JPH0476505A - グレーティング素子 - Google Patents
グレーティング素子Info
- Publication number
- JPH0476505A JPH0476505A JP19166990A JP19166990A JPH0476505A JP H0476505 A JPH0476505 A JP H0476505A JP 19166990 A JP19166990 A JP 19166990A JP 19166990 A JP19166990 A JP 19166990A JP H0476505 A JPH0476505 A JP H0476505A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waveguide layer
- grating
- glass substrate
- layer
- thickness
- Prior art date
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- Pending
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- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、光学素子の一種であるグレーティング素子に
関する。具体的にいうと、本発明は、入出力カップラ、
集光カップラ、光路変換器、光路偏向器、導波路レンズ
、反射器、モード変換器、その他のグレーティング素子
に関する。
関する。具体的にいうと、本発明は、入出力カップラ、
集光カップラ、光路変換器、光路偏向器、導波路レンズ
、反射器、モード変換器、その他のグレーティング素子
に関する。
[背景技術]
第5図に示すものは、従来より用いられている集光グレ
ーティングカップラ31の斜視図である。
ーティングカップラ31の斜視図である。
第6図及び第7図は、従来より用いられているリニアグ
レーティングカップラ32の斜視図及び断面図である。
レーティングカップラ32の斜視図及び断面図である。
これらのグレーティングカップラ31.32は、ガラス
基板33の表面に紫外線硬化型樹脂からなる導波層34
及びグレーティング35を形成されたものであり、グレ
ーティングパターンを凹設されたスタンパ(図示せず)
とガラス基板33との間に未硬化の紫外線硬化型樹脂を
注入し、ガラス基板33を透過させて紫外線硬化型樹脂
に紫外線を照射させて硬化させた後、グレーティングカ
ップラ31.32からスタンパを剥離させる方法(2P
法)により作製されている。
基板33の表面に紫外線硬化型樹脂からなる導波層34
及びグレーティング35を形成されたものであり、グレ
ーティングパターンを凹設されたスタンパ(図示せず)
とガラス基板33との間に未硬化の紫外線硬化型樹脂を
注入し、ガラス基板33を透過させて紫外線硬化型樹脂
に紫外線を照射させて硬化させた後、グレーティングカ
ップラ31.32からスタンパを剥離させる方法(2P
法)により作製されている。
[発明が解決しようとする課題]
グレーティングカップラ31.32においては、導波層
厚dは、導波光の伝搬定数を決定する重要なパラメータ
であり、このパラメータが設計値からずれると、光の入
出射角θも設計値から外れることになるため、導波層3
4の高精度な厚み制御が重要である。
厚dは、導波光の伝搬定数を決定する重要なパラメータ
であり、このパラメータが設計値からずれると、光の入
出射角θも設計値から外れることになるため、導波層3
4の高精度な厚み制御が重要である。
しかしながら、上記のように2P法で製造されるグレー
ティングカップラ31.32では、導波層34の厚さd
は、スタンパとガラス基板33との間隔によって決まり
、また当該間隔は紫外線硬化型樹脂の注入圧によって制
御されているので、導波層厚dを高精度にコントロール
することが困難であった。また、スタンパとガラス基板
33との間隔を2餅以下にするのが困難であり、これ以
下の厚みの導波層34を得ることが困難であった。
ティングカップラ31.32では、導波層34の厚さd
は、スタンパとガラス基板33との間隔によって決まり
、また当該間隔は紫外線硬化型樹脂の注入圧によって制
御されているので、導波層厚dを高精度にコントロール
することが困難であった。また、スタンパとガラス基板
33との間隔を2餅以下にするのが困難であり、これ以
下の厚みの導波層34を得ることが困難であった。
このため、光の人出射角θのバラツキも発生し易かった
。
。
本発明は、叙上の従来例の欠点に鑑みてなされたもので
あり、その目的とするところは、高精度な導波層厚制御
を行なうことができ、また、極めて薄い導波層を形成す
ることができるグレーティング素子を提供することにあ
る。
あり、その目的とするところは、高精度な導波層厚制御
を行なうことができ、また、極めて薄い導波層を形成す
ることができるグレーティング素子を提供することにあ
る。
「課題を解決するための手段コ
本発明のグレーティング素子は、スパッタやCVD等の
薄膜形成技術により無機材料を基板の上に成膜された導
波層と、有機材料により導波層の上に形成されたグレー
ティング層を備えたことを特徴としている。
薄膜形成技術により無機材料を基板の上に成膜された導
波層と、有機材料により導波層の上に形成されたグレー
ティング層を備えたことを特徴としている。
「作用コ
本発明にあっては、スパッタやCVD等の薄膜形成技術
を用いて基板の上に無機材料からなる導波層を形成して
いるので、導波層の膜厚制御を容易に行なえる。すなわ
ち、導波層厚な高精度に制御することができ、また、よ
り厚みの薄い導波層を作製することもできる。
を用いて基板の上に無機材料からなる導波層を形成して
いるので、導波層の膜厚制御を容易に行なえる。すなわ
ち、導波層厚な高精度に制御することができ、また、よ
り厚みの薄い導波層を作製することもできる。
したかって、導波層厚のバラツキによる光の人出射角等
の光学的特性のバラツキも軽減され、グレーティング素
子の光学的特性を良好にすることができる。
の光学的特性のバラツキも軽減され、グレーティング素
子の光学的特性を良好にすることができる。
また、導波層は、無機材料によって形成されているので
、有機材料を用いたものよりも、対環境性が安定してい
る。
、有機材料を用いたものよりも、対環境性が安定してい
る。
さらに、凹凸形状(グレーティング)を形成する必要の
あるグレーティング層は、有機材料によって形成されて
いるので、例えば樹脂成形によって容易に形成すること
ができ、量産性にも優れる。
あるグレーティング層は、有機材料によって形成されて
いるので、例えば樹脂成形によって容易に形成すること
ができ、量産性にも優れる。
「実施例]
以下、本発明の実施例を添付図に基づいて詳述する。
第1図及び第2図は、本発明の一実施例のりニアグレー
ティングカップラ1を示す。このリニアグレーティング
カップラ1は、ガラス基板2の表面に透明な無機材料か
らなる導波層3を形成したものであり、導波層3の上に
は、紫外線硬化型樹脂からなるグレーティング層4が積
層されており。
ティングカップラ1を示す。このリニアグレーティング
カップラ1は、ガラス基板2の表面に透明な無機材料か
らなる導波層3を形成したものであり、導波層3の上に
は、紫外線硬化型樹脂からなるグレーティング層4が積
層されており。
グレーティング層4には、凹溝状のグレーティング5が
形成されている。導波層3は、例えば、次の第1表に示
すような無機材料を用いてスパッタやCVD等の薄膜形
成技術により成膜されており、各々無機材料の種類に応
じて第1表の対応する作製方法によって形成するのが好
ましい。
形成されている。導波層3は、例えば、次の第1表に示
すような無機材料を用いてスパッタやCVD等の薄膜形
成技術により成膜されており、各々無機材料の種類に応
じて第1表の対応する作製方法によって形成するのが好
ましい。
(以下、余白)
第 1 表
第3図には、上記リニアグレーティングカップラ1の製
造方法を示している。まず第3図(a)は、原盤6の作
製工程であって、電子線描画法によってガラス基板7上
に電子線レジスト8によるグレーティングパターンが形
成されている。ついで、上記原盤6を用い、電鋳法によ
り第3図(b)に示すようなニッケル製のスタンパ9が
作成される。
造方法を示している。まず第3図(a)は、原盤6の作
製工程であって、電子線描画法によってガラス基板7上
に電子線レジスト8によるグレーティングパターンが形
成されている。ついで、上記原盤6を用い、電鋳法によ
り第3図(b)に示すようなニッケル製のスタンパ9が
作成される。
こうしてスタンパ9が作製されると、第3図(C)に示
すように、ガラス基板2上に第1表のような透明無機材
料を用いてスパッタもしくはCVD法によって所望の膜
厚となるように導波層3を成膜する。導波層3を形成さ
れたガラス基板2は、第3図(d)に示すように、スタ
ンバ9と微少な間隙を介して対向させられ、スタンバ9
と導波層3との間に未硬化の紫外線硬化型樹脂10か注
入される。紫外線硬化型樹脂10が注入されると、ガラ
ス基板2側から紫外線11を照射する。紫外線11はガ
ラス基板2及び導波層3を透過し、紫外線硬化型樹脂1
0に照射されるので、紫外線硬化型樹脂10が硬化して
