JPH0477469A - 4―ニトロインドール誘導体 - Google Patents
4―ニトロインドール誘導体Info
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- JPH0477469A JPH0477469A JP18914590A JP18914590A JPH0477469A JP H0477469 A JPH0477469 A JP H0477469A JP 18914590 A JP18914590 A JP 18914590A JP 18914590 A JP18914590 A JP 18914590A JP H0477469 A JPH0477469 A JP H0477469A
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Landscapes
- Indole Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は医薬品の製造中間体として有用な、−般式
キャリルー4−二トロインドールなどが知られてし・)
る〔ジャーナル オブ オルガニック ケミストリー(
J、 Org、Chem、) 30巻、12号、438
1〜4384ページ、1965年;同36巻、23号、
3621〜3624ページ、(式中のR1は水素原子ま
たは低級アルキル基てあ80巻、17号、95652C
11974年;同81巻、23号、196501u、1
974年;同89巻、23号、196501u、体に関
するものである。
る〔ジャーナル オブ オルガニック ケミストリー(
J、 Org、Chem、) 30巻、12号、438
1〜4384ページ、1965年;同36巻、23号、
3621〜3624ページ、(式中のR1は水素原子ま
たは低級アルキル基てあ80巻、17号、95652C
11974年;同81巻、23号、196501u、1
974年;同89巻、23号、196501u、体に関
するものである。
従来の技術
本発明の前記一般式(1)で表される化合物のような4
−ニトロインドール誘導体としてこれまてい(つかの化
合物が製造されている。
−ニトロインドール誘導体としてこれまてい(つかの化
合物が製造されている。
例えば、5−ヒドロキシ−6−メチル−4−二トロイン
ドール、5−ベンジルオキシ−3−シアンメチル−4−
二トロインドール、5−ベンジルオキシ−3−エト明の
化合物とは異なるものであり、また、これらの文献には
本発明の内容を示唆する記載もない。
ドール、5−ベンジルオキシ−3−シアンメチル−4−
二トロインドール、5−ベンジルオキシ−3−エト明の
化合物とは異なるものであり、また、これらの文献には
本発明の内容を示唆する記載もない。
発明が解決しようとする課題
式
水素原子である化合物は、式
する。
例えば、・一般式(I)の化合物でR1とR2が共にで
表される4−アミノインドールを酸化剤、例えばm−ク
ロロ過安息香酸で酸化することによりきわtて容易に製
造することができる。
表される4−アミノインドールを酸化剤、例えばm−ク
ロロ過安息香酸で酸化することによりきわtて容易に製
造することができる。
2.3−無置換インドールの酸化反応は、きわ於て多く
の酸化成績体を与え、しかも21体、3量体あるいはポ
リマーを生成するなど反応がクリーンでなく、単一の生
成物を効率よく生成することは困難とされていた。しか
しながら、驚くべきことに本発明の製造方法では目的と
する5−ヒドロキン4−二トロインドールを効率よく製
造することができた。
の酸化成績体を与え、しかも21体、3量体あるいはポ
リマーを生成するなど反応がクリーンでなく、単一の生
成物を効率よく生成することは困難とされていた。しか
しながら、驚くべきことに本発明の製造方法では目的と
する5−ヒドロキン4−二トロインドールを効率よく製
造することができた。
本発明の一般式(I)の化合物でR1が低級アルキル基
であり R2が水素原子である化合物は上記で得た5−
ヒト0キシ−4−二トロインドールを通常の方法により
