JPS5910657B2 - 安息香酸誘導体の製造方法 - Google Patents
安息香酸誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JPS5910657B2 JPS5910657B2 JP10063976A JP10063976A JPS5910657B2 JP S5910657 B2 JPS5910657 B2 JP S5910657B2 JP 10063976 A JP10063976 A JP 10063976A JP 10063976 A JP10063976 A JP 10063976A JP S5910657 B2 JPS5910657 B2 JP S5910657B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound
- reaction
- formulas
- methyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 title description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 83
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 41
- -1 alkali metal alkoxide Chemical class 0.000 claims description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 11
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 10
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 238000010992 reflux Methods 0.000 claims description 9
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical group FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011737 fluorine Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 claims description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 2
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 8
- IOHPVZBSOKLVMN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylethyl)benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1CCC1=CC=CC=C1 IOHPVZBSOKLVMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 claims 1
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 21
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 14
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 11
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LWDSANAOYPHQAW-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-5-sulfamoylbenzoic acid Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=C(Cl)C(C(O)=O)=C1 LWDSANAOYPHQAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 7
- KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-5,5-dimethylimidazolidine-2,4-dione Chemical compound CC1(C)N(Cl)C(=O)N(Cl)C1=O KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N chlorosulfonic acid Substances OS(Cl)(=O)=O XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 6
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 6
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SQAILWDRVDGLGY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-5-sulfamoylbenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1C(O)=O SQAILWDRVDGLGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 5
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 5
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- MNNOFRJMHLQDOE-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-5-sulfamoylbenzoic acid Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=C(F)C(C(O)=O)=C1 MNNOFRJMHLQDOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007112 amidation reaction Methods 0.000 description 4
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 4
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WNBYWDDLBAANSQ-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-5-sulfamoylbenzoic acid Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=C(Br)C(C(O)=O)=C1 WNBYWDDLBAANSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CLHNTBSDCJLCKV-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-5-chlorosulfonylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(S(Cl)(=O)=O)=CC=C1Cl CLHNTBSDCJLCKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FKCMADOPPWWGNZ-YUMQZZPRSA-N [(2r)-1-[(2s)-2-amino-3-methylbutanoyl]pyrrolidin-2-yl]boronic acid Chemical compound CC(C)[C@H](N)C(=O)N1CCC[C@H]1B(O)O FKCMADOPPWWGNZ-YUMQZZPRSA-N 0.000 description 3
- 230000009435 amidation Effects 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 229940071870 hydroiodic acid Drugs 0.000 description 3
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 3
- 239000010446 mirabilite Substances 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N potassium methoxide Chemical compound [K+].[O-]C BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 3
- IVRIRQXJSNCSPQ-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl carbonochloridate Chemical compound CC(C)OC(Cl)=O IVRIRQXJSNCSPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RSIJVJUOQBWMIM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfate decahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.[Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O RSIJVJUOQBWMIM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKCLCGXPQILATA-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1Cl IKCLCGXPQILATA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCZKAAXFXIEPEB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-5-sulfamoylbenzoic acid Chemical compound CCOC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1C(O)=O QCZKAAXFXIEPEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NSTREUWFTAOOKS-UHFFFAOYSA-N 2-fluorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1F NSTREUWFTAOOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 108010073254 Colicins Proteins 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 2
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 2
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- WQKGAJDYBZOFSR-UHFFFAOYSA-N potassium;propan-2-olate Chemical compound [K+].CC(C)[O-] WQKGAJDYBZOFSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- UNRBEYYLYRXYCG-UHFFFAOYSA-N (1-ethylpyrrolidin-2-yl)methanamine Chemical compound CCN1CCCC1CN UNRBEYYLYRXYCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFEZWXUJMGSLLY-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-5-sulfamoylbenzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC(S(N)(=O)=O)=CC=C1F XFEZWXUJMGSLLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDTMFDGELKWGFT-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropan-2-olate Chemical compound CC(C)(C)[O-] SDTMFDGELKWGFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAETXYOXMDYNLE-UHFFFAOYSA-N 3-sulfamoylbenzoic acid Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 NAETXYOXMDYNLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N Benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021595 Copper(I) iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003474 anti-emetic effect Effects 0.000 description 1
- 230000000767 anti-ulcer Effects 0.000 description 1
- 239000002111 antiemetic agent Substances 0.000 description 1
- 239000003699 antiulcer agent Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- WRMFBHHNOHZECA-UHFFFAOYSA-N butan-2-olate Chemical compound CCC(C)[O-] WRMFBHHNOHZECA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229960004424 carbon dioxide Drugs 0.000 description 1
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M copper(i) iodide Chemical compound I[Cu] LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N diethylaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1 GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N dimethylpyridine Natural products CC1=CC=CN=C1C HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N ethoxide Chemical compound CC[O-] HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000043 hydrogen iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N methoxide Chemical compound [O-]C NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJGXIASTRIMVRT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-chloro-5-sulfamoylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC(S(N)(=O)=O)=CC=C1Cl UJGXIASTRIMVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKDYDRQLKPGNNU-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methoxy-5-sulfamoylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC(S(N)(=O)=O)=CC=C1OC MKDYDRQLKPGNNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- YNOGYQAEJGADFJ-UHFFFAOYSA-N oxolan-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CCCO1 YNOGYQAEJGADFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPDAUEIUDPHABB-UHFFFAOYSA-N potassium ethoxide Chemical compound [K+].CC[O-] RPDAUEIUDPHABB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKNZKCSKEUHUPM-UHFFFAOYSA-N potassium;butan-1-ol Chemical compound [K+].CCCCO MKNZKCSKEUHUPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWDMDDKZURRKFG-UHFFFAOYSA-N potassium;propan-1-olate Chemical compound [K+].CCC[O-] AWDMDDKZURRKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKNCGYCHMGNBCP-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate Chemical compound CCC[O-] IKNCGYCHMGNBCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGHBATFHNDZKSO-UHFFFAOYSA-N propan-2-olate Chemical compound CC(C)[O-] OGHBATFHNDZKSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000506 psychotropic effect Effects 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 125000005920 sec-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- SYXYWTXQFUUWLP-UHFFFAOYSA-N sodium;butan-1-olate Chemical compound [Na+].CCCC[O-] SYXYWTXQFUUWLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUBJHSREKVAVAR-UHFFFAOYSA-N sodium;methanol;methanolate Chemical compound [Na+].OC.[O-]C SUBJHSREKVAVAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCOSUMRTSQULBK-UHFFFAOYSA-N sodium;propan-1-olate Chemical compound [Na+].CCC[O-] RCOSUMRTSQULBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBQTXTBONIWRGK-UHFFFAOYSA-N sodium;propan-2-olate Chemical compound [Na+].CC(C)[O-] WBQTXTBONIWRGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003718 tetrahydrofuranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Pyrrole Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は安息香酸誘導体の新規な製造方法に関し、さら
に詳しくは式式中、Aは低級アルキル基を表わし、 Yは水酸 基、低級アルコキシ基、又 −NH−R,ミ 」の基又は式 .NH−R1−」、〕の基を表わし、R1λT は低 級アルキレン基を表わし、R2は水素原子又は低級アル
キル基を表わす、の2−アルコキシ−5−スルフアモイ
ル安息香酸誘導体の新規な製造方法に関する。
に詳しくは式式中、Aは低級アルキル基を表わし、 Yは水酸 基、低級アルコキシ基、又 −NH−R,ミ 」の基又は式 .NH−R1−」、〕の基を表わし、R1λT は低 級アルキレン基を表わし、R2は水素原子又は低級アル
キル基を表わす、の2−アルコキシ−5−スルフアモイ
ル安息香酸誘導体の新規な製造方法に関する。
上記式(1)において、Yが式
−.−R1−±、N」 の基を表わす場合の式式中、A
.Rl及びR2は前記定義の通りである、の化合物は、
優れた制吐作用及び向精神作用を有し、医薬品として有
用な化合物である。
.Rl及びR2は前記定義の通りである、の化合物は、
優れた制吐作用及び向精神作用を有し、医薬品として有
用な化合物である。
殊に下記式また、Yが式−NH−R[」、、7/)′1
1)基を除く前記定義の基を表わす場合の式(1)の化
合物は、上記式(1−a)の化合物の有用な合成中間体
となり得る。
1)基を除く前記定義の基を表わす場合の式(1)の化
合物は、上記式(1−a)の化合物の有用な合成中間体
となり得る。
従来から上記式(1−a)の化合物の製造方法は多数提
案されている(例えば、特公昭44−23494号公報
、特公昭49−47751号公報、等参照)が、従来提
案されている方法は、合成困難で高価な1一低級アルキ
ル−2−アミノメチルピロリジンを原料として使用しな
ければならなかつたり、或いは煩雑な多数の工程を必要
とする、等の欠点があり、工業的には未だ充分とは言え
ないものである。
案されている(例えば、特公昭44−23494号公報
、特公昭49−47751号公報、等参照)が、従来提
案されている方法は、合成困難で高価な1一低級アルキ
ル−2−アミノメチルピロリジンを原料として使用しな
ければならなかつたり、或いは煩雑な多数の工程を必要
とする、等の欠点があり、工業的には未だ充分とは言え
ないものである。
本発明によれば、医薬として有用な上記式(1−a)の
化合物及びその合成中間体である前記式(1)の化合物
が、式式中、Xはハロゲン原子であり、Yは前記定義の
通りである、の新規な化合物をアルカリ金属アルコキシ
ドと反応せしめることにより、極めて容易に且つ高収率
で製造できることが見い出された。
化合物及びその合成中間体である前記式(1)の化合物
が、式式中、Xはハロゲン原子であり、Yは前記定義の
通りである、の新規な化合物をアルカリ金属アルコキシ
ドと反応せしめることにより、極めて容易に且つ高収率
で製造できることが見い出された。
前記式(1)及び式()において、[低級アルキル基」
は直鎖状又は分岐鎖状であることができ、例えばメチル
、エチル、n−もしくはIsO−プロピル、n− 1s
0−、Sec−もしくはTert−ブチル基等の1〜5
個の炭素原子を有するものが包含され、また、「低級ア
ルコキシ基]は分岐鎖を有していてもよく、例えばメト
キシ、エトキシ、n−もしくはIsO−プロポキシ、n
−、IsO−、Sec−もしくはTert−ブトキシ基
等の1〜5個の炭素原子を有するものが好適であり、さ
らに[低級アルキレン基」としては分岐鎖を有していて
もよい炭素原子数が5個までのアルキレン基が含まれ、
例えばメチレン、エチレン、プロピレン、メチルエチレ
ン、ブチレン、メチルプロピレン、ジメチルエチレン等
が挙げられる。
は直鎖状又は分岐鎖状であることができ、例えばメチル
、エチル、n−もしくはIsO−プロピル、n− 1s
0−、Sec−もしくはTert−ブチル基等の1〜5
個の炭素原子を有するものが包含され、また、「低級ア
ルコキシ基]は分岐鎖を有していてもよく、例えばメト
キシ、エトキシ、n−もしくはIsO−プロポキシ、n
−、IsO−、Sec−もしくはTert−ブトキシ基
等の1〜5個の炭素原子を有するものが好適であり、さ
らに[低級アルキレン基」としては分岐鎖を有していて
もよい炭素原子数が5個までのアルキレン基が含まれ、
例えばメチレン、エチレン、プロピレン、メチルエチレ
ン、ブチレン、メチルプロピレン、ジメチルエチレン等
が挙げられる。
[・・ロゲン原子」には、塩素、フツ素、臭素、ヨウ素
が挙げられ、殊に前3者が好ましい。
が挙げられ、殊に前3者が好ましい。
本発明に従えば、前記式()の化合物がアルカリ金属ア
ルコキシドとの反応により、アルコキシ化される。この
アルコキシ化に使用されるアルカリ金属アルコキシドと
しては、アルカリ金属の低級アルコキシドが使用される
。ここで、該アルカリ金属成分としてはナトリウム、カ
リウム及びリチウムが適しており、特にナトリウムが望
ましい。また、低級アルコキシド成分としては、炭素原
子数が5個までの低級アルコキシド、例えばメトキシド
、エトキシド、n−もしくはIsO−プロポキシド、n
−、IsO−、Sec−もしくはTert−ブトキシド
等が挙げられる。かくして、本発明において使用し得る
アルカリ金属アルコキシドとしては、例えばナトリウム
メトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド、カリウムエトキシド、ナトリウム−n−プロポキシ
ド、カリウム一nープロポキシド、ナトリウムイソプロ
ポキシド、カリウムイソプロポキシド、ナトリウム−n
−ブトキシド、カリウム一n−ブトキシド等をあげるこ
とができる。前記式()の化合物とアルカリ金属アルコ
キシドとの反応は、通常不活性有機溶媒中において行な
われる。
ルコキシドとの反応により、アルコキシ化される。この
アルコキシ化に使用されるアルカリ金属アルコキシドと
しては、アルカリ金属の低級アルコキシドが使用される
。ここで、該アルカリ金属成分としてはナトリウム、カ
リウム及びリチウムが適しており、特にナトリウムが望
ましい。また、低級アルコキシド成分としては、炭素原
子数が5個までの低級アルコキシド、例えばメトキシド
、エトキシド、n−もしくはIsO−プロポキシド、n
−、IsO−、Sec−もしくはTert−ブトキシド
等が挙げられる。かくして、本発明において使用し得る
アルカリ金属アルコキシドとしては、例えばナトリウム
メトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド、カリウムエトキシド、ナトリウム−n−プロポキシ
ド、カリウム一nープロポキシド、ナトリウムイソプロ
ポキシド、カリウムイソプロポキシド、ナトリウム−n
−ブトキシド、カリウム一n−ブトキシド等をあげるこ
とができる。前記式()の化合物とアルカリ金属アルコ
キシドとの反応は、通常不活性有機溶媒中において行な
われる。
使用し得る不活性有機溶媒としては、特に極性有機溶媒
が適しており、かかる極性有機溶媒としては、例えばメ
タノール、エタノール、n−もしくはIsO−プロパノ
ール、n−、Sec−もしくはTert−ブタノール等
のアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン等のエーテル類;ジメチルスルホキシド
(DMSO)の如きスルホキシド類:ピリジン、ピコリ
ン、コリシン、ルチジン、トリエチルアミン、トリメチ
ルアミン、ジエチルアニリン、ジメチルアニリン等の有
機塩基が含まれ、中でもテトラヒドロフラン、メタノー
ル、コリシンが好ましい。
が適しており、かかる極性有機溶媒としては、例えばメ
タノール、エタノール、n−もしくはIsO−プロパノ
ール、n−、Sec−もしくはTert−ブタノール等
のアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン等のエーテル類;ジメチルスルホキシド
(DMSO)の如きスルホキシド類:ピリジン、ピコリ
ン、コリシン、ルチジン、トリエチルアミン、トリメチ
ルアミン、ジエチルアニリン、ジメチルアニリン等の有
機塩基が含まれ、中でもテトラヒドロフラン、メタノー
ル、コリシンが好ましい。
反応は常温においても進行するが、一般に加温乃至加熱
下に行なわれる。すなわち、反応温度は室温乃至反応混
合物の還流温度の範囲とすることができ、好適な温度範
囲は、使用する式()の化合物及び/又はアルカリ金属
アルコキシドの種類や濃度、溶媒の種類等によつて異な
り一概には言えないが、通常60〜150℃の温度範囲
内において行なうのが好ましい。また、反応は一般に常
圧下に行なわれるが、必要に応じて減圧又は加圧下に行
なつてもよい。
下に行なわれる。すなわち、反応温度は室温乃至反応混
合物の還流温度の範囲とすることができ、好適な温度範
囲は、使用する式()の化合物及び/又はアルカリ金属
アルコキシドの種類や濃度、溶媒の種類等によつて異な
り一概には言えないが、通常60〜150℃の温度範囲
内において行なうのが好ましい。また、反応は一般に常
圧下に行なわれるが、必要に応じて減圧又は加圧下に行
なつてもよい。
上記条件下で本発明の反応は約3〜24時間行なうのが
望ましい。式()の化合物に対するアルカリ金属アルコ
キシドの使用量には厳密な制限はないが、一般にアルカ
リ金属アルコキシドは過剰モル量で使用するのが有利で
あり、好適には式()の化合物1モルに対して3〜8倍
モル量で使用される。
望ましい。式()の化合物に対するアルカリ金属アルコ
キシドの使用量には厳密な制限はないが、一般にアルカ
リ金属アルコキシドは過剰モル量で使用するのが有利で
あり、好適には式()の化合物1モルに対して3〜8倍
モル量で使用される。
本発明の上記反応の実施に際しては、必要に応じて、ヨ
ウ化第1銅、二酸化マンガン等の触媒を添加することも
可能である。
ウ化第1銅、二酸化マンガン等の触媒を添加することも
可能である。
かくして、本発明の方法によれば、前記式(1)の化合
物が高収率で得ることができる。
物が高収率で得ることができる。
前記式(1)の化合物の代表例を示せば次の通りである
。2−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸、2−エ
トキシ−5−スルフアモイル安息香酸、2−メトキシ−
5−スルフアモイル安息香酸メチル、2−メトキシ−5
−スルフアモイル安息香酸エチル、N−(2′−テトラ
ヒドロフラニル)メチル−2−メトキシ−5−スルフア
モイル安息香酸アミド、N−(2′−テトラヒドロフラ
ニル)エチル−2−メトキシ−5−スルフアモイル安息
香酸アミド、N−(1′一エチル一2′−ピロリジニル
)メチル−2−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸
アミド、N−(15−エチル−25−ピロリジニル)エ
チルー2−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸アミ
ド、N−(1′−メチル−2′−ピロリジニル)メチル
ー2−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸アミド、
N−(1′−メチル−2′−ピロリジニル)エチル−2
−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸アミド、N−
(1′一エチル一2′−ピロリジニル)メチル−2−エ
トキシ−5−スルフアモイル安息香酸アミ ド、N−
(1′一エチル一2′−ピロリジニル)エチル−2−エ
トキシ−5−スルフアモイル安息香酸アミ ド、2−メ
トキシ−5−スルフアモイル安息香酸n−プロピル2−
メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸イソプロピル、
2−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸n−ブチル
2−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸イソブチル
、2−n−プロポキシ一5−スルフアモイル安息香酸n
−プロピル、2−n−ブトキシ一5−スルフアモイル安
息香酸n−ブチル、N−(25−テトラヒドロフラニル
)メチル−2−n−プロポキシ一5−スルフアモイル安
息香酸アミド、N−(15−エチル−2′−ピロリジニ
ル)メチルー2−n−プロポキシ一5−スルフアモイル
安息香酸アミド、N−(2′−ピロリジニル)メチル−
2−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸アミド、N
−(25−ピロリジニル)メチル−2−エトキシ−5−
スルフアモイル安息香酸アミド、N−(1′−イソプロ
ピル−2′−ピロリジニル)メチル−2−メトキシ−5
−スルフアモイル安息香酸アミド。
。2−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸、2−エ
トキシ−5−スルフアモイル安息香酸、2−メトキシ−
5−スルフアモイル安息香酸メチル、2−メトキシ−5
−スルフアモイル安息香酸エチル、N−(2′−テトラ
ヒドロフラニル)メチル−2−メトキシ−5−スルフア
モイル安息香酸アミド、N−(2′−テトラヒドロフラ
ニル)エチル−2−メトキシ−5−スルフアモイル安息
香酸アミド、N−(1′一エチル一2′−ピロリジニル
)メチル−2−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸
アミド、N−(15−エチル−25−ピロリジニル)エ
チルー2−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸アミ
ド、N−(1′−メチル−2′−ピロリジニル)メチル
ー2−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸アミド、
N−(1′−メチル−2′−ピロリジニル)エチル−2
−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸アミド、N−
(1′一エチル一2′−ピロリジニル)メチル−2−エ
トキシ−5−スルフアモイル安息香酸アミ ド、N−
(1′一エチル一2′−ピロリジニル)エチル−2−エ
トキシ−5−スルフアモイル安息香酸アミ ド、2−メ
トキシ−5−スルフアモイル安息香酸n−プロピル2−
メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸イソプロピル、
2−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸n−ブチル
2−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸イソブチル
、2−n−プロポキシ一5−スルフアモイル安息香酸n
−プロピル、2−n−ブトキシ一5−スルフアモイル安
息香酸n−ブチル、N−(25−テトラヒドロフラニル
)メチル−2−n−プロポキシ一5−スルフアモイル安
息香酸アミド、N−(15−エチル−2′−ピロリジニ
ル)メチルー2−n−プロポキシ一5−スルフアモイル
安息香酸アミド、N−(2′−ピロリジニル)メチル−
2−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸アミド、N
−(25−ピロリジニル)メチル−2−エトキシ−5−
スルフアモイル安息香酸アミド、N−(1′−イソプロ
ピル−2′−ピロリジニル)メチル−2−メトキシ−5
−スルフアモイル安息香酸アミド。
上記本発明の方法において出発原料として使用する前記
式()の化合物は、従来の文献未載の新規な化合物であ
り、例えば、それ自体公知の式(自)の化合物から下記
の合成工程を経て製造することができる。
式()の化合物は、従来の文献未載の新規な化合物であ
り、例えば、それ自体公知の式(自)の化合物から下記
の合成工程を経て製造することができる。
上記式中、R1、R2及びXは前記定義の通りであり、
R3は水素原子又は低級アルキル基を表わす。
R3は水素原子又は低級アルキル基を表わす。
式(1)の化合物の式()の化合物への転換は、式(自
)の化合物にクロルスルホン酸(ClSO3H)を作用
させることにより行なうことができる。
)の化合物にクロルスルホン酸(ClSO3H)を作用
させることにより行なうことができる。
反応はそれ自体公知の方法に従つて行なうことがでフき
、例えば溶媒の不存在下に約50〜100℃の温度にお
いて、式0n)の化合物を少なくとも3倍当量、望まし
くは4〜10倍当量のクロルスルホン酸と反応せしめる
ことにより、式()の化合物を得ることができる。
、例えば溶媒の不存在下に約50〜100℃の温度にお
いて、式0n)の化合物を少なくとも3倍当量、望まし
くは4〜10倍当量のクロルスルホン酸と反応せしめる
ことにより、式()の化合物を得ることができる。
かくして得られる式()の化合物は単離した後又はその
まま次の反応に使用することができる。単離は例えば上
記で得られる反応混合物を氷水中に注ぎ込み、式()の
化合物を析出せしめた後、沢過等の手段により分離する
ことにより行なうことができる。式()の化合物とアン
モニアとの反応もまた、それ自体公知の方法に従つて行
なうことができる。
まま次の反応に使用することができる。単離は例えば上
記で得られる反応混合物を氷水中に注ぎ込み、式()の
化合物を析出せしめた後、沢過等の手段により分離する
ことにより行なうことができる。式()の化合物とアン
モニアとの反応もまた、それ自体公知の方法に従つて行
なうことができる。
例えば、上記で得た式()の化合物を、通常は大過剰(
3〜5倍当量)のアンモニア水中に導入し、必要に応じ
て加温(40〜60℃程度)下に反応させることにより
、高収率で式(−a)の化合物に変えることができる。
得られる式(−a)の化合物は必要に応じて反応混合物
から分離することができる。分離は例えば反応混合物に
酸を加えて酸性とし(−a)を析出させ、これを沢過等
の手段で分離回収することにより行なうことができる。
かくして得られる式(−a)の化合物はそのまま本発明
の方法の出発原料として使用することができる。
3〜5倍当量)のアンモニア水中に導入し、必要に応じ
て加温(40〜60℃程度)下に反応させることにより
、高収率で式(−a)の化合物に変えることができる。
得られる式(−a)の化合物は必要に応じて反応混合物
から分離することができる。分離は例えば反応混合物に
酸を加えて酸性とし(−a)を析出させ、これを沢過等
の手段で分離回収することにより行なうことができる。
かくして得られる式(−a)の化合物はそのまま本発明
の方法の出発原料として使用することができる。
参考のため、式(−a)の化合物の代表例を示せば次の
通りである。R,=Hの場合: 2−フルオル−5−スルフアモイル安息香酸、2−クロ
ル−5−スルフアモイル安息香酸、2−ブロム−5−ス
ルフアモイル安息香酸〇R,=低級アルキルの場合:2
−フルオル−5−スルフアモイル安息香酸メチル2−フ
ルオル−5−スルフアモイル安息香酸エチル、2−フル
オル−5−スルフアモイル安息香酸プロピル2−フルオ
ル−5−スルフアモイル安息香酸ブチル、2−クロル−
5−スルフアモイル安息香酸メチル2−クロル−5−ス
ルフアモイル安息香酸エチル2−クロル−5−スルフア
モイル安息香酸プロピル2−クロル−5−スルフアモイ
ル安息香酸ブチル2−ブロム−5−スルフアモイル安息
香酸メチ2−ブロム−5−スルフアモイル安息香酸プロ
ピル2−ブロム−5−スルフアモイル安息香酸ブチル。
通りである。R,=Hの場合: 2−フルオル−5−スルフアモイル安息香酸、2−クロ
ル−5−スルフアモイル安息香酸、2−ブロム−5−ス
ルフアモイル安息香酸〇R,=低級アルキルの場合:2
−フルオル−5−スルフアモイル安息香酸メチル2−フ
ルオル−5−スルフアモイル安息香酸エチル、2−フル
オル−5−スルフアモイル安息香酸プロピル2−フルオ
ル−5−スルフアモイル安息香酸ブチル、2−クロル−
5−スルフアモイル安息香酸メチル2−クロル−5−ス
ルフアモイル安息香酸エチル2−クロル−5−スルフア
モイル安息香酸プロピル2−クロル−5−スルフアモイ
ル安息香酸ブチル2−ブロム−5−スルフアモイル安息
香酸メチ2−ブロム−5−スルフアモイル安息香酸プロ
ピル2−ブロム−5−スルフアモイル安息香酸ブチル。
上記式(−a)の化合物は、必要に応じて、式のピロリ
ジン誘導体又は式 のテトラヒドロフラン誘導体と反応させることにより、
本発明の方法の出発原料として用いられる前記式(−b
)又は式(−c)の化合物に変えることができる。
ジン誘導体又は式 のテトラヒドロフラン誘導体と反応させることにより、
本発明の方法の出発原料として用いられる前記式(−b
)又は式(−c)の化合物に変えることができる。
式(−a)の化合物の上記ピロリジン誘導体又はテトラ
ヒドロフラン誘導体によるアミド化反応は、式(−a)
の化合物又はその反応性誘導体(例えば酸ハライド、エ
ステル、混合酸無水物など)を、上記ピロリジン誘導体
〔式(V)〕又はテトラヒドロフラン誘導体〔式()〕
或いはこれらの反応性誘導体(例えばイソシアネート、
ホスフアゾ化合物など)と、それ自体公知の方法により
反応させることにより行なうことができる。
ヒドロフラン誘導体によるアミド化反応は、式(−a)
の化合物又はその反応性誘導体(例えば酸ハライド、エ
ステル、混合酸無水物など)を、上記ピロリジン誘導体
〔式(V)〕又はテトラヒドロフラン誘導体〔式()〕
或いはこれらの反応性誘導体(例えばイソシアネート、
ホスフアゾ化合物など)と、それ自体公知の方法により
反応させることにより行なうことができる。
例えば、該アミド化はR3が水素原子である場合の(−
a)の化合物と式(V)又は式()のアミンとの直接縮
合により行なうことができる。反応は無溶媒の状態で行
なうこともできるが、=般に不活性有機溶媒中、例えば
ベンゼン、トルエン、キシレンの如き炭化水素:テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ダイグ
ライムの如きエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミドの如きアミド類;ジクロロメタン、ク
ロロホルムの如きハロゲン化炭化水素:ジメチルスルホ
キシドなどの中で行なうのが好ましい。反応温度及び圧
力には特に制約はなく、使用する原料物質等に応じて広
範に変化させることができるが、通常反応温度は約0℃
乃至反応混合物の還流温度、好ましくは室温乃至200
℃であり、圧力は有利には常圧である。また、反応は必
要に応じて、縮合剤の存在下に実施することができ、使
用し得る縮合剤としては、例えばルイス酸、特に四塩化
硅素、トリクロロフエニルシラン及び四塩化チタン等、
N−エチル−N5−ジエチルアミノプロピルカルボジイ
ミド、N−N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド等;
トリアリールフオスフインとジスルフイドとの組合せ;
アンバーライトIR−120等の強酸性イオン交換樹脂
が挙げられる。また、上記アミド化は、前記式(−a)
の化合物の前述した如き反応性誘導体(例えばアルキル
炭酸無水物、アルキルエステルなどつと前記式(V)又
は式()の遊離アミンとの間で、或いは前記式(−a)
の遊離の置換安息香酸と前記式(V)又は式()のアミ
ンの前述した如き反応性誘導体との間で行なうこともで
きる。本アミド化もまた、必要に応じて溶媒を用いずに
行なうこともできるが、通常上記した如き不活性有機溶
媒又は高沸点のアルコール類(例えばエチレングリコー
ル、グリセリン等)中で行なうのが有利である。反応温
度及び圧力は臨界的ではないか、通常反応温度としては
、約−20℃乃至反応混合物の還流温度、好ましくはO
℃乃至180℃であり、圧力は有利には常圧である。か
くして、前記式(−b)又は式(−c)の化合物が得ら
れる。
a)の化合物と式(V)又は式()のアミンとの直接縮
合により行なうことができる。反応は無溶媒の状態で行
なうこともできるが、=般に不活性有機溶媒中、例えば
ベンゼン、トルエン、キシレンの如き炭化水素:テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ダイグ
ライムの如きエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミドの如きアミド類;ジクロロメタン、ク
ロロホルムの如きハロゲン化炭化水素:ジメチルスルホ
キシドなどの中で行なうのが好ましい。反応温度及び圧
力には特に制約はなく、使用する原料物質等に応じて広
範に変化させることができるが、通常反応温度は約0℃
乃至反応混合物の還流温度、好ましくは室温乃至200
℃であり、圧力は有利には常圧である。また、反応は必
要に応じて、縮合剤の存在下に実施することができ、使
用し得る縮合剤としては、例えばルイス酸、特に四塩化
硅素、トリクロロフエニルシラン及び四塩化チタン等、
N−エチル−N5−ジエチルアミノプロピルカルボジイ
ミド、N−N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド等;
トリアリールフオスフインとジスルフイドとの組合せ;
アンバーライトIR−120等の強酸性イオン交換樹脂
が挙げられる。また、上記アミド化は、前記式(−a)
の化合物の前述した如き反応性誘導体(例えばアルキル
炭酸無水物、アルキルエステルなどつと前記式(V)又
は式()の遊離アミンとの間で、或いは前記式(−a)
の遊離の置換安息香酸と前記式(V)又は式()のアミ
ンの前述した如き反応性誘導体との間で行なうこともで
きる。本アミド化もまた、必要に応じて溶媒を用いずに
行なうこともできるが、通常上記した如き不活性有機溶
媒又は高沸点のアルコール類(例えばエチレングリコー
ル、グリセリン等)中で行なうのが有利である。反応温
度及び圧力は臨界的ではないか、通常反応温度としては
、約−20℃乃至反応混合物の還流温度、好ましくはO
℃乃至180℃であり、圧力は有利には常圧である。か
くして、前記式(−b)又は式(−c)の化合物が得ら
れる。
また、R1がメチレン基を表わす場合の前記式(−b)
の化合物は対応する式(−c)の化合物から下記の合成
工程を経て製造することもできる。
の化合物は対応する式(−c)の化合物から下記の合成
工程を経て製造することもできる。
上記式(−c−1)の化合物は、ハロゲン化水素(HX
″)で処理して、式(−c−1)の化合物のテトラヒド
ロフラン環を開裂させることにより、式()の化合物に
変えることができる。
″)で処理して、式(−c−1)の化合物のテトラヒド
ロフラン環を開裂させることにより、式()の化合物に
変えることができる。
ハロゲン化水素による式(−c−1)の化合物のテトラ
ヒドロフラン環の開裂反応は、通常式(−c−1)の化
合物をハロゲン化水素の水溶液(ハロゲン化水素酸)に
溶解し、室温乃至わずかに加温(約50℃まで)下に保
持することにより行なうことができる。ハロゲン化水素
の水溶液の濃度はできるだけ高い方が望ましく、例えば
臭化水素酸の場合、市販品の濃度は約47%程度である
ので、式(−c−1)の化合物の溶解前又は後に、臭化
水素を吹き込んで、飽和濃度(約66%)近辺で反応さ
せることが望ましい。また、ヨウ化水素酸を用いる場合
には、50%程度の濃度のものを使用するのが有利であ
る。一般に臭化水素酸よりもヨウ化水素酸の方が活性が
大きいので、ヨウ化水素酸を用いる場合には、反応温度
は30℃以下の比較的低温で行なうことが好ましく、臭
化水素酸を用いる場合には、50℃までの僅かに加温下
に反応を行なうことが有利である。
ヒドロフラン環の開裂反応は、通常式(−c−1)の化
合物をハロゲン化水素の水溶液(ハロゲン化水素酸)に
溶解し、室温乃至わずかに加温(約50℃まで)下に保
持することにより行なうことができる。ハロゲン化水素
の水溶液の濃度はできるだけ高い方が望ましく、例えば
臭化水素酸の場合、市販品の濃度は約47%程度である
ので、式(−c−1)の化合物の溶解前又は後に、臭化
水素を吹き込んで、飽和濃度(約66%)近辺で反応さ
せることが望ましい。また、ヨウ化水素酸を用いる場合
には、50%程度の濃度のものを使用するのが有利であ
る。一般に臭化水素酸よりもヨウ化水素酸の方が活性が
大きいので、ヨウ化水素酸を用いる場合には、反応温度
は30℃以下の比較的低温で行なうことが好ましく、臭
化水素酸を用いる場合には、50℃までの僅かに加温下
に反応を行なうことが有利である。
反応は用いる温度、ハロゲン化水素酸の種類等に応じて
異なるが、通常15分〜48時間で終了する。
異なるが、通常15分〜48時間で終了する。
臭化水素又はヨウ化水素は式(−c−1)の化合物に対
して、少なくとも等モル量、好適には過剰量例えば2倍
モル量以上で使用することができる。
して、少なくとも等モル量、好適には過剰量例えば2倍
モル量以上で使用することができる。
式()の化合物の塩化チオニルによる処理(環化反応)
は、例えば、式()の化合物に、無溶媒の状態で又は望
ましくは適当な不活性有機溶媒例えば酢酸エチル、酢酸
メチルの如きエステル類、クロロホルム、四塩化炭素、
ジクロロメタン、ジクロロエタンの如きハロゲン化炭化
水素:ベンゼン、トルエン、キシレンの如き炭化水素:
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等
のエーテル類中に溶解した状態で、約0〜50℃間の温
度、通常は室温において、塩化チオニルを添加すること
により行なわれる。
は、例えば、式()の化合物に、無溶媒の状態で又は望
ましくは適当な不活性有機溶媒例えば酢酸エチル、酢酸
メチルの如きエステル類、クロロホルム、四塩化炭素、
ジクロロメタン、ジクロロエタンの如きハロゲン化炭化
水素:ベンゼン、トルエン、キシレンの如き炭化水素:
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等
のエーテル類中に溶解した状態で、約0〜50℃間の温
度、通常は室温において、塩化チオニルを添加すること
により行なわれる。
塩化チオニルの使用量は厳密ではなく、使用する式()
の化合物の種類や反応温度等に応じて広範に変えること
ができるが、一般に少なくとも当量、好ましくは1.1
〜1.5倍当量の過剰量で使用される。
の化合物の種類や反応温度等に応じて広範に変えること
ができるが、一般に少なくとも当量、好ましくは1.1
〜1.5倍当量の過剰量で使用される。
反応は一般に15分〜1時間で終了する。
反応後の反応混合物からの上記式()の化合物の分離及
び精製はそれ自体公知の手段、例えば沢過、抽出、再結
晶、クロマトグラフイ一等の任意の手段で行なうことが
できる。かくして得られた式()の化合物は式 H2N−R2(X) のアンモニア又は第一級アミンと加熱下に反応せしめら
れる。
び精製はそれ自体公知の手段、例えば沢過、抽出、再結
晶、クロマトグラフイ一等の任意の手段で行なうことが
できる。かくして得られた式()の化合物は式 H2N−R2(X) のアンモニア又は第一級アミンと加熱下に反応せしめら
れる。
前記式()の化合物を式(X)のアンモニア又は第一級
アミンの存在下に加熱すると、該アンモニア又は第一級
アミンが式()の化合物に…Cの離脱を伴なつて結合す
ると同時に異性化が起り、目的とする式(−b−1)の
化合物が生成する。
アミンの存在下に加熱すると、該アンモニア又は第一級
アミンが式()の化合物に…Cの離脱を伴なつて結合す
ると同時に異性化が起り、目的とする式(−b−1)の
化合物が生成する。
反応は無溶媒の状態で行なうこともできるが、一般に不
活性有機溶媒中、例えばメチルアルコール、エチルアル
コール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール
のごときアルコール類;エチルエーテル、テトラヒドロ
フランのごときエーテル類;酢酸エチルのごときエステ
ル類:トリエチルアミン、ピリジンのごとき有機第三級
アミン類;ベンゼン、トルエンのごとき炭化水素;ジメ
チルホルムアミドのごときアミド類:ジクロルメタン、
クロロホルムのごときハロゲン化炭化水素類;ジメチル
スルホキシド等の中で行なうことが好ましい〜 加熱温度には厳密な制限はないが、少なくとも60℃の
温度、好適には80℃乃至反応混合物の還流温度の範囲
の加熱温度が有利に用いられる。
活性有機溶媒中、例えばメチルアルコール、エチルアル
コール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール
のごときアルコール類;エチルエーテル、テトラヒドロ
フランのごときエーテル類;酢酸エチルのごときエステ
ル類:トリエチルアミン、ピリジンのごとき有機第三級
アミン類;ベンゼン、トルエンのごとき炭化水素;ジメ
チルホルムアミドのごときアミド類:ジクロルメタン、
クロロホルムのごときハロゲン化炭化水素類;ジメチル
スルホキシド等の中で行なうことが好ましい〜 加熱温度には厳密な制限はないが、少なくとも60℃の
温度、好適には80℃乃至反応混合物の還流温度の範囲
の加熱温度が有利に用いられる。
式()の化合物と式(X)のアンモニア又はアミンとの
使用割合には特別の制限はないが、式()の化合物と式
(X)のアンモニア又はアミンとは少なくとも等モル量
で、好適には式(X)のアンモニア又はアミンの過剰量
、通常2〜5倍モルの過剰量で使用するのが有利である
。式(X)のアンモニア又はアミンを大過剰に使用する
こともでき、これによつて該アンモニア又はアミンに溶
媒及び酸結合剤としての役割を同時に果させることもで
きる。また、反応は酸結合剤の存在下に行なつてもよく
、使用し得る酸結合剤としては、例えばトリエチルアミ
ン、ピリジン、ピペラジン、ジメチルアニリン等が挙げ
られ、これら酸結合剤は通常式()の化合物に対して少
なくとも等当量で、好ましくは1〜1.5倍当量で使用
することができる。
使用割合には特別の制限はないが、式()の化合物と式
(X)のアンモニア又はアミンとは少なくとも等モル量
で、好適には式(X)のアンモニア又はアミンの過剰量
、通常2〜5倍モルの過剰量で使用するのが有利である
。式(X)のアンモニア又はアミンを大過剰に使用する
こともでき、これによつて該アンモニア又はアミンに溶
媒及び酸結合剤としての役割を同時に果させることもで
きる。また、反応は酸結合剤の存在下に行なつてもよく
、使用し得る酸結合剤としては、例えばトリエチルアミ
ン、ピリジン、ピペラジン、ジメチルアニリン等が挙げ
られ、これら酸結合剤は通常式()の化合物に対して少
なくとも等当量で、好ましくは1〜1.5倍当量で使用
することができる。
反応時間は加熱温度や用いた式()の化合物及び式(X
)のアンモニア又はアミンの種類等に依存し広範に変え
ることができるが、一般に、前記加熱温度に1〜4時間
保持することにより、反応を終了せしめることができる
。別法によれば、前記式()の化合物を、無溶媒の状態
で又は前記した不活性有機溶媒中で、0℃乃至室温の範
囲の低温において、少なくとも等モル量、好ましくは2
〜5倍モル量の前記式(X)のアンモニア又は第一級ア
ミンと反応させることによつて、式()の化合物に一旦
変えた後、式()の化合物を加熱異性化することによつ
て、式(一b−1)の化合物に変えることもできる。
)のアンモニア又はアミンの種類等に依存し広範に変え
ることができるが、一般に、前記加熱温度に1〜4時間
保持することにより、反応を終了せしめることができる
。別法によれば、前記式()の化合物を、無溶媒の状態
で又は前記した不活性有機溶媒中で、0℃乃至室温の範
囲の低温において、少なくとも等モル量、好ましくは2
〜5倍モル量の前記式(X)のアンモニア又は第一級ア
ミンと反応させることによつて、式()の化合物に一旦
変えた後、式()の化合物を加熱異性化することによつ
て、式(一b−1)の化合物に変えることもできる。
該加熱異性化は無溶媒の状態で行なうこともできるが、
通常前述した如き不活性有機溶媒中で行なうのが有利で
ある。異性化の温度は、少なくとも60℃、好適には8
0℃乃至反応混合物の還流温度の範囲の温度とすること
ができる。本異性化反応は極めて容易に進行するので、
特に異性化触媒の使用を必要としないが、必要に応じて
通常の異性化反応でしばしば使用されている触媒を用い
てもよい。
通常前述した如き不活性有機溶媒中で行なうのが有利で
ある。異性化の温度は、少なくとも60℃、好適には8
0℃乃至反応混合物の還流温度の範囲の温度とすること
ができる。本異性化反応は極めて容易に進行するので、
特に異性化触媒の使用を必要としないが、必要に応じて
通常の異性化反応でしばしば使用されている触媒を用い
てもよい。
上記の如くして合成された式(−b)及び式(−c)の
化合物は本発明の前記方法における出発原料として使用
することができる。
化合物は本発明の前記方法における出発原料として使用
することができる。
式(−b)及び式(−c)の化合物の代表例を示せば次
の通りである。式(−b)の化合物: N−(1′一エチル一2′−ピロリジニル)メチルー2
−フルオル−5−スルフアモイル安息香酸アミド、N−
(1′一エチル一2′−ピロリジニル)メチル−2−ク
ロル−5−スルフアモイル安息香酸アミド、N−(1′
一エチル一2′−ピロリジニル)メチルー2−ブロム−
5−スルフアモイル安息香酸アミド、N−(1′一エチ
ル一2′−ピロリジニル)エチル−2−クロル−5−ス
ルフアモイル安息香酸アミド、N−(15−メチル−2
′−ピロリジニル)メチル−2−クロル−5−スルフア
モイル安息香酸アミド、N−(1′−メチル−2′−ピ
ロリジニル)エチル−2−クロル−5−スルフアモイル
安息香酸アミド、N−(1′一エチル一2′−ピロリジ
ニル)エチル−2−ブロム−5−スルフアモイル安息香
酸アミド、N−(2′−ピロリジニル)メチル−2−ク
ロル−5−スルフアモイル安息香酸アミド、N−(25
−ビリジニル)メチル−2−ブロム−5−スルフアモイ
ル安息香酸アミド、N−(1′−イソプロピル−2ゞ−
ピロリジニル)メチル−2−クロル−5−スルフアモイ
ル安息香酸アミド。
の通りである。式(−b)の化合物: N−(1′一エチル一2′−ピロリジニル)メチルー2
−フルオル−5−スルフアモイル安息香酸アミド、N−
(1′一エチル一2′−ピロリジニル)メチル−2−ク
ロル−5−スルフアモイル安息香酸アミド、N−(1′
一エチル一2′−ピロリジニル)メチルー2−ブロム−
5−スルフアモイル安息香酸アミド、N−(1′一エチ
ル一2′−ピロリジニル)エチル−2−クロル−5−ス
ルフアモイル安息香酸アミド、N−(15−メチル−2
′−ピロリジニル)メチル−2−クロル−5−スルフア
モイル安息香酸アミド、N−(1′−メチル−2′−ピ
ロリジニル)エチル−2−クロル−5−スルフアモイル
安息香酸アミド、N−(1′一エチル一2′−ピロリジ
ニル)エチル−2−ブロム−5−スルフアモイル安息香
酸アミド、N−(2′−ピロリジニル)メチル−2−ク
ロル−5−スルフアモイル安息香酸アミド、N−(25
−ビリジニル)メチル−2−ブロム−5−スルフアモイ
ル安息香酸アミド、N−(1′−イソプロピル−2ゞ−
ピロリジニル)メチル−2−クロル−5−スルフアモイ
ル安息香酸アミド。
かくして、前記式()の新規な化合物において、好適な
群の化合物は式式中、X′は塩素、フツ素又は臭素原子
である、で示される化合物であり、他の好適な群の化合
物は式式中、zは−1\0P又は一↓\N】を表わし、
R2lは低級アルキル基、特にエチル基を表わし、X′
は前記定義の通りである、で示される化合物であり、こ
れら式(−d)及び式(−e)の化合物は、前記式(1
)の化合物の製造に際して有利に使用することができる
。
群の化合物は式式中、X′は塩素、フツ素又は臭素原子
である、で示される化合物であり、他の好適な群の化合
物は式式中、zは−1\0P又は一↓\N】を表わし、
R2lは低級アルキル基、特にエチル基を表わし、X′
は前記定義の通りである、で示される化合物であり、こ
れら式(−d)及び式(−e)の化合物は、前記式(1
)の化合物の製造に際して有利に使用することができる
。
前記式(−b)の化合物は、前記式(1)の化合物の優
れた合成中間体であるというにとどまらず、それ自体抗
潰瘍作用を有し、抗潰瘍剤として利用することができる
。次に実施例により本発明をさらに説明する。
れた合成中間体であるというにとどまらず、それ自体抗
潰瘍作用を有し、抗潰瘍剤として利用することができる
。次に実施例により本発明をさらに説明する。
実加?口2−クロル安息香酸(407)をクロルスルホ
ン酸(160d)とともに12時間90℃に加熱する。
ン酸(160d)とともに12時間90℃に加熱する。
冷却後反応液を氷水にあけ、析出する結晶を沢取し、乾
燥して2−クロル−5−クロルスルホニル安息香酸(5
41)を得る。融点148〜149℃;NMR(DMS
O、δ):7.56(1H、二重線、J=8Hz)、7
.80(1H、四重線、Jミ2、8Hz)、8.07(
1H1二重線、J=2Hz)。2−クロル−5−クロル
スルホニル安息香酸(54y)を28%アンモニア水(
100m0に溶かし、40〜50℃で2時間攪拌する。
燥して2−クロル−5−クロルスルホニル安息香酸(5
41)を得る。融点148〜149℃;NMR(DMS
O、δ):7.56(1H、二重線、J=8Hz)、7
.80(1H、四重線、Jミ2、8Hz)、8.07(
1H1二重線、J=2Hz)。2−クロル−5−クロル
スルホニル安息香酸(54y)を28%アンモニア水(
100m0に溶かし、40〜50℃で2時間攪拌する。
反応液に濃塩酸を加えてPHl.Oとし、析出する結晶
を沢取し、乾燥すると2−クロル−5−スルフアモイル
安息香酸(47y)を得る。融点218〜219℃;N
MR(DMSOlδ):7.55(2H1巾広い一重線
)、7.75(1H、二重線、J一8.5Hz)、7.
97(1H、四重線、Jミ25、8.5Hz)、8.2
5(1H1二重線、Jミ25Hz)。2−クロル−5−
スルフアモイル安息香酸(235η)をジメチルスルホ
キシド(2m1)?溶かし、これに28%のナトリウム
メトキシドのメタノール溶液(1t)を加え145〜1
50℃で一夜加熱する。
を沢取し、乾燥すると2−クロル−5−スルフアモイル
安息香酸(47y)を得る。融点218〜219℃;N
MR(DMSOlδ):7.55(2H1巾広い一重線
)、7.75(1H、二重線、J一8.5Hz)、7.
97(1H、四重線、Jミ25、8.5Hz)、8.2
5(1H1二重線、Jミ25Hz)。2−クロル−5−
スルフアモイル安息香酸(235η)をジメチルスルホ
キシド(2m1)?溶かし、これに28%のナトリウム
メトキシドのメタノール溶液(1t)を加え145〜1
50℃で一夜加熱する。
溶媒を減圧下で留去し、残渣を水に溶かし、塩酸酸性と
して、放置し、生じた結晶を沢過、水洗し、乾燥すると
、2−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸(184
η)を得る。融点221〜222℃;IR(KBr):
3390傭−13290cTn−11710cfL−1
;NMR(DMSO,δ):3.92(3H1一重線)
、7.32(1H1二重線、Jミ9Hz)、7.97(
1H、四重線、J=9Hz、2Hz)、8.13(1H
、二重線、J=2Hz)。実施例 2 2−クロル−5−スルフアモイル安息香酸(2.367
)をジメチルホルムアミド(46mのおよびトリエチル
アミン(1.47n0に溶かし、クロルギ酸イソプロピ
ル(1.177)を冷却下に滴加する。
して、放置し、生じた結晶を沢過、水洗し、乾燥すると
、2−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸(184
η)を得る。融点221〜222℃;IR(KBr):
3390傭−13290cTn−11710cfL−1
;NMR(DMSO,δ):3.92(3H1一重線)
、7.32(1H1二重線、Jミ9Hz)、7.97(
1H、四重線、J=9Hz、2Hz)、8.13(1H
、二重線、J=2Hz)。実施例 2 2−クロル−5−スルフアモイル安息香酸(2.367
)をジメチルホルムアミド(46mのおよびトリエチル
アミン(1.47n0に溶かし、クロルギ酸イソプロピ
ル(1.177)を冷却下に滴加する。
室温にて2時間攪拌した後、テトラヒドロフルフリール
アミン(1.03V)を滴加する。室温にて一夜放置し
、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出する。有機層を
水洗し、乾燥した後、溶媒を留去すると結晶が得られる
。少量のジクロルメタンで洗滌し、N−(25−テトラ
ヒドロフラニル)メチル−2−クロル−5−スルフアモ
イル安息香酸アミド(2.1y)を得る。融点169〜
171℃;IR(KBr):3290CrfL−1、1
650CTfL−1;NMR(DMSOlδ):1.5
〜2.1(4H、多重線)、3.2〜4.1(5H、多
重ノ線)、7.7〜8.0(3H、多重線)。
アミン(1.03V)を滴加する。室温にて一夜放置し
、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出する。有機層を
水洗し、乾燥した後、溶媒を留去すると結晶が得られる
。少量のジクロルメタンで洗滌し、N−(25−テトラ
ヒドロフラニル)メチル−2−クロル−5−スルフアモ
イル安息香酸アミド(2.1y)を得る。融点169〜
171℃;IR(KBr):3290CrfL−1、1
650CTfL−1;NMR(DMSOlδ):1.5
〜2.1(4H、多重線)、3.2〜4.1(5H、多
重ノ線)、7.7〜8.0(3H、多重線)。
N−(2′−テトラヒドロフラニル)メチル−2ークロ
ル−5−スルフアモイル安息香酸アミド(160〜)を
ジメチルスルホキシド(1.5a)に溶かし、28%ナ
トリウムメトキシドのメタノール溶液(0.5m0を加
え、反応液を60〜65℃で4.5時間攪拌する。
ル−5−スルフアモイル安息香酸アミド(160〜)を
ジメチルスルホキシド(1.5a)に溶かし、28%ナ
トリウムメトキシドのメタノール溶液(0.5m0を加
え、反応液を60〜65℃で4.5時間攪拌する。
反応液を水にあけ、弱酸性とした後、酢酸エチルで抽出
する。有機層を水洗した後、芒硝で乾燥する。溶媒を留
去するとN−(2′−テトラヒドロフラニル)メチル−
2−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸アミド(1
25〜)が得られる。融点201〜202℃;NMR(
DMSO、δ):1.8付近(4H、多重線)、3.3
7(2H、三重線、J=6Hz)、3.8付近(3H、
多重線)、3.96(3H1一重線)、7.25(2H
1巾広い一重線)、7.18(1H1二重線、J=8.
5Hz)、7.88(1H、四重線、J=2.5、8.
5Hz)、8.23(1H、二重線、J=2.5Hz)
、8.2付近(1H、多重線)。実施例 32−クロル
−5−スルフアモイル安息香酸(236Tf1fiI)
をジメチルホルムアミド(10m0およびトリエチルア
ミン(0.14m0に溶かし、クロルギ酸イソプロピル
(117即)を冷却下に滴加する。
する。有機層を水洗した後、芒硝で乾燥する。溶媒を留
去するとN−(2′−テトラヒドロフラニル)メチル−
2−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸アミド(1
25〜)が得られる。融点201〜202℃;NMR(
DMSO、δ):1.8付近(4H、多重線)、3.3
7(2H、三重線、J=6Hz)、3.8付近(3H、
多重線)、3.96(3H1一重線)、7.25(2H
1巾広い一重線)、7.18(1H1二重線、J=8.
5Hz)、7.88(1H、四重線、J=2.5、8.
5Hz)、8.23(1H、二重線、J=2.5Hz)
、8.2付近(1H、多重線)。実施例 32−クロル
−5−スルフアモイル安息香酸(236Tf1fiI)
をジメチルホルムアミド(10m0およびトリエチルア
ミン(0.14m0に溶かし、クロルギ酸イソプロピル
(117即)を冷却下に滴加する。
室温にて2時間攪拌した後、1−エチル−2−アミノメ
チルピロリジン(130W9)を滴加する。室温にて一
夜放置し、反応液を水にあけ、クロロホルムで抽出する
。有機層を5%重炭酸ナトリウム溶液で洗い、ついで水
洗し、芒硝で乾燥する。溶媒を留去し、アセトンで結晶
化させ、N−(15−エチル−2′−ピロリジニル)メ
チル一2−クロル−5−スルフアモイル安息香酸アミド
(270η)を得る。融点176〜180℃:IR(K
Br):3295CTfL−1、1652?−1;NM
R(DMSO、δ):1.04(3H1三重線、J=7
Hz)、1.7付近(4H、多重線)、2.0〜3.5
(5H、多重線)、7.79(3H、巾広い一重線)。
N−(1′一エチル一2′−ピロリジニル)メチル一2
−クロル−5−スルフアモイル安息香酸アミド(345
.5即)28%ナトリウムメトキシドのメタノール溶液
(0.5Tn1)の存在下、テトラヒドロフラン(27
n1)とともに12時間加熱還流する。
チルピロリジン(130W9)を滴加する。室温にて一
夜放置し、反応液を水にあけ、クロロホルムで抽出する
。有機層を5%重炭酸ナトリウム溶液で洗い、ついで水
洗し、芒硝で乾燥する。溶媒を留去し、アセトンで結晶
化させ、N−(15−エチル−2′−ピロリジニル)メ
チル一2−クロル−5−スルフアモイル安息香酸アミド
(270η)を得る。融点176〜180℃:IR(K
Br):3295CTfL−1、1652?−1;NM
R(DMSO、δ):1.04(3H1三重線、J=7
Hz)、1.7付近(4H、多重線)、2.0〜3.5
(5H、多重線)、7.79(3H、巾広い一重線)。
N−(1′一エチル一2′−ピロリジニル)メチル一2
−クロル−5−スルフアモイル安息香酸アミド(345
.5即)28%ナトリウムメトキシドのメタノール溶液
(0.5Tn1)の存在下、テトラヒドロフラン(27
n1)とともに12時間加熱還流する。
減圧下に溶媒を留去した後、稀塩酸を加えて酸性とする
。5%重炭酸ナトリウム溶液でPH9に調製し、クロロ
ホルムで抽出する。
。5%重炭酸ナトリウム溶液でPH9に調製し、クロロ
ホルムで抽出する。
有機層を水洗した後芒硝で乾燥する。溶媒を留去すると
N−(1″一エチル一2′−ピロリジニル)メチル−2
−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸アミド(30
9即)が得られる。融点179〜180′CO実施例
42−ブロム安息香酸(101)を実施例1と同様にク
ロルスルホン酸で処理し、引続いて28%アンモニア水
で処理すると2−ブロム−5−スルフアモイル安息香酸
(9.8r)が得られる。
N−(1″一エチル一2′−ピロリジニル)メチル−2
−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸アミド(30
9即)が得られる。融点179〜180′CO実施例
42−ブロム安息香酸(101)を実施例1と同様にク
ロルスルホン酸で処理し、引続いて28%アンモニア水
で処理すると2−ブロム−5−スルフアモイル安息香酸
(9.8r)が得られる。
融点218〜227℃;NMR(DMSO−D2O、δ
):7.75〜8.2(3H、多重線)。2−ブロム−
5−スルフアモイル安息香酸を実施例1と同様にナトリ
ウムメトキシドで処理すると2−メトキシ−5−スルフ
アモイル安息香酸が得られる。
):7.75〜8.2(3H、多重線)。2−ブロム−
5−スルフアモイル安息香酸を実施例1と同様にナトリ
ウムメトキシドで処理すると2−メトキシ−5−スルフ
アモイル安息香酸が得られる。
実施例 5
2−フルオル安息香酸(107)を実施例1と同様にク
ロルスルホン酸で処理し、引続いて28%アンモニア水
で処理すると2−フルオル−5−スルフアモイル安息香
酸(7.9r)が得られる。
ロルスルホン酸で処理し、引続いて28%アンモニア水
で処理すると2−フルオル−5−スルフアモイル安息香
酸(7.9r)が得られる。
融点185〜189℃。NMR(DMSO−D2O、δ
):7.39(1H,四重線、J=8.5、10Hz)
、7.96(1H1八重線、J=2.0、5、8.5H
z)、8.25(1H、四重線、J=2.0、7Hz)
。2−フルオル−5−スルフアモイル安息香酸を実施例
1と同様にナトリウムメトキシドで処理すると2−メト
キシ−5−スルフアモイル安息香酸が得られる。
):7.39(1H,四重線、J=8.5、10Hz)
、7.96(1H1八重線、J=2.0、5、8.5H
z)、8.25(1H、四重線、J=2.0、7Hz)
。2−フルオル−5−スルフアモイル安息香酸を実施例
1と同様にナトリウムメトキシドで処理すると2−メト
キシ−5−スルフアモイル安息香酸が得られる。
実施例 6
2−ブロム−5−スルフアモイル安息香酸(2.8r)
を実施例2と同様にしてアミド化するとN−(2′−テ
トラヒドロフラニル)メチル−2こ−ブロム−5−スル
フアモイル安息香酸アミド(2.7r)を得る。
を実施例2と同様にしてアミド化するとN−(2′−テ
トラヒドロフラニル)メチル−2こ−ブロム−5−スル
フアモイル安息香酸アミド(2.7r)を得る。
融点171〜172℃:NMR(DMSO−D2Olδ
):1.8付近(4H、多重線)、3.20(2H、三
重線、J=7Hz)、3.5〜4.1(3H、多重線)
、7.5(2H、一重 4線)、7.78付近(3H、
多重線)。N−(2′−テトラヒドロフラニルメチル)
−2−ブロム−5−スルフアモイル安息香酸アミドを実
施例2と同様にナトリウムメトキシドで処理するとN−
(2′−テトラヒドロフラニル)メチル一2−メトキシ
−5−スルフアモイル安息香酸アミドが得られる。
):1.8付近(4H、多重線)、3.20(2H、三
重線、J=7Hz)、3.5〜4.1(3H、多重線)
、7.5(2H、一重 4線)、7.78付近(3H、
多重線)。N−(2′−テトラヒドロフラニルメチル)
−2−ブロム−5−スルフアモイル安息香酸アミドを実
施例2と同様にナトリウムメトキシドで処理するとN−
(2′−テトラヒドロフラニル)メチル一2−メトキシ
−5−スルフアモイル安息香酸アミドが得られる。
実施例 7
2−ブロム−5−スルフアモイル安息香酸を実施例3と
同様にしてアミド化してN−(1′一エチル一2′−ピ
ロリジニル)メチル−2−ブロム−5−スルフアモイル
安息香酸アミドを得る。
同様にしてアミド化してN−(1′一エチル一2′−ピ
ロリジニル)メチル−2−ブロム−5−スルフアモイル
安息香酸アミドを得る。
融点182〜184℃;NMR(DMSO,δ):1.
04(3H1三重線、J=7Hz)、1.7付近(4H
、多重線)、2.0〜3.7(7H、多重線)、7.5
(2H、巾広い一重線)、7.8付近(3H、多重線)
、8,5(1H、多重線)。N−(1′一エチル一2′
−ピロリジニル)メチルー2−ブロム−5−スルフアモ
イル安息香酸アミドを実施例3と同様にナトリウムメト
キシドで処理するとN−(1′一エチル一2/−ピロリ
ジニル)メチル−2−メトキシ−5−スルフアモイル安
息香酸アミドを得る。
04(3H1三重線、J=7Hz)、1.7付近(4H
、多重線)、2.0〜3.7(7H、多重線)、7.5
(2H、巾広い一重線)、7.8付近(3H、多重線)
、8,5(1H、多重線)。N−(1′一エチル一2′
−ピロリジニル)メチルー2−ブロム−5−スルフアモ
イル安息香酸アミドを実施例3と同様にナトリウムメト
キシドで処理するとN−(1′一エチル一2/−ピロリ
ジニル)メチル−2−メトキシ−5−スルフアモイル安
息香酸アミドを得る。
実施例 8
2−フルオル−5−スルフアモイル安息香酸を実施例3
と同様にしてアミド化してN−(1′一エチル一2′−
ピロリジニル)メチル−2−フルオル−5−スルフアモ
イル安息香酸アミドを得る。
と同様にしてアミド化してN−(1′一エチル一2′−
ピロリジニル)メチル−2−フルオル−5−スルフアモ
イル安息香酸アミドを得る。
融点123〜125℃;NMR(DMSO−D2Olδ
):1.07(3H1三重線、J=7Hz)、1.75
(4H、多重線)、2.0〜3.7(7H、多重線)、
7.45(1H、四重線、J=8.5、10Hz)、7
.98(1H、八重線、J=2.0、5.0、8.5H
z)、8.13(1H、四重線、J=2.0、7Hz)
。N−(1′一エチル一2′−ピロリジニル)メチル−
2−フルオル−5−スルフアモイル安息香酸アミドを実
施例3と同様にナトリウムメトキシドで処理するとN−
(1′一エチル一2′−ピロリジニルメチル)−2−メ
トキシ−5−スルフアモイル安息香酸アミドを得る。実
施例 9 N−(2′テトラヒドロフラニル)メチル−2−クロル
−5−スルフアモイル安息香酸アミド(5.35t)を
47%臭化水素酸(20m1)に溶かし、臭化水素を通
し飽和させる。
):1.07(3H1三重線、J=7Hz)、1.75
(4H、多重線)、2.0〜3.7(7H、多重線)、
7.45(1H、四重線、J=8.5、10Hz)、7
.98(1H、八重線、J=2.0、5.0、8.5H
z)、8.13(1H、四重線、J=2.0、7Hz)
。N−(1′一エチル一2′−ピロリジニル)メチル−
2−フルオル−5−スルフアモイル安息香酸アミドを実
施例3と同様にナトリウムメトキシドで処理するとN−
(1′一エチル一2′−ピロリジニルメチル)−2−メ
トキシ−5−スルフアモイル安息香酸アミドを得る。実
施例 9 N−(2′テトラヒドロフラニル)メチル−2−クロル
−5−スルフアモイル安息香酸アミド(5.35t)を
47%臭化水素酸(20m1)に溶かし、臭化水素を通
し飽和させる。
反応液を40℃〜50℃で30分間加温した後、減圧下
に臭化水素をできるだけ留去する。反応液を重炭酸ナト
リウム溶液にあけ、結晶を沢取するとN−(2′−ヒド
ロキシ−5′−ブロモペンチル)−2−クロルー5−ス
ルフアモイル安息香酸アミド(5,26y)を得る。I
R(KBr):83350rIL−1、1635c1r
L−1;NMR(DMSO、δ):1.3〜2.2(4
H、多重線)、3.1〜3.8(5H、多重線)、7.
7〜8,0(3H、多重線)。N−(2′−ヒドロキシ
−5′−ブロムペンチル)−2−クロル−5−スルフア
モイル安息香酸アミド(1.07)を酢酸エチル(10
m1)に懸濁させ、塩化チオニル(0.347)を滴加
する。
に臭化水素をできるだけ留去する。反応液を重炭酸ナト
リウム溶液にあけ、結晶を沢取するとN−(2′−ヒド
ロキシ−5′−ブロモペンチル)−2−クロルー5−ス
ルフアモイル安息香酸アミド(5,26y)を得る。I
R(KBr):83350rIL−1、1635c1r
L−1;NMR(DMSO、δ):1.3〜2.2(4
H、多重線)、3.1〜3.8(5H、多重線)、7.
7〜8,0(3H、多重線)。N−(2′−ヒドロキシ
−5′−ブロムペンチル)−2−クロル−5−スルフア
モイル安息香酸アミド(1.07)を酢酸エチル(10
m1)に懸濁させ、塩化チオニル(0.347)を滴加
する。
室温で30分間撹拌した後、減圧下に溶媒を留去する。
残渣に氷水を加え、重炭酸ナトリウムで中和し、析出す
る結晶を沢取すると2−(25−クロル−5′ースルフ
アモイルフエニル)−5−(35−ブロムプロピル)−
4・5−ジヒドロオキサゾール(0.727)を得る。
IR(KBr):3340(V7l−1:1650C!
TL−1;NMR(DMSOlδ):1.9付近(4H
、多重線)、3.4〜4.2(4H、多重線)、4.8
5(1H1多重線)、7.77(1H1二重線、J=8
Hz)、7.91(1H1二重線、J=2Hz)、8.
11(1H1四重線、J==2、8Hz)。2−(2′
−クロル−5′−スルフアモイルフエニル)−5−(3
5−ブロムプロピル)−4・5−ジヒドロオキサゾール
(20071j!)を酢酸エチル(4m0に懸濁させる
。
残渣に氷水を加え、重炭酸ナトリウムで中和し、析出す
る結晶を沢取すると2−(25−クロル−5′ースルフ
アモイルフエニル)−5−(35−ブロムプロピル)−
4・5−ジヒドロオキサゾール(0.727)を得る。
IR(KBr):3340(V7l−1:1650C!
TL−1;NMR(DMSOlδ):1.9付近(4H
、多重線)、3.4〜4.2(4H、多重線)、4.8
5(1H1多重線)、7.77(1H1二重線、J=8
Hz)、7.91(1H1二重線、J=2Hz)、8.
11(1H1四重線、J==2、8Hz)。2−(2′
−クロル−5′−スルフアモイルフエニル)−5−(3
5−ブロムプロピル)−4・5−ジヒドロオキサゾール
(20071j!)を酢酸エチル(4m0に懸濁させる
。
これにトリエチルアミン(0.1TI11)、エチルア
ミン(4mのおよび酢酸エチル(2m1)から成る混合
物を滴力uする。室温にて一夜放置後減圧下に溶媒を留
去し、得られる油状物を薄層クロマトに付し、2−(2
5−クロル−55−スルフアモイルフエニル)−5−(
35−エチルアミノプロピル)−4・5−ジヒドロオキ
サゾールを油状物として得る。IR(油状):3200
C−1付近、1640cTrL−1;NMR(DMSO
、δ):1.12(3H1三重線、J=7Hz)、1.
7付近(4H、多重線)、2.83(2H、四重線、J
=7Hz)、3.5〜4.5(4H、多重線)、4.7
付近(1H、多重線)、7.76(1H、二重線、J=
8Hz)、7.88(1H1二重線、J=2Hz)、8
.11(1H、四重線、J−2、8Hz)。2−(2′
−クロル−55−スルフアモイルフエニル)−5−(3
5−エチルアミノプロピル)−4・5−ジヒドロオキサ
ゾール(50η)をエタノール(2mのとともに2時間
加熱還流する。
ミン(4mのおよび酢酸エチル(2m1)から成る混合
物を滴力uする。室温にて一夜放置後減圧下に溶媒を留
去し、得られる油状物を薄層クロマトに付し、2−(2
5−クロル−55−スルフアモイルフエニル)−5−(
35−エチルアミノプロピル)−4・5−ジヒドロオキ
サゾールを油状物として得る。IR(油状):3200
C−1付近、1640cTrL−1;NMR(DMSO
、δ):1.12(3H1三重線、J=7Hz)、1.
7付近(4H、多重線)、2.83(2H、四重線、J
=7Hz)、3.5〜4.5(4H、多重線)、4.7
付近(1H、多重線)、7.76(1H、二重線、J=
8Hz)、7.88(1H1二重線、J=2Hz)、8
.11(1H、四重線、J−2、8Hz)。2−(2′
−クロル−55−スルフアモイルフエニル)−5−(3
5−エチルアミノプロピル)−4・5−ジヒドロオキサ
ゾール(50η)をエタノール(2mのとともに2時間
加熱還流する。
溶媒を留去するとN−(1′一エチル一25−ピロリジ
ル)メチル−2−クロル−5−スルフアモイル安息香酸
アミドが得られる。この化合物は2−(2′−クロル−
55−スルフアモィルフエニル)−5−(3′−ブロム
プロピル)一4・5−ジヒドロオキサゾールからも製造
される。
ル)メチル−2−クロル−5−スルフアモイル安息香酸
アミドが得られる。この化合物は2−(2′−クロル−
55−スルフアモィルフエニル)−5−(3′−ブロム
プロピル)一4・5−ジヒドロオキサゾールからも製造
される。
すなわち、2−(2′−クロル−5′−スルフアモイル
フエニル)−5−(3′−ブロムプロピル)−4・5−
ジヒドロオキサゾール(1.0f)をエチルアミン(5
m0およびジメチルホルムアミド(5a)とともに4時
間100℃に加熱する。減圧下に溶媒を留去し、得られ
る残渣に重炭酸ナトリウム溶液を力目え、クロロホルム
で抽出する。水洗後溶媒を留去するとN−(1′一エチ
ル一2″−ピロリジル)メチル−2−クロル−5−スル
フアモイル安息香酸アミド(0.635V)を得る。融
点177〜180℃。こうして得られたN−(1′一エ
チル一2′−ピロリジニル)メチル−2−クロル−5−
スルフアモイル安息香酸アミド(345.5TI19)
を28%ナトリウムメトキシドのメタノール溶液(0.
5m1)の存在下、テトラヒドロフラン(2d)ととも
に12時間加熱還流する。
フエニル)−5−(3′−ブロムプロピル)−4・5−
ジヒドロオキサゾール(1.0f)をエチルアミン(5
m0およびジメチルホルムアミド(5a)とともに4時
間100℃に加熱する。減圧下に溶媒を留去し、得られ
る残渣に重炭酸ナトリウム溶液を力目え、クロロホルム
で抽出する。水洗後溶媒を留去するとN−(1′一エチ
ル一2″−ピロリジル)メチル−2−クロル−5−スル
フアモイル安息香酸アミド(0.635V)を得る。融
点177〜180℃。こうして得られたN−(1′一エ
チル一2′−ピロリジニル)メチル−2−クロル−5−
スルフアモイル安息香酸アミド(345.5TI19)
を28%ナトリウムメトキシドのメタノール溶液(0.
5m1)の存在下、テトラヒドロフラン(2d)ととも
に12時間加熱還流する。
減圧下に溶媒を留去した後、稀塩酸を加えて酸性とする
。5%重炭酸ナトリウム溶液でPH9に調製し、クロロ
ホルムで抽出する。
。5%重炭酸ナトリウム溶液でPH9に調製し、クロロ
ホルムで抽出する。
有機層を水洗した後芒硝で乾燥する。溶媒を留去すると
N−(15−エチル−2′−ピロリジニル)メチル−2
−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸アミド(30
9η)が得られる。融点179〜180℃。実施例 1
0 2−クロル−5−スルフアモイル安息香酸(345即)
をジメチルスルホキシド(10a)に溶かし、10%ナ
トリウムエトキシドのエタノール溶液(5m0を加える
。
N−(15−エチル−2′−ピロリジニル)メチル−2
−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸アミド(30
9η)が得られる。融点179〜180℃。実施例 1
0 2−クロル−5−スルフアモイル安息香酸(345即)
をジメチルスルホキシド(10a)に溶かし、10%ナ
トリウムエトキシドのエタノール溶液(5m0を加える
。
反応液を29時間140液〜150℃で加温する。冷後
、水にあけ、10%硫酸で酸性に調整し、酢酸エチルで
抽出する。有機層を水洗し、芒硝で乾燥した後、溶媒を
留去すると2−エトキシ−5−スルフアモイル安息香酸
が結晶(290即)として得られる。IR(KBr,.
cTrL−1):3325、3230、1710;NM
R(DMSOlδ):1.35(3H1三重線、J−7
Hz)、419(2H1四重線、J−7Hz)、7.3
0(2H1巾広い一重線)、7.29(1H1二重線、
J=8.5Hz)、7.93(1H1四重線、J=2.
5、8.5Hz)、8.11(1H、二重線、J=2.
5Hz)。実施例 11 2−クロル−5−スルフアモイル安息香酸(345ワ)
をジメチルスルホキシド(10d)に溶かし、10%カ
リウムメトキシドのメタノール溶液(3a)を加え、以
下実施例1の最終化合物の製法と同様に操作して2−メ
トキシ−5−スルフアモイル安息香酸を得る。
、水にあけ、10%硫酸で酸性に調整し、酢酸エチルで
抽出する。有機層を水洗し、芒硝で乾燥した後、溶媒を
留去すると2−エトキシ−5−スルフアモイル安息香酸
が結晶(290即)として得られる。IR(KBr,.
cTrL−1):3325、3230、1710;NM
R(DMSOlδ):1.35(3H1三重線、J−7
Hz)、419(2H1四重線、J−7Hz)、7.3
0(2H1巾広い一重線)、7.29(1H1二重線、
J=8.5Hz)、7.93(1H1四重線、J=2.
5、8.5Hz)、8.11(1H、二重線、J=2.
5Hz)。実施例 11 2−クロル−5−スルフアモイル安息香酸(345ワ)
をジメチルスルホキシド(10d)に溶かし、10%カ
リウムメトキシドのメタノール溶液(3a)を加え、以
下実施例1の最終化合物の製法と同様に操作して2−メ
トキシ−5−スルフアモイル安息香酸を得る。
そのIRおよびNMRスペクトルは実施例1の最終化合
物のものと一致した。実施例 12 2−クロル−5−スルフアモイル安息香酸メチルエステ
ル(359119)を実施例11と同様に反応せしめ、
処理し、薄層クロマトグラフイ一によつて精製すると2
−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸メチルエステ
ル(1207!1f)が得られる。
物のものと一致した。実施例 12 2−クロル−5−スルフアモイル安息香酸メチルエステ
ル(359119)を実施例11と同様に反応せしめ、
処理し、薄層クロマトグラフイ一によつて精製すると2
−メトキシ−5−スルフアモイル安息香酸メチルエステ
ル(1207!1f)が得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II)式中、Xはハ
ロゲン原子であり、Yは水酸基、低級アルコキシ基、式
▲数式、化学式、表等があります▼の基又は式▲数式、
化学式、表等があります▼の基を表わし、R_1は低級
アルキレン基を表わし、R_2は水素原子又は低級アル
キル基を表わす、の化合物をアルカリ金属アルコキシド
と反応せしめることを特徴とする、式▲数式、化学式、
表等があります▼( I )式中、Aは低級アルキル基を
表わし、Yは前記定義の通りである、の安息香酸誘導体
の製造方法。 2 式(II)の化合物として、式 ▲数式、化学式、表等があります▼又は ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、X′は塩素、フッ素又は臭素原子であり、Zは▲
数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式、
表等があります▼を表わし、R_2_1は低級アルキル
基を表わす、 の化合物を使用する、特許請求の範囲第1項記載の方法
。 3 アルカリ金属アルコキシドとして、ナトリウム、カ
リウム又はリチウムのアルコキシドを使用する、特許請
求の範囲第1項記載の方法。 4 アルカリ金属アルコキシドとしてナトリウムメトキ
シドを使用する、特許請求の範囲第1項記載の方法。 5 該反応を不活性有機溶媒中で行なう、特許請求の範
囲第1項記載の方法。 6 該不活性有機溶媒が極性有機溶媒である特許請求の
範囲第5項記載の方法。 7 該不活性有機溶媒が、アルコール類、エーテル類、
スルホキシド類又は有機塩基である、特許請求の範囲第
5項又は6項記載の方法。 8 該反応を室温乃至反応混合物の環流温度において行
なう、特許請求の範囲第1項記載の方法。 9 該反応を60〜150℃の温度において行なう、特
許請求の範囲第8項記載の方法。 10 アルカリ金属アルコキシドを式(II)の化合物に
対して過剰モル量で使用する特許請求の範囲第1項記載
の方法。 11 アルカリ金属アルコキシドを式(II)の化合物に
対して3〜8倍モル量で使用する、特許請求の範囲第1
0項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10063976A JPS5910657B2 (ja) | 1976-08-25 | 1976-08-25 | 安息香酸誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10063976A JPS5910657B2 (ja) | 1976-08-25 | 1976-08-25 | 安息香酸誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5350139A JPS5350139A (en) | 1978-05-08 |
| JPS5910657B2 true JPS5910657B2 (ja) | 1984-03-10 |
Family
ID=14279387
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10063976A Expired JPS5910657B2 (ja) | 1976-08-25 | 1976-08-25 | 安息香酸誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5910657B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1983000013A1 (fr) * | 1980-11-10 | 1983-01-06 | Mochida Pharm Co Ltd | Composition medicinale possedant un effet anti-viral |
-
1976
- 1976-08-25 JP JP10063976A patent/JPS5910657B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5350139A (en) | 1978-05-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2004110974A1 (en) | Matrix metalloproteinase inhibitors | |
| CN114805314A (zh) | 一种恩赛特韦的合成方法 | |
| JPS5910657B2 (ja) | 安息香酸誘導体の製造方法 | |
| US5011927A (en) | Preparation of 2-amino-4-fluoropyrimidine derivatives | |
| JP2001521498A (ja) | O−(3−アミノ−2−ヒドロキシ−プロピル)−ヒドロキシミック酸ハロゲン化物の製造方法 | |
| JPS5946260A (ja) | 安息香酸誘導体 | |
| JPH06340622A (ja) | ベンジルコハク酸誘導体の製造方法およびその製造中間体 | |
| HU196385B (en) | Process for producing nizatidine | |
| CN110172062B (zh) | 一种单氟代螺环化合物的合成方法及其中间体 | |
| KR810000454B1 (ko) | 치환 안식향산아미드 유도체의 제조방법 | |
| EP0267055B1 (en) | Novel alpha-chloroketone derivative and process for preparation thereof | |
| JPH0641066A (ja) | ピロール誘導体の製造方法 | |
| JP2864653B2 (ja) | 2―ヒドロキシニコチン酸誘導体の製造方法 | |
| JPH10287657A (ja) | 放射線増感剤の製造方法 | |
| JPH05286975A (ja) | 1−アザビシクロ[3.3.0オクタン誘導体の製法 | |
| KR970001473B1 (ko) | 피라졸 설포닐클로라이드 유도체의 제조방법 | |
| JP2903805B2 (ja) | 光学活性ベンジルグリシジルエーテルの製法 | |
| JPH07258234A (ja) | 1,3,4−オキサジアゾール−2(3h)−チオン類の製造法 | |
| JP3592747B2 (ja) | N−tert−ブチル−2,3−ピラジンジカルボキサミド及びその製造法 | |
| JPS63211264A (ja) | インドリン類の製造法 | |
| JP3780436B2 (ja) | α−テトラ置換フタロシアニンの製造法 | |
| JPH0525876B2 (ja) | ||
| JPS5916879A (ja) | N−置換イミダゾ−ル類の製造法 | |
| JPH0379345B2 (ja) | ||
| JPH0812658A (ja) | シドノン類の製造法 |