2P法によりグレーティング層4が成形される。こうし
て、紫外線硬化型樹脂10が硬化すると、第3図(e)
に示すように、スタンパ9からリニアグレーティングカ
ップラ1が剥離され、リニアグレーティングカップラ1
が製造される。
すように、ガラス基板2上に第1表のような透明無機材
料を用いてスパッタもしくはCVD法によって所望の膜
厚となるように導波層3を成膜する。導波層3を形成さ
れたガラス基板2は、第3図(d)に示すように、スタ
ンバ9と微少な間隙を介して対向させられ、スタンバ9
と導波層3との間に未硬化の紫外線硬化型樹脂10か注
入される。紫外線硬化型樹脂10が注入されると、ガラ
ス基板2側から紫外線11を照射する。紫外線11はガ
ラス基板2及び導波層3を透過し、紫外線硬化型樹脂1
0に照射されるので、紫外線硬化型樹脂10が硬化して
2P法によりグレーティング層4が成形される。こうし
て、紫外線硬化型樹脂10が硬化すると、第3図(e)
に示すように、スタンパ9からリニアグレーティングカ
ップラ1が剥離され、リニアグレーティングカップラ1
が製造される。
また、本発明は、上記実施例以外にも種々の実施例が可
能である。特に、導波層をスパッタ法やCVD法等によ
って形成するようにしたことにより、音響光学効果や電
気光学効果を有する前記第1表のような無機材料や、さ
らには磁性材料を、導波層材料として用いることかでき
るようになるので、これらの材料の物理的特性を活かし
た能動的光導波デバイスを作製することもできる。
能である。特に、導波層をスパッタ法やCVD法等によ
って形成するようにしたことにより、音響光学効果や電
気光学効果を有する前記第1表のような無機材料や、さ
らには磁性材料を、導波層材料として用いることかでき
るようになるので、これらの材料の物理的特性を活かし
た能動的光導波デバイスを作製することもできる。
例えは、第4図に示すリニアグレーティングカップラ1
2は、音響光学効果を有するZnOを用いて導波層3を
形成し、導波層3の表面に@極材料を蒸着させて櫛歯状
をしたIDT(インターデジタルトランスデユーサ)1
3を作成し、導波層3の上に突状の2 Mのグレーティ
ング14を有するグレーティング層4を形成したもので
ある。
2は、音響光学効果を有するZnOを用いて導波層3を
形成し、導波層3の表面に@極材料を蒸着させて櫛歯状
をしたIDT(インターデジタルトランスデユーサ)1
3を作成し、導波層3の上に突状の2 Mのグレーティ
ング14を有するグレーティング層4を形成したもので
ある。
しかして、IDT13に電気信号を印加させると、グレ
ーティング14間において、導波層3表面に弾性表面波
(SAW)15が伝播させられる。
ーティング14間において、導波層3表面に弾性表面波
(SAW)15が伝播させられる。
この結果、IDT13から弾性表面波15が伝播されて
いない場合には、一方のグレーティング14から入射し
て導波層3を伝搬し、他方のグレーティング14からP
方向へ出射されていた光線16は、IDT13から弾性
表面波15が伝播されると、導波層3で弾性表面波15
によって偏向を受け、出射側のグレーティング14から
Q方向へ射出される。
いない場合には、一方のグレーティング14から入射し
て導波層3を伝搬し、他方のグレーティング14からP
方向へ出射されていた光線16は、IDT13から弾性
表面波15が伝播されると、導波層3で弾性表面波15
によって偏向を受け、出射側のグレーティング14から
Q方向へ射出される。
上記実施例では、音響光学効果を利用したが、これ以外
の材料、例えば、電気光学効果を有する無機材料によっ
て導波層を形成し、導波層に光シャッタの機能を持たせ
ることなども可能である。
の材料、例えば、電気光学効果を有する無機材料によっ
て導波層を形成し、導波層に光シャッタの機能を持たせ
ることなども可能である。
なお、図示しないが、導波層とガラス基板との間には、
導波層よりも屈折率の小さな光学材料からなるバッファ
層を設けてもよい。
導波層よりも屈折率の小さな光学材料からなるバッファ
層を設けてもよい。
また、本発明は、リニアグレーティングカップラ以外に
も、葉先グレーティングカップラ等の種々のグレーティ
ング素子にも実施することができることは、もちろんで
ある。
も、葉先グレーティングカップラ等の種々のグレーティ
ング素子にも実施することができることは、もちろんで
ある。
[発明の効果コ
本発明によれば、導波層の膜厚制御を容易かつ高精度で
行なえ、また、サブミクロンの膜厚制御も可能になる。
行なえ、また、サブミクロンの膜厚制御も可能になる。
したかって、導波層厚のバラツキによる光の入出射角等
の光学的特性のバラツキも軽減され、グレーティング素
子の光学的特性を良好にすることができる。
の光学的特性のバラツキも軽減され、グレーティング素
子の光学的特性を良好にすることができる。
また、無機材料の導波層は、対環境性も安定しさらに、
グレーティング層は有機材料によって形成しているから
、例えば樹脂成形によって容易に形成することができ、
量産性にも優れている。
グレーティング層は有機材料によって形成しているから
、例えば樹脂成形によって容易に形成することができ、
量産性にも優れている。
第1図は本発明の一実施例を示す斜視図、第2図は同上
の一部破断した断面図、第3図は同上のグレーティング
カップラの製造方法を示す説明図、第4図は本発明の他
側を示す斜視図、第5図は従来例の斜視図、第6図は別
な従来例の斜視図、第7図は同上の一部破断した断面図
である。 2・・・ガラス基板 3・・・導波層 4・・・グレーティング層
の一部破断した断面図、第3図は同上のグレーティング
カップラの製造方法を示す説明図、第4図は本発明の他
側を示す斜視図、第5図は従来例の斜視図、第6図は別
な従来例の斜視図、第7図は同上の一部破断した断面図
である。 2・・・ガラス基板 3・・・導波層 4・・・グレーティング層
Claims (1)
- (1)スパッタやCVD等の薄膜形成技術により無機材
料を基板の上に成膜された導波層と、有機材料により導
波層の上に形成されたグレーティング層を備えたグレー
ティング素子。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19166990A JPH0476505A (ja) | 1990-07-18 | 1990-07-18 | グレーティング素子 |
| EP19900118452 EP0420173A3 (en) | 1989-09-26 | 1990-09-26 | Rib optical waveguide and method of manufacturing the same |
| US07/588,332 US5138687A (en) | 1989-09-26 | 1990-09-26 | Rib optical waveguide and method of manufacturing the same |
| US07/925,613 US5511142A (en) | 1989-09-26 | 1992-08-06 | Rib optical waveguide and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19166990A JPH0476505A (ja) | 1990-07-18 | 1990-07-18 | グレーティング素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0476505A true JPH0476505A (ja) | 1992-03-11 |
Family
ID=16278490
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19166990A Pending JPH0476505A (ja) | 1989-09-26 | 1990-07-18 | グレーティング素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0476505A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7136565B1 (en) | 2005-05-23 | 2006-11-14 | Imation Corp. | Optical waveguide disk |
| KR100895148B1 (ko) * | 2002-11-20 | 2009-05-04 | 엘지전자 주식회사 | 고분자 광도파관 그레이팅 제조방법 |
-
1990
- 1990-07-18 JP JP19166990A patent/JPH0476505A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100895148B1 (ko) * | 2002-11-20 | 2009-05-04 | 엘지전자 주식회사 | 고분자 광도파관 그레이팅 제조방법 |
| US7136565B1 (en) | 2005-05-23 | 2006-11-14 | Imation Corp. | Optical waveguide disk |
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