0−アルキル化することによって製造することができる
。
であり R2が水素原子である化合物は上記で得た5−
ヒト0キシ−4−二トロインドールを通常の方法により
0−アルキル化することによって製造することができる
。
また、本発明の一般式(I)の化合物でR’が低級アル
キル基であり、R2がホルミル基またはカルボキシル基
である化合物は例えば、一般式5−アルコキシー4−ニ
トロ−3−インドールカルボキサアルデヒドを製造すこ
るとができ、これを更に常法に従ってホルミル基を酸化
することにより、一般式 (式中のR3は低級アルキル基である)で表される5−
アルコキシ−3−インドールカルボキサアルデヒドを無
水酢酸中硝酸銅と反応させることにより、一般式 (式中のR3は前記と同じ意味をもつ)で表される(式
中のR3は前記と同じ意味をもつ)で表される5−アル
コキシ−4−ニトロ−3−インドールカルボン酸を製造
することができる。
キル基であり、R2がホルミル基またはカルボキシル基
である化合物は例えば、一般式5−アルコキシー4−ニ
トロ−3−インドールカルボキサアルデヒドを製造すこ
るとができ、これを更に常法に従ってホルミル基を酸化
することにより、一般式 (式中のR3は低級アルキル基である)で表される5−
アルコキシ−3−インドールカルボキサアルデヒドを無
水酢酸中硝酸銅と反応させることにより、一般式 (式中のR3は前記と同じ意味をもつ)で表される(式
中のR3は前記と同じ意味をもつ)で表される5−アル
コキシ−4−ニトロ−3−インドールカルボン酸を製造
することができる。
発明の効果
本発明の一般式(I)で表される4−ニトロインドール
誘導体は文献未記載の新規な化合物であり、医薬品の製
造中間体としてきわめて有用な化合物である。
誘導体は文献未記載の新規な化合物であり、医薬品の製
造中間体としてきわめて有用な化合物である。
実施例
本発明の内容を以下の実施例により更に詳細に説明する
。
。
なお、各実施例中の化合物の融点はいずれも未補正であ
る。
る。
実施例 1
5−ヒドロキシ−4−二トロインドール4−アミノイン
ドール60.6■を塩化メチレン5m7!およびアセト
ン5dの混合溶媒に溶解した液に硫酸水素テトラ−n−
ブチルアンモニウム10.0mg、!和炭酸水素す)
Qラム水溶液10.0mlを加え全体を氷冷した。m−
クロロ過安息香酸592.5mgを水冷撹拌下−挙に加
え、35分、0℃に保った。反応液に氷水を加え、2N
−HCIで酸性(pH2)にし、塩化メチレン−メタノ
ール(95:5、シバ〉混合溶媒で抽出した。抽出液を
水洗、無水硫酸す)IJウムで乾燥後減圧下に溶媒を留
去して、得られた残留物を塩化メチレン−n−ヘキサン
(2:1、V/V)混合溶媒を溶出溶媒とするアルミナ
カラムクロマトグラフィーで分離して14.6■(18
%)の5−ヒドロキシ−4−ニトロインドールを得た。
ドール60.6■を塩化メチレン5m7!およびアセト
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ブチルアンモニウム10.0mg、!和炭酸水素す)
Qラム水溶液10.0mlを加え全体を氷冷した。m−
クロロ過安息香酸592.5mgを水冷撹拌下−挙に加
え、35分、0℃に保った。反応液に氷水を加え、2N
−HCIで酸性(pH2)にし、塩化メチレン−メタノ
ール(95:5、シバ〉混合溶媒で抽出した。抽出液を
水洗、無水硫酸す)IJウムで乾燥後減圧下に溶媒を留
去して、得られた残留物を塩化メチレン−n−ヘキサン
(2:1、V/V)混合溶媒を溶出溶媒とするアルミナ
カラムクロマトグラフィーで分離して14.6■(18
%)の5−ヒドロキシ−4−ニトロインドールを得た。
黄色プリズム晶(メタノール)
融 点: 220 〜223℃ (dec、)I
R(KBr): v、、X3390. 1612.
1592. 1473゜1321 cmす ’H−NMR(CD300) δ: 6.82(1)1. d、 J=9.0)
1z)、 7.04(IH,dd。
R(KBr): v、、X3390. 1612.
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1z)、 7.04(IH,dd。
J=3.0 and 0.8Hz)、 7.44(I
L d、 J=3.0Hz)、 7.67(IH
,dd、 J=9.0 ando、 8Hz) MS m/z: 178 (M=)元素分析値
’ (CsflsN20+として)0% N%
N% 計算値 53.93 3.40 15.73実
測値 53.78 3.14 15.57実施
例 2 5−メトキシ−4−ニトロインドール 5−ヒドロキシ−4−ニトロインドール14.8mgヲ
塩化メチレン−メタノール(1:1、Vハ)混合溶媒1
.Odに溶解した液に、ジアゾメタンのエーテル溶液を
過剰に加え、室温下16時間撹拌した。反応液を減圧下
に溶媒を留去して得られた残留物を、塩化メチレンを展
開溶媒とする分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー
により精製して、6.8■(43%)の5〜メトキシ−
4−ニトロインドールを得た。
L d、 J=3.0Hz)、 7.67(IH
,dd、 J=9.0 ando、 8Hz) MS m/z: 178 (M=)元素分析値
’ (CsflsN20+として)0% N%
N% 計算値 53.93 3.40 15.73実
測値 53.78 3.14 15.57実施
例 2 5−メトキシ−4−ニトロインドール 5−ヒドロキシ−4−ニトロインドール14.8mgヲ
塩化メチレン−メタノール(1:1、Vハ)混合溶媒1
.Odに溶解した液に、ジアゾメタンのエーテル溶液を
過剰に加え、室温下16時間撹拌した。反応液を減圧下
に溶媒を留去して得られた残留物を、塩化メチレンを展
開溶媒とする分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー
により精製して、6.8■(43%)の5〜メトキシ−
4−ニトロインドールを得た。
黄色プリズム晶(塩化メチレン−〇−ヘキサン)融
点 : 145〜145.5℃IR(KBr):
v、、X3350.1625.1579.1513゜
1330 cnr’ ’H−NA!R(CDCl2) δ: 3.96(3H,s)、 6.84(IH,
ddd、 J=3.02.5 and 1.0Hz)
、 6.95(IH,d、 J=9.0H2)、
7.33(LH,dd、 J=3.0 and2.
5t(z)、 7.5H1)1. dd、 J=
9.0 andl、 0)1z)、 8.36(I
H,br−s)MS m/z: 192 (M=
)元素分析値: (CsH,N2O3として)0%
8% N% 計算値 56.25 4.20 14.58実
測値 56.00 4.02 14.64実施
例 3 ド200.5■を無水酢酸10.Omfに溶解した液に
、水冷撹拌下硝酸銅三水和物138.7 mg (1当
M)を加えた後、13時間、55℃で加熱撹拌した。冷
機沈澱をシリカゲルの薄層を通してろ去し、ろ液を減圧
下に留去して得られた残留物を、塩化メチレン−メタノ
ール(95:5、v/v)混合溶媒を溶出溶媒とするシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、1
00.5mg (40%)の5−メトキシ−4−ニトロ
−3−インドールカルボキサアルデヒドを得た。
点 : 145〜145.5℃IR(KBr):
v、、X3350.1625.1579.1513゜
1330 cnr’ ’H−NA!R(CDCl2) δ: 3.96(3H,s)、 6.84(IH,
ddd、 J=3.02.5 and 1.0Hz)
、 6.95(IH,d、 J=9.0H2)、
7.33(LH,dd、 J=3.0 and2.
5t(z)、 7.5H1)1. dd、 J=
9.0 andl、 0)1z)、 8.36(I
H,br−s)MS m/z: 192 (M=
)元素分析値: (CsH,N2O3として)0%
8% N% 計算値 56.25 4.20 14.58実
測値 56.00 4.02 14.64実施
例 3 ド200.5■を無水酢酸10.Omfに溶解した液に
、水冷撹拌下硝酸銅三水和物138.7 mg (1当
M)を加えた後、13時間、55℃で加熱撹拌した。冷
機沈澱をシリカゲルの薄層を通してろ去し、ろ液を減圧
下に留去して得られた残留物を、塩化メチレン−メタノ
ール(95:5、v/v)混合溶媒を溶出溶媒とするシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、1
00.5mg (40%)の5−メトキシ−4−ニトロ
−3−インドールカルボキサアルデヒドを得た。
黄色プリズム晶(塩化メチレン−メタノール)融 点:
265〜270℃(dec、 )IR(Kart:
シ、、X3270.1659.1535.134
8゜1273 c+tr ’H−NMR(pyricline−d5)δ :
3.8H3t(、s)、 7.12(IH,d、
J=9.0)1z)。
265〜270℃(dec、 )IR(Kart:
シ、、X3270.1659.1535.134
8゜1273 c+tr ’H−NMR(pyricline−d5)δ :
3.8H3t(、s)、 7.12(IH,d、
J=9.0)1z)。
7.62(IH,cl、 J=9.0Hz)、 8.3
6(IH,s)。
6(IH,s)。
10.15(IH,S)
MS m/z: 220 (M”)元素分析値:
(C,o)laNz[ls ト1r)0% 8
% N% 計算値 54.55 3.66 12.72実
測値 54.33 3.58 12.31実施
例 4 5−メトキシ−4−ニトロ−3−インドールカルボン5
−メトキシ−4−ニトロ−3−インドールカルボキサア
ルデヒド50.2■をテトラヒドロフラン28.Omf
:に溶解した液に、2−メチル−2−ブテン14−を加
え、亜塩素酸す)IJウム485.8■(20当量)、
リン酸二水素ナトリウム547.9■(20当量)を水
14+njに溶解した液をさらに加えた後、30〜35
℃で13時間撹拌した。水冷下2N−)1cIで酸性(
pH1>にした後、塩化メチレンで抽出した。抽出液を
水洗、無水硫酸ナトリウム乾燥後、減圧下に溶媒を留去
して得られた残留物にテトラヒドロフランを加え超音波
をかけて溶解した。不溶部分をろ紙ろ過して除去し、ろ
液を減圧濃縮して得られた結晶をさらに塩化メチレン−
メタノール(97:3、v/v)混合溶媒でよく洗浄し
て、5−メトキシ−4−ニトロ−3−インドールカルボ
ン酸39.1■(73%)を得た。
(C,o)laNz[ls ト1r)0% 8
% N% 計算値 54.55 3.66 12.72実
測値 54.33 3.58 12.31実施
例 4 5−メトキシ−4−ニトロ−3−インドールカルボン5
−メトキシ−4−ニトロ−3−インドールカルボキサア
ルデヒド50.2■をテトラヒドロフラン28.Omf
:に溶解した液に、2−メチル−2−ブテン14−を加
え、亜塩素酸す)IJウム485.8■(20当量)、
リン酸二水素ナトリウム547.9■(20当量)を水
14+njに溶解した液をさらに加えた後、30〜35
℃で13時間撹拌した。水冷下2N−)1cIで酸性(
pH1>にした後、塩化メチレンで抽出した。抽出液を
水洗、無水硫酸ナトリウム乾燥後、減圧下に溶媒を留去
して得られた残留物にテトラヒドロフランを加え超音波
をかけて溶解した。不溶部分をろ紙ろ過して除去し、ろ
液を減圧濃縮して得られた結晶をさらに塩化メチレン−
メタノール(97:3、v/v)混合溶媒でよく洗浄し
て、5−メトキシ−4−ニトロ−3−インドールカルボ
ン酸39.1■(73%)を得た。
黄色プリズム晶(テトラヒドロフラン)融 点 :
193 〜196℃ (dec、)IR(KBr)
: v、、、、3400. 1665.1535.
13511275 cm−’ ’)l−NMR(pyridine−d5)δ: 3.
82(3H,s)、 7.08(1B、 d、 J・9
.0Hz)7.60(It(、d、 J=9.0I(z
)、 8.5H1)I、 s)MS m/z: 23
6 (M”) 実施例 5 サアルデヒド15.3■をテトラヒドロフラン8dに溶
解した液に2−メチル−2−ブテン4meを加えた。
193 〜196℃ (dec、)IR(KBr)
: v、、、、3400. 1665.1535.
13511275 cm−’ ’)l−NMR(pyridine−d5)δ: 3.
82(3H,s)、 7.08(1B、 d、 J・9
.0Hz)7.60(It(、d、 J=9.0I(z
)、 8.5H1)I、 s)MS m/z: 23
6 (M”) 実施例 5 サアルデヒド15.3■をテトラヒドロフラン8dに溶
解した液に2−メチル−2−ブテン4meを加えた。
さらにこの溶液に亜塩素酸ナトリウム148.3■(2
0当量) 、リン酸二水素ナトリウム167.3 v[
1g(20当りを水4ffL7!に溶解した液を加え、
28℃で10時間撹拌した。水冷下2N−HCIで酸性
(pH1)にした後、塩化メチレン−メタノール(95
:5. v/v)混合溶媒で抽出し、水洗、無水硫酸す
) IJウム乾燥後、減圧下に溶媒を留去して得られた
残留物をピリジン2.2−に溶解し、4時間還流した。
0当量) 、リン酸二水素ナトリウム167.3 v[
1g(20当りを水4ffL7!に溶解した液を加え、
28℃で10時間撹拌した。水冷下2N−HCIで酸性
(pH1)にした後、塩化メチレン−メタノール(95
:5. v/v)混合溶媒で抽出し、水洗、無水硫酸す
) IJウム乾燥後、減圧下に溶媒を留去して得られた
残留物をピリジン2.2−に溶解し、4時間還流した。
減圧下に溶媒を留去して得られた残留物を、塩化メチレ
ン−メタノール(99:1. v/v)混合溶媒を溶出
溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
すると、7.9mg (59%)の5−メトキシ−4−
二トロインドールを得た。
ン−メタノール(99:1. v/v)混合溶媒を溶出
溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
すると、7.9mg (59%)の5−メトキシ−4−
二トロインドールを得た。
このものの物理恒数は実施例2で得た化合物のものとす
べて一致した。
べて一致した。
Claims (4)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のR^1は水素原子または低級アルキル基であり
、R^2は水素原子、ホルミル基またはカルボキシル基
である)で表される4−ニトロインドール誘導体。 - (2)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される請求項第1項記載の4−ニトロインドール誘
導体。 - (3)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される4−アミノインドールを酸化することを特徴
とする、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される4−ニトロインドール誘導体の製造方法。 - (4)酸化剤としてm−クロロ過安息香酸を用いること
を特徴とする請求項第3項記載の4−ニトロインドール
誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18914590A JPH0477469A (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | 4―ニトロインドール誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18914590A JPH0477469A (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | 4―ニトロインドール誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0477469A true JPH0477469A (ja) | 1992-03-11 |
Family
ID=16236175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18914590A Pending JPH0477469A (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | 4―ニトロインドール誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0477469A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008126464A (ja) * | 2006-11-20 | 2008-06-05 | Mitsubishi Electric Corp | 熱転写型プリンタ装置 |
| CN103351326A (zh) * | 2013-06-17 | 2013-10-16 | 张家港威胜生物医药有限公司 | 一种重要医药化工中间体4-硝基吲哚的合成工艺 |
-
1990
- 1990-07-17 JP JP18914590A patent/JPH0477469A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008126464A (ja) * | 2006-11-20 | 2008-06-05 | Mitsubishi Electric Corp | 熱転写型プリンタ装置 |
| CN103351326A (zh) * | 2013-06-17 | 2013-10-16 | 张家港威胜生物医药有限公司 | 一种重要医药化工中间体4-硝基吲哚的合成工艺 |
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