JPH0475778B2 - - Google Patents
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- JPH0475778B2 JPH0475778B2 JP28116586A JP28116586A JPH0475778B2 JP H0475778 B2 JPH0475778 B2 JP H0475778B2 JP 28116586 A JP28116586 A JP 28116586A JP 28116586 A JP28116586 A JP 28116586A JP H0475778 B2 JPH0475778 B2 JP H0475778B2
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/087—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J19/088—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Treatment Of Fiber Materials (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、シート状物のプラズマ処理装置、
詳しくは、ドラム形状の第１の放電電極と、この
第１の放電電極に対向する第２の放電電極とを真
空容器内に設け、該真空容器内をプラズマ雰囲気
に維持し、第１の放電電極の外周面に沿わせたシ
ート状物に該第１および第２の放電電極間で低温
プラズマ処理する装置に関するものである。
詳しくは、ドラム形状の第１の放電電極と、この
第１の放電電極に対向する第２の放電電極とを真
空容器内に設け、該真空容器内をプラズマ雰囲気
に維持し、第１の放電電極の外周面に沿わせたシ
ート状物に該第１および第２の放電電極間で低温
プラズマ処理する装置に関するものである。
近年、プラズマ処理は、たとえばプラスチツク
フイルム、布帛などのシート状物の化学的、物理
的、力学的、光学的もしくは電気的性質または表
面構造を改善する処理方法として注目されてい
る。つまり、プラズマ処理によつて、シート状物
の接着性、摩擦特性、風合、光沢もしくは染色堅
牢度を向上させ、または帯電防止、表面硬化、粗
面化、ブロツキング防止もしくは染色物の濃色化
を図り得ることが知られている。
フイルム、布帛などのシート状物の化学的、物理
的、力学的、光学的もしくは電気的性質または表
面構造を改善する処理方法として注目されてい
る。つまり、プラズマ処理によつて、シート状物
の接着性、摩擦特性、風合、光沢もしくは染色堅
牢度を向上させ、または帯電防止、表面硬化、粗
面化、ブロツキング防止もしくは染色物の濃色化
を図り得ることが知られている。
ところで、ドラム形状の放電電極と、このドラ
ム形状の放電電極に対向する複数の棒状電極とを
真空容器内に設け、シート状物を該ドラム形状の
放電電極の外周面に沿わせ、前記複数の棒状電極
とドラム形状の放電電極との間でプラズマ放電を
行なわせてシート状物に低温プラズマ処理を行な
う装置は例えば特開昭57−18737、57−195750、
57−195751、61−228028号公報等で公知である。
ム形状の放電電極に対向する複数の棒状電極とを
真空容器内に設け、シート状物を該ドラム形状の
放電電極の外周面に沿わせ、前記複数の棒状電極
とドラム形状の放電電極との間でプラズマ放電を
行なわせてシート状物に低温プラズマ処理を行な
う装置は例えば特開昭57−18737、57−195750、
57−195751、61−228028号公報等で公知である。
しかし従来のこの種プラズマ装置にあつては、
ドラム形状の第１の放電電極ばかりでなく、該第
１の放電電極に対向する第２の棒状の放電電極
も、真空容器の一側壁を貫通して片端で支持する
構造となつているものである。即ち、本発明の対
象とする第２の棒状の放電電極についてみれば、
(1)該棒状電極を、真空容器を貫通させ、しかも該
貫通部での外気のシールを、電気的絶縁材料で作
