焼鈍工程で発生する問題を解決する従来
の方法では、他の特性を犠牲にする必要があった。
の方法では、他の特性を犠牲にする必要があった。
超高精細のシャドウマスク材に要求されるプレス成形性
とは成形精度が確保されることと超微細なエツチング孔
に破断等が発生しないことであるが、Ｈｖ１８０以上の
特開昭６２−１４９８１９号公報に記載されるような前
述の材料では、材料の弾性に起因するスプリングバック
が大きく、そのままではプレス成形による成形精度が得
られない。
とは成形精度が確保されることと超微細なエツチング孔
に破断等が発生しないことであるが、Ｈｖ１８０以上の
特開昭６２−１４９８１９号公報に記載されるような前
述の材料では、材料の弾性に起因するスプリングバック
が大きく、そのままではプレス成形による成形精度が得
られない。
また、超高精細のシャドウマスク材のエツチング性とし
ては、特に得られた細孔の形状がすべて均一に揃ってい
ることが必要とされる。
ては、特に得られた細孔の形状がすべて均一に揃ってい
ることが必要とされる。
本発明の目的は、軟化焼鈍工程を省略しても良好なプレ
ス成形性を有し、しかも超高精細のシャドウマスク材の
穿孔にも対応できるシャドウマスク材を提供することで
ある。
ス成形性を有し、しかも超高精細のシャドウマスク材の
穿孔にも対応できるシャドウマスク材を提供することで
ある。
本発明は、結晶粒がＪＩＳによるオーステナイト結晶粒
度番号７より細粒であり、ビッカース硬さ１４０以下、
フラットマスク状態におけるシャドウマスク構成面積内
のビッカース硬さの最大値と最小値の差が１０以下のア
ンバー合金からなることを特徴とするシャドウマスク材
である。
度番号７より細粒であり、ビッカース硬さ１４０以下、
フラットマスク状態におけるシャドウマスク構成面積内
のビッカース硬さの最大値と最小値の差が１０以下のア
ンバー合金からなることを特徴とするシャドウマスク材
である。
また本発明は、重量％でＣ≦０．０５％、Ｓｉ≦０．０
５％、Ｍｎ≦０．４０％、Ｐ≦０．００５％、Ｓ≦０．
００５％、０５０．０１０％、Ｎ ｉ ３５．５−３６
．５％、残部実質的にＦｅのアンバー合金からなること
を特徴とする特許請求の範囲第１項に記載のシャドウマ
スク材である。
５％、Ｍｎ≦０．４０％、Ｐ≦０．００５％、Ｓ≦０．
００５％、０５０．０１０％、Ｎ ｉ ３５．５−３６
．５％、残部実質的にＦｅのアンバー合金からなること
を特徴とする特許請求の範囲第１項に記載のシャドウマ
スク材である。
本発明は、アンバー合金よりなるシャドウマスク材の結
晶粒度、硬さおよび硬さのバラツキを所定の範囲内にす
ることによって、プレス成形前の軟化焼鈍を省略でき、
しかもエツチング性とプレス成形性に優れたシャドウマ
スクが得られることを見い出したものである。
晶粒度、硬さおよび硬さのバラツキを所定の範囲内にす
ることによって、プレス成形前の軟化焼鈍を省略でき、
しかもエツチング性とプレス成形性に優れたシャドウマ
スクが得られることを見い出したものである。
結晶粒度をＪＩＳによるオーステナイト結晶粒度番号７
より細かくするのは、エツチングにより得られる細孔の
形状を均一なものとするためである。結晶粒が５〜７番
程度であると、エツチングによって得られた細孔のエツ
チング面の滑らかさが損なわれ、エツチング面の粗さに
起因する乱反射によるギラツキ（いわゆるアラビ）が確
認されて形状不良となる。
より細かくするのは、エツチングにより得られる細孔の
形状を均一なものとするためである。結晶粒が５〜７番
程度であると、エツチングによって得られた細孔のエツ
チング面の滑らかさが損なわれ、エツチング面の粗さに
起因する乱反射によるギラツキ（いわゆるアラビ）が確
認されて形状不良となる。
また、硬さをＨＶ１４０以下としたのは、Ｈｖ１４０を
越えると材料のスプリングバックが大きく、また伸びも
小さいためプレス成形で所望の形状が得られなかったり
、エツチングによって得た細孔に裂は目、破断等が発生
してしまうためである。
越えると材料のスプリングバックが大きく、また伸びも
小さいためプレス成形で所望の形状が得られなかったり
、エツチングによって得た細孔に裂は目、破断等が発生
してしまうためである。
Ｈｖ１４０以下でも１枚の素材のシャドウマスク構成面
積内の硬度差がビッカース硬さ（）（ｖ）で】Ｏを越え
ると、プレス成形時に変形量の違いが発生し、成形ムラ
や細孔の破断といったプレス成形不良が生じるためフラ
ットマスク状態での１枚のシャドウマスク構成面積内の
高度差はビッカース硬さで１０以下でなければならない
。
積内の硬度差がビッカース硬さ（）（ｖ）で】Ｏを越え
ると、プレス成形時に変形量の違いが発生し、成形ムラ
や細孔の破断といったプレス成形不良が生じるためフラ
ットマスク状態での１枚のシャドウマスク構成面積内の
高度差はビッカース硬さで１０以下でなければならない
。
このような特性は、製品板厚に冷間圧延した材料を７０
０℃以上、１０００℃以下の温度範囲で連続炉にて焼鈍
を行なうことによって得られる。７００℃より低温では
長時間加工しても材料の硬度は）（ｖ１４０以下には軟
化しない。また、１０００℃以上では、瞬時に結晶粒の
粗大化が生じて好ましくない。生産効率の点から焼鈍時
間を５分に設定した場合、８００℃〜９００℃がより好
ましい。焼鈍方法にはタイトコイルのままバッチ炉に装
入する方法と、コイルを巻き直しながら連続炉で加熱す
る方法があるがバッチ炉では温度ムラによる硬度バラツ
キが生じ易いため、連続炉処理が好ましい。
０℃以上、１０００℃以下の温度範囲で連続炉にて焼鈍
を行なうことによって得られる。７００℃より低温では
長時間加工しても材料の硬度は）（ｖ１４０以下には軟
化しない。また、１０００℃以上では、瞬時に結晶粒の
粗大化が生じて好ましくない。生産効率の点から焼鈍時
間を５分に設定した場合、８００℃〜９００℃がより好
ましい。焼鈍方法にはタイトコイルのままバッチ炉に装
入する方法と、コイルを巻き直しながら連続炉で加熱す
る方法があるがバッチ炉では温度ムラによる硬度バラツ
キが生じ易いため、連続炉処理が好ましい。
また、シャドウマスク材のＣ，Ｓｉ、Ｍｎ、Ｐ、Ｓ、Ｏ
は、エツチング性に有害な元素であり、エツチング速度
が低下し、開孔部面積が小さくなる原因となるため、そ
れぞれＣ≦０．０５％、Ｓ１≦０．０５％、Ｍｎ５０６
４０％、Ｐ≦０．００５％、Ｓ≦０．００５％、Ｏ≦０
．０１０％が好ましい。
は、エツチング性に有害な元素であり、エツチング速度
が低下し、開孔部面積が小さくなる原因となるため、そ
れぞれＣ≦０．０５％、Ｓ１≦０．０５％、Ｍｎ５０６
４０％、Ｐ≦０．００５％、Ｓ≦０．００５％、Ｏ≦０
．０１０％が好ましい。
また、Ｎｉは、３６％で熱膨張係数が極小となり、これ
より低Ｎｉ側、高Ｎｉ側ともに熱膨張が大きくなるため
、Ｎｉは３５．５〜３６．５％が好ましい。
より低Ｎｉ側、高Ｎｉ側ともに熱膨張が大きくなるため
、Ｎｉは３５．５〜３６．５％が好ましい。
以下、本発明の実施例について詳しく説明する、第１表
に示す組成、結晶粒度、硬さ（Ｈｖ）を有する板厚０
、２５ｍｍ幅６００ｍｍのアンバー合金よりなるシャド
ウマスク材に対して、エツチング性およびプレス成形性
を評価した。
に示す組成、結晶粒度、硬さ（Ｈｖ）を有する板厚０
、２５ｍｍ幅６００ｍｍのアンバー合金よりなるシャド
ウマスク材に対して、エツチング性およびプレス成形性
を評価した。
結晶粒度と硬さの調整は、製品板厚に冷間圧延した材料
を焼鈍する条件を変化させることにより行なった。この
うち、本発明の実施例Ｎｏ、１〜ＮＯ３４は冷間圧延し
たコイルを巻き直しながら連続炉で７５０℃〜９５０℃
で焼鈍したものであり、焼鈍温度と保持時間を変化させ
ることにより、結晶粒度番号と硬さの異なるシャドウマ
スク材が得られる。
を焼鈍する条件を変化させることにより行なった。この
うち、本発明の実施例Ｎｏ、１〜ＮＯ３４は冷間圧延し
たコイルを巻き直しながら連続炉で７５０℃〜９５０℃
で焼鈍したものであり、焼鈍温度と保持時間を変化させ
ることにより、結晶粒度番号と硬さの異なるシャドウマ
スク材が得られる。
第１表に示すシャドウマスク材のコイルを、ＦｅＣ１，
溶液でエツチング加工してから切断し、０．７ｍ！１１
ピッチのスロット孔を有する２９インチテレビ用のフラ
ットマスクを得た。このフラットマスクを高滓製作所製
ビッカース硬度計を用い、幅方向５点、長手方向４点の
計２０点を荷重０．５ｋＪで測定し、その最高値（Ｈｖ
ＷＡＸ）と最高値と最小値の差である硬さのバラツキ
（Ｈｖ Ｒ）によって評価した。また、エツチング性の
うちエツチング速度は得られたシャドウマスクのエツチ
ング部を写真撮影し画像解析によって求めたシャドウマ
スク２５ｍｍ角分に占める開孔部の面積の割合である。
溶液でエツチング加工してから切断し、０．７ｍ！１１
ピッチのスロット孔を有する２９インチテレビ用のフラ
ットマスクを得た。このフラットマスクを高滓製作所製
ビッカース硬度計を用い、幅方向５点、長手方向４点の
計２０点を荷重０．５ｋＪで測定し、その最高値（Ｈｖ
ＷＡＸ）と最高値と最小値の差である硬さのバラツキ
（Ｈｖ Ｒ）によって評価した。また、エツチング性の
うちエツチング速度は得られたシャドウマスクのエツチ
ング部を写真撮影し画像解析によって求めたシャドウマ
スク２５ｍｍ角分に占める開孔部の面積の割合である。
開孔率とエツチング面の精度としてエツチング面のギラ
ツキの発生の有無を目視によって評価した。
ツキの発生の有無を目視によって評価した。
次にフラットマスクを軟化焼鈍しないで２００℃に加熱
した金型でシャドウマスクに成形した。
した金型でシャドウマスクに成形した。
プレス成形は、プレス後にスロット孔に破断あるいは割
れ目が発生したものを不良とした。
れ目が発生したものを不良とした。
第１表にその結果を示す。
本発明のシャドウマスク材は、開孔率が大きく、エツチ
ング速度が速いことを示している。エツチング速度が速
いことは、それだけエツチング工程が短縮でき、開孔部
面積のバラツキが少なくなることを示す。また、本発明
のシャドウマスク材はギラツキもなく、精度の高いエツ
チング面が得られたことがわかる。
ング速度が速いことを示している。エツチング速度が速
いことは、それだけエツチング工程が短縮でき、開孔部
面積のバラツキが少なくなることを示す。また、本発明
のシャドウマスク材はギラツキもなく、精度の高いエツ
チング面が得られたことがわかる。
一方比較例から硬さの最高値（Ｈｖ ＷＡＸ）あるいは
バラツキ（Ｈｖ Ｒ）が本発明例より大きいことにより
プレス性が劣化すること、粒度番号が本発明例より小さ
いことにより、ギラツキが発生し、エツチング性が劣化
することがわかる。
バラツキ（Ｈｖ Ｒ）が本発明例より大きいことにより
プレス性が劣化すること、粒度番号が本発明例より小さ
いことにより、ギラツキが発生し、エツチング性が劣化
することがわかる。
また、Ｐ、Ｓの値が他の本発明例よりもやや高い試料Ｎ
ｏ、４は開孔率が他の本発明例よりも小さく、Ｐ、 Ｓ
はそれぞれ０．００５％以下が好ましいことがわかる。
ｏ、４は開孔率が他の本発明例よりも小さく、Ｐ、 Ｓ
はそれぞれ０．００５％以下が好ましいことがわかる。
本発明によれば、従来生産性および品質面でトラブルの
多かったプレス成形前の軟化焼鈍を省略でき、しかも超
高精細のシャドウマスクに応じたエツチング性とプレス
性を兼ね備えたシャドウマスク材を提供することができ
る。
多かったプレス成形前の軟化焼鈍を省略でき、しかも超
高精細のシャドウマスクに応じたエツチング性とプレス
性を兼ね備えたシャドウマスク材を提供することができ
る。
出願人 日立金属株式会社 ４〕＼
＼、−・／
手続
補正書（自発）
平成
年２．１１．ｍ６ 日
事件の表示
平成２年
発明の名
補正をする
事件との関係
住 所
名 称
補正の対
特許願 第１８８３４４号
称 シャドウマスク材
者
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、結晶粒がＪＩＳによるオーステナイト結晶粒度番号
７より細粒であり、ビッカース硬さ１４０以下、フラッ
トマスク状態におけるシャドウマスク構成面積内のビッ
カース硬さの最大値と最小値の差が１０以下のアンバー
合金からなることを特徴とするシヤドウマスク材。 ２、重量％でＣ≦０．０５％、Ｓｉ≦０．０５％、Ｍｎ
≦０．４０％、Ｐ≦０．００５％、Ｓ≦０．００５％、
０≦０．０１０％、Ｎｉ３５．５〜３６．５％、残部実
質的にＦｅのアンバー合金からなることを特徴とする特
許請求の範囲第１項に記載のシャドウマスク材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2188344A JP2988973B2 (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | シャドウマスク材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2188344A JP2988973B2 (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | シャドウマスク材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0474849A true JPH0474849A (ja) | 1992-03-10 |
| JP2988973B2 JP2988973B2 (ja) | 1999-12-13 |
Family
ID=16221977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2188344A Expired - Fee Related JP2988973B2 (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | シャドウマスク材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2988973B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE1008028A4 (nl) * | 1994-01-17 | 1995-12-12 | Philips Electronics Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een schaduwmasker van het nikkel-ijzer type. |
| JPH0935993A (ja) * | 1995-12-15 | 1997-02-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 積層コンデンサおよびその製造方法 |
-
1990
- 1990-07-17 JP JP2188344A patent/JP2988973B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE1008028A4 (nl) * | 1994-01-17 | 1995-12-12 | Philips Electronics Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een schaduwmasker van het nikkel-ijzer type. |
| US5716252A (en) * | 1994-01-17 | 1998-02-10 | U.S. Philips Corporation | Method of manufacturing a shadow mask of the nickel-iron type |
| US5811918A (en) * | 1994-01-17 | 1998-09-22 | U.S. Philips Corporation | Shadow mask of the nickel-iron type having specific composition |
| JPH0935993A (ja) * | 1995-12-15 | 1997-02-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 積層コンデンサおよびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2988973B2 (ja) | 1999-12-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071008 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081008 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |