JPH0475625A - 自動食器洗浄方法及びその装置 - Google Patents
自動食器洗浄方法及びその装置Info
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- JPH0475625A JPH0475625A JP18712090A JP18712090A JPH0475625A JP H0475625 A JPH0475625 A JP H0475625A JP 18712090 A JP18712090 A JP 18712090A JP 18712090 A JP18712090 A JP 18712090A JP H0475625 A JPH0475625 A JP H0475625A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 6
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Landscapes
- Washing And Drying Of Tableware (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、洗浄中に電極に不純物の付着するのを防止
して洗浄液中に適正量の洗剤を補充するようにした自動
食器洗浄方法及びその装置に関するものである。
して洗浄液中に適正量の洗剤を補充するようにした自動
食器洗浄方法及びその装置に関するものである。
(従来の技術)
一般に、食器自動洗浄装置は洗浄液をノズルより噴出さ
せて食器の洗浄を行なう食器洗浄部と、その下方に設け
られた洗浄液槽を有し、洗浄液槽中の洗浄液は食器洗浄
部に揚水し、洗浄後は洗浄液槽に戻して循環使用するも
のであるが、この洗浄液中の洗剤は食器自動洗浄装置に
付設された洗剤自動供給装置により絶えず補充するよう
にしている。
せて食器の洗浄を行なう食器洗浄部と、その下方に設け
られた洗浄液槽を有し、洗浄液槽中の洗浄液は食器洗浄
部に揚水し、洗浄後は洗浄液槽に戻して循環使用するも
のであるが、この洗浄液中の洗剤は食器自動洗浄装置に
付設された洗剤自動供給装置により絶えず補充するよう
にしている。
洗剤自動供給装置の各部を大別すると、(1)洗剤自動
供給制御装置本体、(2)洗剤注入装置(粉末洗剤の場
合はオーバーフロー式ホッパー液体洗剤の場合はインジ
ェクター、チューブポンプ等)、(3)洗剤濃度検知電
極の3つに分けられる。
供給制御装置本体、(2)洗剤注入装置(粉末洗剤の場
合はオーバーフロー式ホッパー液体洗剤の場合はインジ
ェクター、チューブポンプ等)、(3)洗剤濃度検知電
極の3つに分けられる。
洗剤自動供給装置の主要な一部である洗剤濃度検知電極
は洗浄液槽内に設置し、洗浄装置運転中洗浄液の洗剤濃
度を検知電極の電気抵抗値(電気伝導度)により洗剤濃
度を常時検知するようにしている。そして、この電気抵
抗値が洗剤の設定濃度に基いて定めた初期設定時の電気
抵抗値より変化した場合、この電気信号が制御装置に送
られ、これにより制御装置が洗剤注入装置を開閉し、洗
浄液中に洗剤の自動注入を行うものである。
は洗浄液槽内に設置し、洗浄装置運転中洗浄液の洗剤濃
度を検知電極の電気抵抗値(電気伝導度)により洗剤濃
度を常時検知するようにしている。そして、この電気抵
抗値が洗剤の設定濃度に基いて定めた初期設定時の電気
抵抗値より変化した場合、この電気信号が制御装置に送
られ、これにより制御装置が洗剤注入装置を開閉し、洗
浄液中に洗剤の自動注入を行うものである。
しかし、この濃度検知電極が長い開催用していると、洗
浄液中に含まれるカルシウム、マグネシウム等のため、
スケールが電極に付着、堆積し、この結果、電気伝導度
が低下し、電気抵抗が増加する。そして、電気抵抗が増
加すると、初期設定時の電気伝導度と同等の電気抵抗に
するため、洗剤の供給量が上がり、このため洗剤が必要
量よりも多めに供給されることになる。
浄液中に含まれるカルシウム、マグネシウム等のため、
スケールが電極に付着、堆積し、この結果、電気伝導度
が低下し、電気抵抗が増加する。そして、電気抵抗が増
加すると、初期設定時の電気伝導度と同等の電気抵抗に
するため、洗剤の供給量が上がり、このため洗剤が必要
量よりも多めに供給されることになる。
(発明が解決しようとする問題点)
このような洗剤の過剰供給を抑えるためには、従来定期
的に洗浄液槽、特に洗剤濃度検知電極の清掃が行われて
いたが、このような清掃作業は多くの時間と労力を要す
る。しかも、検知電極へのカルシウム等によるスケール
の付着量は一回の洗浄中においても時間経過とともに増
加し、このため−回の洗浄中においても時間経過ととも
に洗剤が多めに供給されるようになるが、これに対して
は洗浄液槽乃至検知電極の定期的な清掃では対処できず
、有効な防止方法が見出されていない実情である。
的に洗浄液槽、特に洗剤濃度検知電極の清掃が行われて
いたが、このような清掃作業は多くの時間と労力を要す
る。しかも、検知電極へのカルシウム等によるスケール
の付着量は一回の洗浄中においても時間経過とともに増
加し、このため−回の洗浄中においても時間経過ととも
に洗剤が多めに供給されるようになるが、これに対して
は洗浄液槽乃至検知電極の定期的な清掃では対処できず
、有効な防止方法が見出されていない実情である。
(問題点を解決するための手段)
以上の問題点を解決するために、この発明では洗浄液を
水流させ、該水流下で食器の洗浄を行わせるとともに、
上記洗浄液中に設置した電極の抵抗値で洗浄液中の洗剤
濃度を検知し、該検知値に基いて洗剤液中に洗剤を補充
するようにした食器洗浄装置において、上記電極の対極
を構成する電極棒に浮遊動リングを挿通したことを特徴
とする自動食器洗浄方法及びその装置を提案するもので
ある。
水流させ、該水流下で食器の洗浄を行わせるとともに、
上記洗浄液中に設置した電極の抵抗値で洗浄液中の洗剤
濃度を検知し、該検知値に基いて洗剤液中に洗剤を補充
するようにした食器洗浄装置において、上記電極の対極
を構成する電極棒に浮遊動リングを挿通したことを特徴
とする自動食器洗浄方法及びその装置を提案するもので
ある。
(作用)
この発明においては、電極の対極を構成する電極棒に浮
遊動リングを挿通しであるため、洗浄液の水流に従って
リングが浮遊動し、これにより洗浄中に電極棒の表面に
カルシウム、マグネシウム等によるスケールが付着し難
くなり、また−旦付着したスケールは剥離され易くなる
。したがって、この発明においては食器洗浄中において
も電極棒の表面にカルシウム、マグネシウム等によるス
ケールが付着することな(、このため洗浄槽中の洗剤濃
度が正しく検知され、過剰量の洗剤供給を防ぐことがで
きる。
遊動リングを挿通しであるため、洗浄液の水流に従って
リングが浮遊動し、これにより洗浄中に電極棒の表面に
カルシウム、マグネシウム等によるスケールが付着し難
くなり、また−旦付着したスケールは剥離され易くなる
。したがって、この発明においては食器洗浄中において
も電極棒の表面にカルシウム、マグネシウム等によるス
ケールが付着することな(、このため洗浄槽中の洗剤濃
度が正しく検知され、過剰量の洗剤供給を防ぐことがで
きる。
(実施例)
以下、この発明を図示の実施例に基づいて説明する。
1は、この発明で使用する食器洗浄機である。
洗浄機1内には、上段に洗浄すべき食器を載置するラッ
ク2が設置され、下段に上方を開放した洗浄液槽3が配
置される。洗浄液槽3内には給水バイブ4の下端に取り
付けられた吸込ロストレーナ5が設けられ、また吸込ロ
ストレーナ5の近くの給水バイブ4には洗浄ポンプ6が
内蔵される。更に、給水バイブ4の上端にはラック2の
上方に下向きに洗浄ノズル7aが設けられ、給水バイブ
4の9端にはラック2の下方に上向きに洗浄ノズル7b
が設けられる。なお、ラック2の上下には更にススギノ
ズル8a、 8bが設けられ、洗浄液槽3には排水栓9
が設けられている。
ク2が設置され、下段に上方を開放した洗浄液槽3が配
置される。洗浄液槽3内には給水バイブ4の下端に取り
付けられた吸込ロストレーナ5が設けられ、また吸込ロ
ストレーナ5の近くの給水バイブ4には洗浄ポンプ6が
内蔵される。更に、給水バイブ4の上端にはラック2の
上方に下向きに洗浄ノズル7aが設けられ、給水バイブ
4の9端にはラック2の下方に上向きに洗浄ノズル7b
が設けられる。なお、ラック2の上下には更にススギノ
ズル8a、 8bが設けられ、洗浄液槽3には排水栓9
が設けられている。
一方、食器洗浄機1の上端には内部に溢流管10aを有
する粉末洗剤のホッパー10が設けられ、また液体洗剤
のボトル11が食器洗浄機1に並設され、粉末洗剤のホ
ッパー10及び液体洗剤のボトル11には給水管12よ
り分岐した配管13aと13bの先端を挿入し、配管1
3bにはインジェクター14が設けられ、更に給水管1
2にはコントローラー15で制御される電磁弁16が設
けられ、コントローラー15は洗浄液槽3内に設けられ
た洗剤濃度測定用の電極17に接続される。
する粉末洗剤のホッパー10が設けられ、また液体洗剤
のボトル11が食器洗浄機1に並設され、粉末洗剤のホ
ッパー10及び液体洗剤のボトル11には給水管12よ
り分岐した配管13aと13bの先端を挿入し、配管1
3bにはインジェクター14が設けられ、更に給水管1
2にはコントローラー15で制御される電磁弁16が設
けられ、コントローラー15は洗浄液槽3内に設けられ
た洗剤濃度測定用の電極17に接続される。
洗剤濃度測定用の電極17は第2図に示すように、正極
と負極の対極18a、 18bを有し、対極18a。
と負極の対極18a、 18bを有し、対極18a。
18bには例えばステンレス製の浮遊側リング19゜1
9を挿通し、その先端にはリング止め20.20を設け
る。
9を挿通し、その先端にはリング止め20.20を設け
る。
以上の洗浄8!!lを用いて食器を洗浄する際にはう・
ンク2に洗浄すべき食器を載置し、洗浄ポンプ6を駆動
すると、吸込ロストレーナ−5から洗浄液が給水バイブ
4内に供給され、この洗浄液は給水バイブ4内を通って
洗浄ノズル7a、 7bから噴出し、ラック2に載置し
た食器を洗浄する。
ンク2に洗浄すべき食器を載置し、洗浄ポンプ6を駆動
すると、吸込ロストレーナ−5から洗浄液が給水バイブ
4内に供給され、この洗浄液は給水バイブ4内を通って
洗浄ノズル7a、 7bから噴出し、ラック2に載置し
た食器を洗浄する。
洗浄液による洗浄を終えた後、ススギノズル8a、 8
bから食器にススキ液が噴出され、ラック2に載置した
食器にすすぎが施される。
bから食器にススキ液が噴出され、ラック2に載置した
食器にすすぎが施される。
これらの洗浄液、ススキ液は洗浄液槽3に戻され、洗浄
液槽3内では満水状態において洗浄液が排水栓9よりオ
ーバーフローさせて、排水する。
液槽3内では満水状態において洗浄液が排水栓9よりオ
ーバーフローさせて、排水する。
洗浄液中の洗剤濃度は電極17の抵抗値で測定される。
電極17の抵抗値が初期設定値を越えると、コントロー
ラーI5からの指示で、電磁弁I6が開き、水が給水管
12を通って配管13aと13bに流れ込む。配管13
aに流れ込んだ水はホッパー10に供給され、粉末洗剤
を溶かし、この洗浄液は溢流管10aよりオーバーフロ
ーさせて洗浄液槽3内に供給される。
ラーI5からの指示で、電磁弁I6が開き、水が給水管
12を通って配管13aと13bに流れ込む。配管13
aに流れ込んだ水はホッパー10に供給され、粉末洗剤
を溶かし、この洗浄液は溢流管10aよりオーバーフロ
ーさせて洗浄液槽3内に供給される。
一方、配管13bに流れ込んだ水はインジェクター14
を通過する際に、ボトル11内の液体洗剤がインジェク
ター14の作用により吸引されて洗浄液槽3内に供給さ
れる。これにより、洗浄液中の洗剤濃度が調整される。
を通過する際に、ボトル11内の液体洗剤がインジェク
ター14の作用により吸引されて洗浄液槽3内に供給さ
れる。これにより、洗浄液中の洗剤濃度が調整される。
然して、洗浄液中の洗剤濃度は電極17の抵抗値で検知
され、以上のようなシステムで調整されるが、この発明
では電極17を構成する対極17a、 17bにはそれ
ぞれ浮遊側リング19.19が挿通されており、この浮
遊側リング19.19は洗浄ポンプ6の駆動によって生
ずる洗浄液槽3の水流に従って浮遊側するので、対極1
7a、17bに付着するカルシウム等によるスケールが
これにより剥離され、正確な濃度の検知を行なうことが
できる。
され、以上のようなシステムで調整されるが、この発明
では電極17を構成する対極17a、 17bにはそれ
ぞれ浮遊側リング19.19が挿通されており、この浮
遊側リング19.19は洗浄ポンプ6の駆動によって生
ずる洗浄液槽3の水流に従って浮遊側するので、対極1
7a、17bに付着するカルシウム等によるスケールが
これにより剥離され、正確な濃度の検知を行なうことが
できる。
なお、第3図に示すように、−本の電極棒に正極部分と
負極部分の対極17a、17bを設ける場合には、これ
ら正極部分と負極部分に浮遊側リング19、19を挿通
するようにすれば良い。
負極部分の対極17a、17bを設ける場合には、これ
ら正極部分と負極部分に浮遊側リング19、19を挿通
するようにすれば良い。
また、第4図に示すように洗浄液槽3を正極若しくは負
極とし、一方の電極棒をその対極とする場合には、対極
となる電極棒のみに浮遊側リングI9を挿通すれば良い
。
極とし、一方の電極棒をその対極とする場合には、対極
となる電極棒のみに浮遊側リングI9を挿通すれば良い
。
(発明の効果)
以上要するに、この発明によれば正極若しくは負極とな
る電極棒に浮遊側リングを挿通することにより、洗浄中
における電極棒へのカルシウム。
る電極棒に浮遊側リングを挿通することにより、洗浄中
における電極棒へのカルシウム。
マグネシウム等によるスケールの付着が防止され、従っ
て洗浄液中の洗剤濃度を正確に検知し、洗剤の過剰な供
給を防止できる。
て洗浄液中の洗剤濃度を正確に検知し、洗剤の過剰な供
給を防止できる。
第1図は、この発明の一実施例を示す食器洗浄装置の概
略図、第2図は、同上の洗剤濃度検知電極部分の拡大図
、第3図はこの発明の他の実施例を示す図、第4図はこ
の発明の更に他の実施例を示す図である。 図中、1は食器洗浄機、2はラック、3は洗浄液槽、6
は洗浄ポンプ、7a、 7bは洗浄ノズル、17a、1
7bは対極、19は浮遊側リング。 特許出願人 株式会社 ニッポンテイーポ同 代理人
弁理士 田中 開維 ル 第1図 第2図 第3図 第4図
略図、第2図は、同上の洗剤濃度検知電極部分の拡大図
、第3図はこの発明の他の実施例を示す図、第4図はこ
の発明の更に他の実施例を示す図である。 図中、1は食器洗浄機、2はラック、3は洗浄液槽、6
は洗浄ポンプ、7a、 7bは洗浄ノズル、17a、1
7bは対極、19は浮遊側リング。 特許出願人 株式会社 ニッポンテイーポ同 代理人
弁理士 田中 開維 ル 第1図 第2図 第3図 第4図
Claims (2)
- (1)洗浄液を水流させ、該水流下で食器の洗浄を行わ
せるとともに、上記洗浄液中に設置した電極の抵抗値で
洗浄液中の洗剤濃度を検知し、該検知値に基いて洗剤液
中に洗剤を補充するようにした自動食器洗浄方法におい
て、上記電極の対極を構成する電極棒に浮遊動リングを
挿通し、該浮遊動リングを洗浄液の水流下で遊動させな
がら食器の洗浄を行なうことを特徴する自動食器洗浄方
法。 - (2)洗浄液を水流させ、該水流下で食器の洗浄を行わ
せるとともに、上記洗浄液中に設置した電極の抵抗値で
洗浄液中の洗剤濃度を検知し、該検知値に基いて洗剤液
中に洗剤を補充するようにした自動食器洗浄装置におい
て、上記電極の対極を構成する電極棒に浮遊動リングを
挿通したことを特徴とする自動食器洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2187120A JPH0624502B2 (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | 自動食器洗浄方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2187120A JPH0624502B2 (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | 自動食器洗浄方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0475625A true JPH0475625A (ja) | 1992-03-10 |
| JPH0624502B2 JPH0624502B2 (ja) | 1994-04-06 |
Family
ID=16200463
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2187120A Expired - Fee Related JPH0624502B2 (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | 自動食器洗浄方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0624502B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0924016A (ja) * | 1995-07-11 | 1997-01-28 | T Paul Kk | 食器自動洗浄装置 |
| KR100368296B1 (ko) * | 2000-07-10 | 2003-01-24 | 디프러스금속공업 주식회사 | 용기세척기의 세제 및 린스 공급장치 |
| JP2008220504A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Hoshizaki Electric Co Ltd | 食器洗浄機 |
| JP2016074833A (ja) * | 2014-10-07 | 2016-05-12 | 株式会社ニイタカ | 洗浄剤組成物及び洗浄方法 |
| JP2016074869A (ja) * | 2014-12-22 | 2016-05-12 | 株式会社ニイタカ | 洗浄剤組成物及び洗浄方法 |
| JP2024096465A (ja) * | 2019-04-25 | 2024-07-12 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 食器洗い機 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100695173B1 (ko) * | 2006-03-16 | 2007-03-14 | 삼성전자주식회사 | 세제 농도 검출용 센서가 장착된 식기 세척기 및 그것을이용한 식기 세척방법 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5061898U (ja) * | 1973-10-04 | 1975-06-06 | ||
| JPS6080764U (ja) * | 1983-11-10 | 1985-06-05 | 三洋電機株式会社 | 食器洗浄機の洗剤供給制御装置 |
-
1990
- 1990-07-17 JP JP2187120A patent/JPH0624502B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5061898U (ja) * | 1973-10-04 | 1975-06-06 | ||
| JPS6080764U (ja) * | 1983-11-10 | 1985-06-05 | 三洋電機株式会社 | 食器洗浄機の洗剤供給制御装置 |
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| KR100368296B1 (ko) * | 2000-07-10 | 2003-01-24 | 디프러스금속공업 주식회사 | 용기세척기의 세제 및 린스 공급장치 |
| JP2008220504A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Hoshizaki Electric Co Ltd | 食器洗浄機 |
| JP2016074833A (ja) * | 2014-10-07 | 2016-05-12 | 株式会社ニイタカ | 洗浄剤組成物及び洗浄方法 |
| JP2016074869A (ja) * | 2014-12-22 | 2016-05-12 | 株式会社ニイタカ | 洗浄剤組成物及び洗浄方法 |
| JP2024096465A (ja) * | 2019-04-25 | 2024-07-12 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 食器洗い機 |
| JP2025129362A (ja) * | 2019-04-25 | 2025-09-04 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 食器洗い機 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0624502B2 (ja) | 1994-04-06 |
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