られたＯリング等で行なつているが、該棒状電極
への入力を大きくしてゆくと、前記シール部分に
局所的な発光、瞬時的な異常アーク放電が発生
し、放電が不安定となり、連続運転が不可能とな
るために大きな電力を与えることが出来ない、(2)
また工業化設備として必要な、たとえば長さ２ｍ
にも達する棒状電極では、かなり重いものとな
り、これを片側で支持しようとするとその直径は
大なるものとなり、それに従い碍子も大きなもの
としなければならず装置全体が大きくなり高価な
ものとなる、(3)また棒状電極よりの入力電力を増
やすためにピツチを小さくし、棒状物の本数を増
そうとしても、前述の構造上あまり増やすことが
出来ない、(4)さらに、棒状電極を片端で保持して
いるため、保持されていない側の端部が経時的に
垂れ下がり、製品に品質むらを生じることがある
等の欠点があるものである。
ドラム形状の第１の放電電極ばかりでなく、該第
１の放電電極に対向する第２の棒状の放電電極
も、真空容器の一側壁を貫通して片端で支持する
構造となつているものである。即ち、本発明の対
象とする第２の棒状の放電電極についてみれば、
(1)該棒状電極を、真空容器を貫通させ、しかも該
貫通部での外気のシールを、電気的絶縁材料で作
られたＯリング等で行なつているが、該棒状電極
への入力を大きくしてゆくと、前記シール部分に
局所的な発光、瞬時的な異常アーク放電が発生
し、放電が不安定となり、連続運転が不可能とな
るために大きな電力を与えることが出来ない、(2)
また工業化設備として必要な、たとえば長さ２ｍ
にも達する棒状電極では、かなり重いものとな
り、これを片側で支持しようとするとその直径は
大なるものとなり、それに従い碍子も大きなもの
としなければならず装置全体が大きくなり高価な
ものとなる、(3)また棒状電極よりの入力電力を増
やすためにピツチを小さくし、棒状物の本数を増
そうとしても、前述の構造上あまり増やすことが
出来ない、(4)さらに、棒状電極を片端で保持して
いるため、保持されていない側の端部が経時的に
垂れ下がり、製品に品質むらを生じることがある
等の欠点があるものである。
この発明は、上記従来の問題に鑑みてなされた
もので、局所的な発光、瞬時的な異常アーク放電
の発生が少なく、放電が安定し、長期連続運転が
可能で入力電力を増大させ、装置当たりの処理能
力の大きいシート状物のプラズマ処理装置を提供
することを目的とする。
もので、局所的な発光、瞬時的な異常アーク放電
の発生が少なく、放電が安定し、長期連続運転が
可能で入力電力を増大させ、装置当たりの処理能
力の大きいシート状物のプラズマ処理装置を提供
することを目的とする。
上記目的を達成するために、この発明のシート
状物のプラズマ処理装置は外周面にシート状物を
沿わせるドラム形状の第１の放電電極と、この第
１の放電電極に対向する第２の放電電極とを真空
容器の内部に設けたシート状物のプラズマ処理装
置において、上記第２の放電電極を、それを構成
する複数本の棒電極が互いに平行に、かつ第１の
ドラム状電極の周面をおおう仮想円筒周面上に並
ぶように、その両端で保持部材によりまとめて保
持したかご型構造に構成し、絶縁材を介して真空
容器内に保持した点を基本とし、さらにまた該か
ご型第２電極を冷却媒体が通過する冷却手段を具
備させたものである。
状物のプラズマ処理装置は外周面にシート状物を
沿わせるドラム形状の第１の放電電極と、この第
１の放電電極に対向する第２の放電電極とを真空
容器の内部に設けたシート状物のプラズマ処理装
置において、上記第２の放電電極を、それを構成
する複数本の棒電極が互いに平行に、かつ第１の
ドラム状電極の周面をおおう仮想円筒周面上に並
ぶように、その両端で保持部材によりまとめて保
持したかご型構造に構成し、絶縁材を介して真空
容器内に保持した点を基本とし、さらにまた該か
ご型第２電極を冷却媒体が通過する冷却手段を具
備させたものである。
この発明によれば、複数の棒電極を保持部材に
よりまとめて保持したかご型構造の電極とし、真
空容器内に保持したものであるから、(1)棒電極が
真空容器を貫通する構造がなくなり、従つて該貫
通部での局所的な発光、瞬時的な異常アーク放電
の発生による放電が不安定になることがなく、大
きな電力を与えての連続運転が可能となる、(2)複
数の棒電極をその両端で保持している構造である
ので、棒電極の直径を小さなものとすることが出
来、それに伴ない装置製作費を軽減することが出
来る、(3)棒電極のピツチを小さく出来、棒電極の
数を画期的に多くすることが出来、従つて棒電極
からの入力電力を画期的に増大させることが出来
る、(4)棒電極を、その両端で保持部材で固定して
いるため、経時的に位置が変化することがなく、
製品に品質むらを生じることが無い、さらにま
た、該かご型構造の放電電極が、それを構成する
棒電極を冷媒を用いて冷却する構造とすることに
より、(5)該棒電極の表面温度を一定に、しかも均
一に保つことが出来るので、局部的な温度上昇の
ない、即ち、処理されるシート状物を異常に加熱
し、その品質を変質させることがなく、長時間安
定して低温プラズマ処理を行なうことが出来るも
のである。
よりまとめて保持したかご型構造の電極とし、真
空容器内に保持したものであるから、(1)棒電極が
真空容器を貫通する構造がなくなり、従つて該貫
通部での局所的な発光、瞬時的な異常アーク放電
の発生による放電が不安定になることがなく、大
きな電力を与えての連続運転が可能となる、(2)複
数の棒電極をその両端で保持している構造である
ので、棒電極の直径を小さなものとすることが出
来、それに伴ない装置製作費を軽減することが出
来る、(3)棒電極のピツチを小さく出来、棒電極の
数を画期的に多くすることが出来、従つて棒電極
からの入力電力を画期的に増大させることが出来
る、(4)棒電極を、その両端で保持部材で固定して
いるため、経時的に位置が変化することがなく、
製品に品質むらを生じることが無い、さらにま
た、該かご型構造の放電電極が、それを構成する
棒電極を冷媒を用いて冷却する構造とすることに
より、(5)該棒電極の表面温度を一定に、しかも均
一に保つことが出来るので、局部的な温度上昇の
ない、即ち、処理されるシート状物を異常に加熱
し、その品質を変質させることがなく、長時間安
定して低温プラズマ処理を行なうことが出来るも
のである。
以下、この発明の実施例を図面にしたがつて説
明する。
明する。
この発明の実施例を示す第１図において、真空
容器１内には、ドラム形状のドラム電極（第１の
放電電極）２と、このドラム電極２に対向する多
数の棒電極３1，３2、…３oからなるかご型電極
（第２の放電電極）３とが、平行に設置されてい
る。これら両放電電極２，３間には、交流電源４
から、トランス５ならびに上記両放電電極２，３
を接続する電気回路６を介して電圧が付加されて
いる。
容器１内には、ドラム形状のドラム電極（第１の
放電電極）２と、このドラム電極２に対向する多
数の棒電極３1，３2、…３oからなるかご型電極
（第２の放電電極）３とが、平行に設置されてい
る。これら両放電電極２，３間には、交流電源４
から、トランス５ならびに上記両放電電極２，３
を接続する電気回路６を介して電圧が付加されて
いる。
上記真空容器１は、ステンレス製で、プラズマ
処理ガスが封入されたガス容器７とその導入管８
ならびに、真空容器１内を真空にするための真空
排気装置９とその排気管１０により、内部が極く
低圧のプラズマ処理ガスで充填された状態に保た
れている。この真空容器１内の、前記両放電電極
の左右には、巻出機１１および巻取機１３がそれ
ぞれ設置されている。Ａはシート状物で、巻出機
１１から、ガイドロール１２にガイドされ、回転
駆動されているドラム電極２の外周面に沿つて、
巻取機１３に巻き取られる。つまり、巻出機１１
のシート状物Ａは、プラズマ雰囲気に保持された
真空容器１内のドラム電極２上で連続的に低温プ
ラズマ処理されて、巻取機１３に巻き取られる。
処理ガスが封入されたガス容器７とその導入管８
ならびに、真空容器１内を真空にするための真空
排気装置９とその排気管１０により、内部が極く
低圧のプラズマ処理ガスで充填された状態に保た
れている。この真空容器１内の、前記両放電電極
の左右には、巻出機１１および巻取機１３がそれ
ぞれ設置されている。Ａはシート状物で、巻出機
１１から、ガイドロール１２にガイドされ、回転
駆動されているドラム電極２の外周面に沿つて、
巻取機１３に巻き取られる。つまり、巻出機１１
のシート状物Ａは、プラズマ雰囲気に保持された
真空容器１内のドラム電極２上で連続的に低温プ
ラズマ処理されて、巻取機１３に巻き取られる。
第２図においてドラム電極２の円筒部２ｃは、
平板状の絶縁部材１４を介して、回転軸１５に固
定されている。ドラム電極２の内部空間２ｄは、
絶縁部材１４、ゴムリング１６，１７などによつ
て、真空容器１の内部空間１ａおよび大気から完
全に密閉されている。
平板状の絶縁部材１４を介して、回転軸１５に固
定されている。ドラム電極２の内部空間２ｄは、
絶縁部材１４、ゴムリング１６，１７などによつ
て、真空容器１の内部空間１ａおよび大気から完
全に密閉されている。
上記回転軸１５は、真空容器１の外部に設けら
れたモータ（図示せず）により駆動され、その真
空容器１を貫通する貫通部１５ａ、ならびに、左
端部１５ｂにおいて、それぞれ軸受部１８および
１９のベアリング１８ａおよび１９ａを介して、
真空容器１に軸支されている。つまり、回転軸１
５は、ドラム電極２を貫通し、このドラム電極２
の両側壁部を構成する絶縁部材１４，１４から突
出し、この両側の突出している部分において軸支
されている。１８ｂはメカニカルシールで、上記
軸受部１８に設けられ、真空容器１の内部空間１
ａを大気に対してシールしている。
れたモータ（図示せず）により駆動され、その真
空容器１を貫通する貫通部１５ａ、ならびに、左
端部１５ｂにおいて、それぞれ軸受部１８および
１９のベアリング１８ａおよび１９ａを介して、
真空容器１に軸支されている。つまり、回転軸１
５は、ドラム電極２を貫通し、このドラム電極２
の両側壁部を構成する絶縁部材１４，１４から突
出し、この両側の突出している部分において軸支
されている。１８ｂはメカニカルシールで、上記
軸受部１８に設けられ、真空容器１の内部空間１
ａを大気に対してシールしている。
回転軸１５には、長孔１５ｇが設けられ、この
長孔１５ｇ内にパイプ１５ｈが挿入され、パイプ
１５ｈの内側および外側に冷却媒体の流通する冷
却通路２０，２１が設けられている。２２は短管
（配管材料）で、たとえばゴムなどの絶縁体から
なり、上記冷却通路２０，２１を水ジヤケツト２
ａに連通させている。
長孔１５ｇ内にパイプ１５ｈが挿入され、パイプ
１５ｈの内側および外側に冷却媒体の流通する冷
却通路２０，２１が設けられている。２２は短管
（配管材料）で、たとえばゴムなどの絶縁体から
なり、上記冷却通路２０，２１を水ジヤケツト２
ａに連通させている。
なお、この実施例では、スリツプリング２３が
真空容器１内に設けられ、このスリツプリング２
３が導線２４を介してドラム電極２の側面部２ｅ
の一部に接続されている。
真空容器１内に設けられ、このスリツプリング２
３が導線２４を介してドラム電極２の側面部２ｅ
の一部に接続されている。
上記電気回路６の一方は、真空容器１を電気回
路６から絶縁する導入端子６ａを介して真空容器
１内に挿入され、棒電極３1，３2，…，３oから
なるかご型電極３に接続されている。つまり、真
空容器１は電気回路６から電気的に絶縁され、ま
た、アースされた接地状態に保たれている。な
お、電気回路６および両放電電極２，３は非接地
状態に保たれて、真空容器１と厳格に絶縁されて
いる。
路６から絶縁する導入端子６ａを介して真空容器
１内に挿入され、棒電極３1，３2，…，３oから
なるかご型電極３に接続されている。つまり、真
空容器１は電気回路６から電気的に絶縁され、ま
た、アースされた接地状態に保たれている。な
お、電気回路６および両放電電極２，３は非接地
状態に保たれて、真空容器１と厳格に絶縁されて
いる。
この実施例によれば、ドラム電極２の側面部が
絶縁部材１４でおおわれているから、上記側面部
２ｅへの不必要なプラズマ放電が防止される。ま
た、これにより、ドラム電極２の両側面部２ｅ近
傍における昇温を防止し得るから、シート状物を
全面に亙つて均一にプラズマ処理し得る。
絶縁部材１４でおおわれているから、上記側面部
２ｅへの不必要なプラズマ放電が防止される。ま
た、これにより、ドラム電極２の両側面部２ｅ近
傍における昇温を防止し得るから、シート状物を
全面に亙つて均一にプラズマ処理し得る。
また、絶縁体からなる短管２２を介して、水ジ
ヤケツト２ａが冷却通路２０，２１に連通してい
るから、ドラム電極２から冷却媒体を通して回転
軸１５へ流れる電流が小さくなるので、回転軸１
５をドラム電極２から、より厳格に絶縁し得る。
ヤケツト２ａが冷却通路２０，２１に連通してい
るから、ドラム電極２から冷却媒体を通して回転
軸１５へ流れる電流が小さくなるので、回転軸１
５をドラム電極２から、より厳格に絶縁し得る。
また、ドラム電極２の内部空間２ｄは、ドラム
電極２が大気中で組立てられるので、大気で満た
されており、プラズマ雰囲気でないから、この内
部空間２ｄでの局部的な発光が起こらず、プラズ
マ放電が安定化する。
電極２が大気中で組立てられるので、大気で満た
されており、プラズマ雰囲気でないから、この内
部空間２ｄでの局部的な発光が起こらず、プラズ
マ放電が安定化する。
上記ドラム電極２（第１の放電電極）に対向す
る多数の棒電極３1，３2、，，３oは、その両端３
ａが一対の支持部材２５に固定され、この支持部
材２５が碍子２８を介して真空容器に支持されて
いる。この多数の棒電極３1，３2、…，３oから
なるかご型構造の放電電極３（第２の放電電極）
についてさらに説明したのが第３図で、かご型電
極３は多数の棒電極３1，３2，…，３oがほぼ等
ピツチとなるように支持部材２５1，２５2で固定
され、該支持部材２５1，２５2を支持ブラケツト
２６1，２６2で前記碍子２８を介して真空容器１
に保持するようになしている。
る多数の棒電極３1，３2、，，３oは、その両端３
ａが一対の支持部材２５に固定され、この支持部
材２５が碍子２８を介して真空容器に支持されて
いる。この多数の棒電極３1，３2、…，３oから
なるかご型構造の放電電極３（第２の放電電極）
についてさらに説明したのが第３図で、かご型電
極３は多数の棒電極３1，３2，…，３oがほぼ等
ピツチとなるように支持部材２５1，２５2で固定
され、該支持部材２５1，２５2を支持ブラケツト
２６1，２６2で前記碍子２８を介して真空容器１
に保持するようになしている。
上記棒電極３1，３2，…，３oのピツチは、等
ピツチにあるのがより好ましいが、製作費も加味
すると、実用上少なくとも50％以上についてのピ
ツチのばらつきが、棒電極の平均外径の３倍以下
であることが好ましい。
ピツチにあるのがより好ましいが、製作費も加味
すると、実用上少なくとも50％以上についてのピ
ツチのばらつきが、棒電極の平均外径の３倍以下
であることが好ましい。
棒電極３1，３2，…，３oを仮想円筒周面上に
並ばせ固定する前記支持部材２５1，２５2は、製
作上、取り付け作業上あるいは保守作業上等の都
合で２分割あるいはそれ以上に分割できるように
することも無論可能である。
並ばせ固定する前記支持部材２５1，２５2は、製
作上、取り付け作業上あるいは保守作業上等の都
合で２分割あるいはそれ以上に分割できるように
することも無論可能である。
第１図および第３図の２７1および２７2は、そ
れぞれ冷媒の供給口並びに排出口を示す。即ち、
図例はおいては、かご型電極３全体が冷却媒体で
冷却可能とした図を示すもので、棒電極３1，３
２，…，３oを、その内部に冷却媒体が通過する冷
媒通路を設けると共に支持部材２５を該棒電極３
１，３2，…，３oへの冷媒の供給並びに排出を行
なわせる冷媒通路を設けたものとしている。また
この冷媒の供給口２７1，２７2は、それぞれ30mm
以上の絶縁材料からなる絶縁短管（図示せず）を
介して冷媒の給・排液管へつながるようにすれ
ば、この絶縁短管の介在により、局所的な発光、
瞬時的な異常アーク放電の発生を該絶縁短管を介
在させない場合に比べて大きく減少させることが
できる。
れぞれ冷媒の供給口並びに排出口を示す。即ち、
図例はおいては、かご型電極３全体が冷却媒体で
冷却可能とした図を示すもので、棒電極３1，３
２，…，３oを、その内部に冷却媒体が通過する冷
媒通路を設けると共に支持部材２５を該棒電極３
１，３2，…，３oへの冷媒の供給並びに排出を行
なわせる冷媒通路を設けたものとしている。また
この冷媒の供給口２７1，２７2は、それぞれ30mm
以上の絶縁材料からなる絶縁短管（図示せず）を
介して冷媒の給・排液管へつながるようにすれ
ば、この絶縁短管の介在により、局所的な発光、
瞬時的な異常アーク放電の発生を該絶縁短管を介
在させない場合に比べて大きく減少させることが
できる。
第４図並びに第５図は、冷却手段を備えたかご
型電極３の、より詳しい実施例図で、第４図は該
かご型電３の正面図、第５図は同側面図である。
この実施例においては、冷媒通路３1a，３2a，
…，３oａを設けた各棒電極３1，３2，…，３oは
その冷媒通路が、同じく冷媒通路２５1a，２５2a
を設けた支持部材の該冷媒通路に続くように、か
ご型に溶接固定されているが、並列にならんだ前
記各棒電極の冷媒通路を順次直列に結ぶように、
支持部材の冷媒通路を仕切板２９で仕切つてい
る。
型電極３の、より詳しい実施例図で、第４図は該
かご型電３の正面図、第５図は同側面図である。
この実施例においては、冷媒通路３1a，３2a，
…，３oａを設けた各棒電極３1，３2，…，３oは
その冷媒通路が、同じく冷媒通路２５1a，２５2a
を設けた支持部材の該冷媒通路に続くように、か
ご型に溶接固定されているが、並列にならんだ前
記各棒電極の冷媒通路を順次直列に結ぶように、
支持部材の冷媒通路を仕切板２９で仕切つてい
る。
第６図並びに第７図は、冷却手段を備えたかご
型電極３の他の実施例図で、第６図は該かご型電
極の正面図、第７図は同側面図である。この実施
例においては、前記実施例の場合での仕切板２９
を外した例で、この例においては、一方の支持部
材の冷媒通路が、各棒電極の冷媒通路の共通の入
口側冷却路となり、他方の支持部材の冷媒通路が
各棒電極の冷媒通路の共通の出口側冷却路となる
ものである。
型電極３の他の実施例図で、第６図は該かご型電
極の正面図、第７図は同側面図である。この実施
例においては、前記実施例の場合での仕切板２９
を外した例で、この例においては、一方の支持部
材の冷媒通路が、各棒電極の冷媒通路の共通の入
口側冷却路となり、他方の支持部材の冷媒通路が
各棒電極の冷媒通路の共通の出口側冷却路となる
ものである。
第８図は、冷却手段を備えたかご型電極３の、
更に他の実施例図で、第７図に対応する、支持部
材２５と各棒電極３Xとの結合部分の部分拡大断
面図である。この実施例においては、棒電極の冷
媒通路３Xａにオリフイス３０を配し、このオリ
フイスにより支持部材２５1の一方から各棒状電
極へ送られる冷媒を各棒電極に対してより均一に
分配して給供するようになした例である。
更に他の実施例図で、第７図に対応する、支持部
材２５と各棒電極３Xとの結合部分の部分拡大断
面図である。この実施例においては、棒電極の冷
媒通路３Xａにオリフイス３０を配し、このオリ
フイスにより支持部材２５1の一方から各棒状電
極へ送られる冷媒を各棒電極に対してより均一に
分配して給供するようになした例である。
即ち、この発明においては、ドラム形状の第１
の放電電極に対向する複数の棒電極からなる第２
の放電電極を、前述実施例で説明した如く、該複
数の棒電極を支持部材にまとめて保持した構造と
なしたので、棒電極が真空容器を貫通する構造が
なくなり、従つて該貫通構造の場合での放電が不
安定になる欠点が根本的に解決でき、しかも棒電
極をその直径を小さなものとすることが出来、か
つそのピツチを小さく出来、そのような径の小さ
い棒電極をピツチ小さく数多く、ドラム形状の第
１放電電極のまわりに配置することが出来るの
で、大きな入力電力を与えて効率よくプラズマ処
理を行なうことが可能となるもので、さらにま
た、該かご型電極を冷媒を用いてその表面温度を
一定かつ均一に保つようにすることによつて、よ
り長時間安定した連続処理が可能となるものであ
り、この発明により、工業的なプラズマ処理装置
としての実用性が大きく向上するものである。
の放電電極に対向する複数の棒電極からなる第２
の放電電極を、前述実施例で説明した如く、該複
数の棒電極を支持部材にまとめて保持した構造と
なしたので、棒電極が真空容器を貫通する構造が
なくなり、従つて該貫通構造の場合での放電が不
安定になる欠点が根本的に解決でき、しかも棒電
極をその直径を小さなものとすることが出来、か
つそのピツチを小さく出来、そのような径の小さ
い棒電極をピツチ小さく数多く、ドラム形状の第
１放電電極のまわりに配置することが出来るの
で、大きな入力電力を与えて効率よくプラズマ処
理を行なうことが可能となるもので、さらにま
た、該かご型電極を冷媒を用いてその表面温度を
一定かつ均一に保つようにすることによつて、よ
り長時間安定した連続処理が可能となるものであ
り、この発明により、工業的なプラズマ処理装置
としての実用性が大きく向上するものである。
以上説明したように、この発明によれば、大き
な電力を消費するシート状物のプラズマ処理装置
における電力の浪費を防止し得るとともに、異常
なアーク放電を防止し放電が安定するので、上記
処理装置が入力電力を増大させ装置当たりの処理
能力の大きい、即ち、工業的な処理能力を得ると
ともに、これの連続運転が可能になる。
な電力を消費するシート状物のプラズマ処理装置
における電力の浪費を防止し得るとともに、異常
なアーク放電を防止し放電が安定するので、上記
処理装置が入力電力を増大させ装置当たりの処理
能力の大きい、即ち、工業的な処理能力を得ると
ともに、これの連続運転が可能になる。
なおこれまでの説明は、第１図に示されるバツ
チ装置について例示したが、この発明が、第１図
での巻出機１１および巻取機１３を、ドラム電極
２およびかご型電極３が配される真空容器１内に
配さず、図示していないが、真空容器１の前後に
設けた予備真空の前後に配した連続装置について
も適用されることは無論である。
チ装置について例示したが、この発明が、第１図
での巻出機１１および巻取機１３を、ドラム電極
２およびかご型電極３が配される真空容器１内に
配さず、図示していないが、真空容器１の前後に
設けた予備真空の前後に配した連続装置について
も適用されることは無論である。
第１図はこの説明の実施例を示す概略構成図、
第２図は第１図の縦断面図、第３図はかご型電極
の斜視図、第４図は冷却手段を具備したかご型電
極の部分的に切断した正面図、第５図は同じく部
分的に切断した側面図、第６図は別の冷却手段を
具備したかご型電極の部分的に切断した正面図、
第７図は同じく部分的に切断した側面図、第８図
はさらに別の冷却手段を示すかご型電極の部分断
面図である。 １……真空容器、１ａ……内部空間、２……第
１の放電電極（ドラム電極）、２ａ……冷却通路
（水ジヤケツト）、２ｂ……側壁部、２ｃ……円筒
部、２ｄ……内部空間、２ｅ……側面部、３……
第２の放電電極（棒電極）、３ａ……冷媒通路、
６……電気回路、７……ガス供給源（ガス容器）、
１４……絶縁部材、１５……回転軸、１５ａ，１
５ｂ……突出部（貫通部、左端部）、２０，２１
……冷却通路、２２……配管材料（短管）、２５
……支持部材、２５ａ……冷媒通路、２６……冷
媒給排口、２７……支持用ブラケツト、２８……
碍子、２９……冷媒通路仕切板、３０……冷媒オ
リフイス、Ａ……シート状物。
第２図は第１図の縦断面図、第３図はかご型電極
の斜視図、第４図は冷却手段を具備したかご型電
極の部分的に切断した正面図、第５図は同じく部
分的に切断した側面図、第６図は別の冷却手段を
具備したかご型電極の部分的に切断した正面図、
第７図は同じく部分的に切断した側面図、第８図
はさらに別の冷却手段を示すかご型電極の部分断
面図である。 １……真空容器、１ａ……内部空間、２……第
１の放電電極（ドラム電極）、２ａ……冷却通路
（水ジヤケツト）、２ｂ……側壁部、２ｃ……円筒
部、２ｄ……内部空間、２ｅ……側面部、３……
第２の放電電極（棒電極）、３ａ……冷媒通路、
６……電気回路、７……ガス供給源（ガス容器）、
１４……絶縁部材、１５……回転軸、１５ａ，１
５ｂ……突出部（貫通部、左端部）、２０，２１
……冷却通路、２２……配管材料（短管）、２５
……支持部材、２５ａ……冷媒通路、２６……冷
媒給排口、２７……支持用ブラケツト、２８……
碍子、２９……冷媒通路仕切板、３０……冷媒オ
リフイス、Ａ……シート状物。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 外周面にシート状物を沿わせるドラム形状の
第１の放電電極と、この第１の放電電極に対向す
る第２の放電電極とを真空容器の内部に設けたシ
ール状物のプラズマ処理装置において、上記第２
の放電電極を、それを構成する複数本の棒電極が
互いに平行に、かつ第１のドラム状電極の周面を
おおう仮想円筒周面上に並ぶように、その両端で
保持部材によりまとめて保持したかご型構造に構
成し、絶縁材を介して真空容器内に保持したこと
を特徴とするシート状物のプラズマ処理装置。 ２ かご型構造を構成する棒電極が、その内部に
冷却媒体の通過する冷媒通路を有し、支持部材が
前記棒電極の冷媒通路を順次直列に結ぶ冷却路を
構成していることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載のシート状物のプラズマ処理装置。 ３ かご型構造を構成する棒電極が、その内部に
冷却媒体の通過する冷媒通路を有し、支持部材が
前記棒電極の冷媒通路の各入口側並びに各出口側
をそれぞれ並列に結ぶ冷却路を構成していること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載のシート
状物のプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28116586A JPS63134052A (ja) | 1986-11-25 | 1986-11-25 | シ−ト状物のプラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28116586A JPS63134052A (ja) | 1986-11-25 | 1986-11-25 | シ−ト状物のプラズマ処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63134052A JPS63134052A (ja) | 1988-06-06 |
| JPH0475778B2 true JPH0475778B2 (ja) | 1992-12-01 |
Family
ID=17635256
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28116586A Granted JPS63134052A (ja) | 1986-11-25 | 1986-11-25 | シ−ト状物のプラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63134052A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006351437A (ja) * | 2005-06-17 | 2006-12-28 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 表面処理装置及び表面処理方法 |
| JP5138342B2 (ja) * | 2007-11-14 | 2013-02-06 | 株式会社イー・エム・ディー | プラズマ処理装置 |
| JP4786723B2 (ja) * | 2009-01-23 | 2011-10-05 | 三菱重工業株式会社 | プラズマｃｖｄ装置とプラズマｃｖｄ装置用電極 |
-
1986
- 1986-11-25 JP JP28116586A patent/JPS63134052A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63134052A (ja) | 1988-06-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |