JPH0478520B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0478520B2
JPH0478520B2 JP59066988A JP6698884A JPH0478520B2 JP H0478520 B2 JPH0478520 B2 JP H0478520B2 JP 59066988 A JP59066988 A JP 59066988A JP 6698884 A JP6698884 A JP 6698884A JP H0478520 B2 JPH0478520 B2 JP H0478520B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
discharge hole
gas discharge
gas
cooling plate
radiation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP59066988A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS60210857A (ja
Inventor
Mitsuo Nakatani
Ryuichi Ueda
Tetsuo Tanaka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP59066988A priority Critical patent/JPS60210857A/ja
Publication of JPS60210857A publication Critical patent/JPS60210857A/ja
Publication of JPH0478520B2 publication Critical patent/JPH0478520B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J5/00Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
    • G01J5/02Constructional details
    • G01J5/06Arrangements for eliminating effects of disturbing radiation; Arrangements for compensating changes in sensitivity
    • G01J5/061Arrangements for eliminating effects of disturbing radiation; Arrangements for compensating changes in sensitivity by controlling the temperature of the apparatus or parts thereof, e.g. using cooling means or thermostats

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (a) 発明の技術分野 本発明は人工衛星に搭載された赤外線検知器を
宇宙空間への熱放射によつて冷却する放射冷却器
の性能を向上させるための改良に関するものであ
る。
(b) 技術の背景 最近の資源探査衛星に搭載される赤外線カメラ
用の赤外線検知器にはHgCdTe等の多元半導体か
ら成る光量子型検知素子が用いられている。これ
らは高感度であり、かつ応答速度も早いけれども
100〓程度の超低温でなければ作動しない。そし
て環境温度5〓という宇宙空間ではあるが熱伝導
媒体が存在しない真空中における冷却方法は熱輻
射以外にはなく、このため輻射効率が高く、した
がつて前記検知器の冷却効果の良好な放射冷却器
の開発が強く要望されている。
(c) 従来技術と問題点 第1図は従来の放射冷却器の構造と動作を説明
するための図であり、aは全体構成を示す側断面
図、bは冷却板の構造を示す側断面図である。同
図において1は人工衛星本体、2は衛星側面、3
は地球、4は赤外線、5はミラー、6は赤外線検
知器、7は冷却板、7′は冷却板の放熱面、8は
ガス吸入孔、9はガス放出孔、10はアウトガ
ス、11はシールド板、12は反射板、40は放
射冷却器、50は宇宙空間をそれぞれ示してい
る。
第1図に示す如く従来の放射冷却器40は人工
衛星本体1の側面2に搭載され、該衛星本体1に
付設されたミラー5を介して地球3が放射する赤
外線4を地球の鉛直線と直交する方向で受光する
赤外線検知器6と、該検知器6が取付けられた面
を前記衛星本体1側に向け、そのの反対面を山型
に形成してこれを放熱面7′として宇宙空間側へ
向け、かつ内部で発生したアウトガス10を吸入
するガス吸入孔8をその側壁部分に装備し、吸入
したアウトガス10を放出するガス放出孔9を宇
宙空間50と対向する形で配置された放熱面7′
上に備えた冷却板7と、外周部分を金属壁によつ
て覆われたこの該冷却板7の応周端を起点として
宇宙空間50側へ漏斗状に拡がる反射板12と、
一方の端部が該反射板12の外周端からさらに宇
宙空間50側へ漏斗状に拡がり、他方の端部が前
記衛星側面2に固定されたシールド板11とによ
つて構成されている。前記冷却板7の放熱面7′
が山型になつているのは、宇宙空間50側から入
射する熱線等の影響を受けない範囲内でその放熱
面積を増加させるためである。なお、前述した経
路によつて赤外線検知器6へ矢印A方向から入射
する赤外線4は、前記検知器6によつてその光量
子が計測される。そしてこのような赤外線検知器
6を搭載した衛星1が所定の軌道を飛行して地球
上の赤外線4の状況を調査することによつて地球
に存在する各種の資源状態が探査される。しかし
ながらこのような従来の構造では、放射冷却器4
0の内部で発生したアウトガス10を冷却板7に
設けられたガス吸入孔8から吸入して矢印C方向
すなわち宇宙空間50側へ放出するために前記冷
却板7に設けられたガス放出孔9による放熱面
7′の放熱面積の減少が微妙に影響して矢印Dで
示す放熱量が減殺され、該冷却板7の放熱能力が
低下し、そために検知器6の温度が上昇しして該
検知器6の動作が不安定なものとなつていた。
(d) 発明の目的 本発明は上記の欠点を是正するためになされた
もので、放射冷却器の内部で発生したアウトガス
を外部へ放出するために設けられたガス放出孔に
よつて減少した冷却板の放熱面積を補ない冷却性
能の向上を図るようにしたガス抜き構造を提供す
ることを目的とするものである。
(e) 発明の構成 本発明による放射冷却器は、内部で発生したア
ウトガス10を吸入するガス吸入孔8をその側壁
部分に装備し、吸入したアウトガス10を放出す
るガス放出孔9を宇宙空間50と対向する形で配
置された放熱面7′上に備えた冷却板7を装備し
てなる人工衛星搭載用の放射冷却器において、前
記ガス放出孔9と、このガス放出孔9を形成起点
としてガス吸入孔8に通じ、かつその壁面を放熱
面とするガス放出孔壁面19とによつて構成され
たガス抜き構造30を第2図に示すように前記冷
却板7内に装備する。
(f) 発明の実施例 以下本発明の実施例を図面によつて詳述する。
第2図は本発明による放射冷却器の特徴である
冷却板のガス抜き構造を説明するための図であつ
て、前図と同等の部分については同一符号を付し
ており19はその壁面を放熱面とするガス放出孔
壁面、30はガス放出孔9とガス放出孔壁面19
とによつて構成されたガス抜き構造を示す。なお
第2図の説明において前図と重複する部分は煩雑
さをさける意味で省略している。
第2図に示す如く本発明は放射冷却器40に具
備され、宇宙空間50への熱放射によつて赤外線
検知器6を100〓程度の超低温に冷却する冷却板
7の構造改良に関するものであつて、当該冷却板
7の放熱面7′に設けられたガス放出孔9と、こ
のガス放出孔9を形成起点としてガス吸入孔8に
通じるガス放出孔壁面19とによつて構成された
ガス抜き構造30を当該冷却板7内に装備する。
そして該ガス放出孔壁面19からは、たとえば
E,E′方向への熱放射が行なわれる。したがつて
前記ガス放出孔9を設けたことによる損失すなわ
ち前記放熱面7′の面積減少による前記冷却板7
の冷却能力の低下は前記ガス放出孔9の壁面19
の熱放射によつてほぼ完全に補われる。なお本発
明による冷却板構造においては、前記冷却板7の
山型形成部の内側に形成される空洞によつて生じ
る前記アウトガス10の滞流も無くなるので該ア
ウトガス10の流動性は著しく改善され宇宙空間
50側へスムーズに放出される。
(g) 発明の効果 以上詳細に説明したように本発明による放射冷
却器は、ガス抜き構造を構成するガス放出孔壁面
を放熱面として利用することから、赤外線検知器
の冷却能力が著しく改善される。
【図面の簡単な説明】
第1図a,bは従来の放射冷却器の側断面図と
冷却板部分の拡大断面図、第2図は本発明による
放射冷却器に用いる冷却板の1実施例構成を示す
断面図である。 図面において1は人工衛星本体、2は衛星側
面、3は地球、4は赤外線、5はミラー、6は赤
外線検知器、7は冷却板、7′は放熱面、8はガ
ス吸入孔、9はガス放出孔、10はアウトガス、
11はシールド板、12は反射板、19はガス放
出孔壁面、30はガス放出孔9およびガス放出孔
壁面19より成るガス抜き構造、40は放射冷却
器、50は宇宙空間をそれぞれ示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 内部で発生したアウトガス10を吸入するガ
    ス吸入孔8をその側壁部分に装備し、吸入したア
    ウトガス10を放出するガス放出孔9を宇宙空間
    50と対向する形で配置された放熱面7′上に備
    えた冷却板7を装備してなる人工衛星搭載用の放
    射冷却器において、 前記ガス放出孔9と、このガス放出孔9を形成
    起点としてガス吸入孔8に通じ、かつその壁面を
    放熱面とするガス放出孔壁面19と、によつて構
    成されたガス抜き構造30を前記冷却板7内に装
    備してなることを特徴とする放射冷却器。
JP59066988A 1984-04-03 1984-04-03 放射冷却器 Granted JPS60210857A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59066988A JPS60210857A (ja) 1984-04-03 1984-04-03 放射冷却器

Applications Claiming Priority (1)

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JP59066988A JPS60210857A (ja) 1984-04-03 1984-04-03 放射冷却器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60210857A JPS60210857A (ja) 1985-10-23
JPH0478520B2 true JPH0478520B2 (ja) 1992-12-11

Family

ID=13331900

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59066988A Granted JPS60210857A (ja) 1984-04-03 1984-04-03 放射冷却器

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JP (1) JPS60210857A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2624020A1 (en) 2012-01-31 2013-08-07 Kabushiki Kaisha Topcon Optical substrate

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP2624020A1 (en) 2012-01-31 2013-08-07 Kabushiki Kaisha Topcon Optical substrate

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Publication number Publication date
JPS60210857A (ja) 1985-10-23

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