JPH0480080B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0480080B2 JPH0480080B2 JP31178786A JP31178786A JPH0480080B2 JP H0480080 B2 JPH0480080 B2 JP H0480080B2 JP 31178786 A JP31178786 A JP 31178786A JP 31178786 A JP31178786 A JP 31178786A JP H0480080 B2 JPH0480080 B2 JP H0480080B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ammonium fluoride
- aqueous solution
- mold
- saturated aqueous
- nitric acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 30
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 24
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 22
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 21
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 19
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- LDDQLRUQCUTJBB-UHFFFAOYSA-N ammonium fluoride Chemical class [NH4+].[F-] LDDQLRUQCUTJBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 9
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 2
- QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N B#[Ti]#B Chemical compound B#[Ti]#B QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 206010013786 Dry skin Diseases 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000306 component Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Detergent Compositions (AREA)
Description
［産業上の利用分野］
本発明は、ガラスレンズをプレス成形するため
の成形型の洗浄に用いられる洗浄液に関する。 ［従来の技術］ 近年、光学ガラス部品、中でも光学ガラスレン
ズは、光学機器のレンズ系の構成の簡略化とレン
ズ部分の軽量化の両方を同時に達成し得る非球面
化の傾向にある。この非球面レンズの製造には、
従来の光学レンズ製造方法である研磨法では加工
性及び量産化が困難であり、直接プレス成形法が
有望視されている。 この直接プレス成形法というのは、あらかじめ
所望の面品質及び面精度に仕上げた成形型の上
で、光学ガラスの塊状物を加熱した後プレス成形
するかあるいはあらかじめ加熱した光学ガラスの
塊状物をプレス成形して、プレス成形後、それ以
上の研磨とかの磨き工程などの後工程を必要とせ
ず光学レンズを製造する方法である。このような
方法で光学レンズを得るには、所望の高い形状精
度と光学鏡面に仕上げられた成形型が必要となる
ことはもちろんであるが、成形型の成形面上に、
ガラス屑あるいはその他の異物が付着すると所望
のレンズを得られなくなるので、このような場
合、その付着物をすみやかに取り除くことが必要
である。 この目的のために、特開昭61−72633号公報に
は、プレス成形後の型の成形面に、非酸化性ガス
を吹きつけ、成形面上のガラス屑や異物を吹き飛
ばし取り除く方法が開示されている。 ［発明が解決しようとする問題点］ 前記した従来の洗浄方法では、成形面上に付着
したガラス屑や異物が取り除けずに成形面上に残
る場合があり、ガス吹きつよりもより確実にガラ
ス屑や異物を取り除く方法が望まれていた。 従つて本発明の目的は、成形型の成形面上に付
着したガラス屑、付着或いは堆積した鉛などの異
物、その他の汚れを容易に取り除き、成形面上を
洗浄化することができる洗浄液を提供することに
ある。 ［問題点を解決するための手段］ 本発明は、上記の目的を達成するためになされ
たものであり、本発明のガラスレンズ成形型用洗
浄液は、酸性フツ化アンモン飽和水溶液を必須成
分とし、更に場合により濃硝酸及び／又は水をも
必須成分とする液であつて、酸性フツ化アンモン
飽和水溶液／（酸性フツ化アンモン飽和水溶液＋
濃硝酸）の比率が50容量％以上で、かつ（酸性フ
ツ化アンモン飽和水溶液＋濃硝酸）／（酸性フツ
化アンモン飽和水溶液＋濃硝酸＋水）の比率が10
容量％以上であることを特徴とする。 ここに、酸性フツ化アンモン飽和水溶液とは、
水１中に酸性フツ化アンモンを室温にて670g
溶解した液のことである（飽和水溶液を得るため
の酸性フツ化アンモンの溶解量は温度によつて変
動する）。また濃硝酸とはHNO3を63重量％含む、
比重1.38の水溶液のことであり、市販濃硝酸に相
当する。これらの主成分の他に、硫酸、塩酸、酢
酸、フツ酸等を添加してもよいが、フツ酸は皮膚
に付着すると危険であることから使用しないこと
が好ましい。 本発明の洗浄液を用いれば、成形型に付着した
ガラス屑をガラスの種類を問わずに容易に溶解除
去することができる。又、SF系光学ガラスは
PbOを多量に含むために、成形時に還元粒子が型
に付着、堆積しやすいが、これも容易に除去でき
る。本発明の洗浄液で洗浄される成形型の材質と
しては炭化ケイ素、炭化ケイ素と炭素の混合物、
窒化ケイ素、ホウ化チタン、貴金属（白金、ロジ
ウム、金等）、炭化タングステン、ステンレスス
チール及びその他の多くの材質が挙げられる。材
質によつて、洗浄液中の成分の混合比を任意にか
えることができるが、酸性フツ化アンモン飽和水
溶液／（酸性フツ化アンモン飽和水溶液＋濃硝
酸）の比率が50容量％未満になるとコバルトをバ
ンイダーとしている炭化タングステン焼結体やス
テンレススチールの場合は腐食されやすくなるの
で好ましくない。 また（酸性フツ化アンモン飽和水溶液＋濃硝
酸）／（酸性フツ化アンモン飽和水溶液＋濃硝酸
＋水）の比率が10容量％未満であると、プレスに
よつて型に付着したガラス屑の除去に時間を要す
るので好ましくない。 本発明の洗浄液を、成形型のガラス屑等が付着
した部分につけてしばらく放置することにより、
型を侵すことなく、ガラス屑等を除去でき、しか
る後にアセトンで拭いて成形型を再び使用するこ
とができる。又、洗浄液中に成形型を浸漬して、
超音波洗浄し、しかる後にシミ等が残らないよう
に、光学レンズの洗浄に通常用いられる超音波自
動洗浄工程を通せばさらによい。 ［実施例］ 以下、実施例により本発明を更に説明するが、
本発明は下記実施例に限定されるものではない。 本発明の洗浄液として、第１表にNo.１〜10の10
種類の洗浄液を示すが、これらの洗浄液は下記の
ようにして調製した。 即ち、一定量の蒸留水中に酸性フツ化アンモン
を室温にて少量ずつ攪拌しながら投入し、酸性フ
ツ化アンモン飽和水溶液（水１に対する酸性フ
ツ化アンモンの溶解量670g）を調製し、これを
そのまま本発明のNo.３の洗浄液とした。 また本発明のNo.１，２及び４〜10の洗浄液は、
上で得られた酸性フツ化アンモン飽和水溶液に濃
硝酸（JIS特級63重量％液、比重1.38）及び／又
は蒸留水を所定の容量比で加え、攪拌することに
より調製した。なお比較のためNo.11として濃硝酸
を用意した。 これらの洗浄液を用いて、まず、予備テストと
して、ガラスの溶解速度を調べ、又、型材の肌荒
れテストを行なつた。鉛を多量に含む光学ガラス
であるSF6の研磨球（直径4.4mm、重さ230mg）を
各洗浄液に浸漬し、浸漬時間と重量減の関係を調
べた結果の１例を第１図に示す。通常、プレス成
形で成形型に付着するガラス屑は数μm程度の微
小のものであり、１mg以下であることから、これ
らの洗浄液で付着ガラスを十分に溶解除去でき
る。 一方、型材の肌荒れを調べるために、炭化ケイ
素焼結体の上にCVD法で炭化ケイ素をコーテイ
ングしたもの及びバインダーが主にコバルトであ
る炭化タングステン焼結体の直径17mm、厚さ３mm
の平面円板を表面粗さ150Å以下に鏡面研磨し、
これらを室温で各洗浄液に２時間浸漬し、前後の
表面粗さの測定と顕微鏡観察を行なつた。その結
果、CVD法で炭化ケイ素をコーテイングした型
では、No.１〜10のいずれの洗浄液を用いても、型
は全く変化しなかつた。炭化タングステン焼結体
の場合は、No.１〜８の洗浄液を用いると型は全く
変化せず、No.９及びNo.10の洗浄液を用いると表面
粗さが10Å程度悪化したが、実用上問題ない範囲
であつた。これに対して比較のためのNo.11の液で
は肌荒れが顕著であつた。これは、バンダーのコ
バルトが硝酸によつて腐食されるためと考えられ
る。 次に前記のSF6研磨球を、前記の鏡面仕上げ面
を有する成形型内に納め、N2雰囲気中で、500℃
に昇温しプレス成形したのち室温まで冷却し、成
形体を成形型から取り出し、再び新たなガラスを
成形型内に納め、同様の手順で20回プレス成形を
行なつた。しかる後に型表面を観察したところ、
CVD法で炭化ケイ素をコーテイングしたものも、
炭化タングステン焼結体の場合もガラス屑の付着
が顕微鏡で認められ、かつ、PbOの還元により鉛
成分の付着が求められた。この型をNo.１〜10の各
洗浄液中に５分間浸漬し、しかる後に光学レンズ
の洗浄の際に通常用いられている超音波自動洗浄
工程（水→界面活性剤液→水→イソプロピルアル
コール→フロン乾燥）を通して、光学顕微鏡で観
察したところ、残存付着異物は全く認められず、
元の鏡面状態を保つていた。No.１〜10の各洗浄液
に対して、同様のテストを行なつたが、すべてに
対して同様の結果が得られた。又、成形面に洗浄
液を数滴滴下し、５分間の間に綿棒による擦り操
作を所定間隔で10回程度行なつた後、水拭きし、
アセトンで清拭しても同様な結果が得られた。 上記の実施例では酸性フツ化アンモン飽和水溶
液又は該酸性フツ化アンモン飽和水溶液と濃硝酸
及び／又は水との混合液を用いたが、これに、さ
らに硫酸、塩酸、酢酸、フツ酸等を添加してもよ
い。しかしながら、フツ酸は皮膚に付着した場
合、人体に悪影響を及ぼすので、その使用はでき
るだけ避けた方がよい。
の成形型の洗浄に用いられる洗浄液に関する。 ［従来の技術］ 近年、光学ガラス部品、中でも光学ガラスレン
ズは、光学機器のレンズ系の構成の簡略化とレン
ズ部分の軽量化の両方を同時に達成し得る非球面
化の傾向にある。この非球面レンズの製造には、
従来の光学レンズ製造方法である研磨法では加工
性及び量産化が困難であり、直接プレス成形法が
有望視されている。 この直接プレス成形法というのは、あらかじめ
所望の面品質及び面精度に仕上げた成形型の上
で、光学ガラスの塊状物を加熱した後プレス成形
するかあるいはあらかじめ加熱した光学ガラスの
塊状物をプレス成形して、プレス成形後、それ以
上の研磨とかの磨き工程などの後工程を必要とせ
ず光学レンズを製造する方法である。このような
方法で光学レンズを得るには、所望の高い形状精
度と光学鏡面に仕上げられた成形型が必要となる
ことはもちろんであるが、成形型の成形面上に、
ガラス屑あるいはその他の異物が付着すると所望
のレンズを得られなくなるので、このような場
合、その付着物をすみやかに取り除くことが必要
である。 この目的のために、特開昭61−72633号公報に
は、プレス成形後の型の成形面に、非酸化性ガス
を吹きつけ、成形面上のガラス屑や異物を吹き飛
ばし取り除く方法が開示されている。 ［発明が解決しようとする問題点］ 前記した従来の洗浄方法では、成形面上に付着
したガラス屑や異物が取り除けずに成形面上に残
る場合があり、ガス吹きつよりもより確実にガラ
ス屑や異物を取り除く方法が望まれていた。 従つて本発明の目的は、成形型の成形面上に付
着したガラス屑、付着或いは堆積した鉛などの異
物、その他の汚れを容易に取り除き、成形面上を
洗浄化することができる洗浄液を提供することに
ある。 ［問題点を解決するための手段］ 本発明は、上記の目的を達成するためになされ
たものであり、本発明のガラスレンズ成形型用洗
浄液は、酸性フツ化アンモン飽和水溶液を必須成
分とし、更に場合により濃硝酸及び／又は水をも
必須成分とする液であつて、酸性フツ化アンモン
飽和水溶液／（酸性フツ化アンモン飽和水溶液＋
濃硝酸）の比率が50容量％以上で、かつ（酸性フ
ツ化アンモン飽和水溶液＋濃硝酸）／（酸性フツ
化アンモン飽和水溶液＋濃硝酸＋水）の比率が10
容量％以上であることを特徴とする。 ここに、酸性フツ化アンモン飽和水溶液とは、
水１中に酸性フツ化アンモンを室温にて670g
溶解した液のことである（飽和水溶液を得るため
の酸性フツ化アンモンの溶解量は温度によつて変
動する）。また濃硝酸とはHNO3を63重量％含む、
比重1.38の水溶液のことであり、市販濃硝酸に相
当する。これらの主成分の他に、硫酸、塩酸、酢
酸、フツ酸等を添加してもよいが、フツ酸は皮膚
に付着すると危険であることから使用しないこと
が好ましい。 本発明の洗浄液を用いれば、成形型に付着した
ガラス屑をガラスの種類を問わずに容易に溶解除
去することができる。又、SF系光学ガラスは
PbOを多量に含むために、成形時に還元粒子が型
に付着、堆積しやすいが、これも容易に除去でき
る。本発明の洗浄液で洗浄される成形型の材質と
しては炭化ケイ素、炭化ケイ素と炭素の混合物、
窒化ケイ素、ホウ化チタン、貴金属（白金、ロジ
ウム、金等）、炭化タングステン、ステンレスス
チール及びその他の多くの材質が挙げられる。材
質によつて、洗浄液中の成分の混合比を任意にか
えることができるが、酸性フツ化アンモン飽和水
溶液／（酸性フツ化アンモン飽和水溶液＋濃硝
酸）の比率が50容量％未満になるとコバルトをバ
ンイダーとしている炭化タングステン焼結体やス
テンレススチールの場合は腐食されやすくなるの
で好ましくない。 また（酸性フツ化アンモン飽和水溶液＋濃硝
酸）／（酸性フツ化アンモン飽和水溶液＋濃硝酸
＋水）の比率が10容量％未満であると、プレスに
よつて型に付着したガラス屑の除去に時間を要す
るので好ましくない。 本発明の洗浄液を、成形型のガラス屑等が付着
した部分につけてしばらく放置することにより、
型を侵すことなく、ガラス屑等を除去でき、しか
る後にアセトンで拭いて成形型を再び使用するこ
とができる。又、洗浄液中に成形型を浸漬して、
超音波洗浄し、しかる後にシミ等が残らないよう
に、光学レンズの洗浄に通常用いられる超音波自
動洗浄工程を通せばさらによい。 ［実施例］ 以下、実施例により本発明を更に説明するが、
本発明は下記実施例に限定されるものではない。 本発明の洗浄液として、第１表にNo.１〜10の10
種類の洗浄液を示すが、これらの洗浄液は下記の
ようにして調製した。 即ち、一定量の蒸留水中に酸性フツ化アンモン
を室温にて少量ずつ攪拌しながら投入し、酸性フ
ツ化アンモン飽和水溶液（水１に対する酸性フ
ツ化アンモンの溶解量670g）を調製し、これを
そのまま本発明のNo.３の洗浄液とした。 また本発明のNo.１，２及び４〜10の洗浄液は、
上で得られた酸性フツ化アンモン飽和水溶液に濃
硝酸（JIS特級63重量％液、比重1.38）及び／又
は蒸留水を所定の容量比で加え、攪拌することに
より調製した。なお比較のためNo.11として濃硝酸
を用意した。 これらの洗浄液を用いて、まず、予備テストと
して、ガラスの溶解速度を調べ、又、型材の肌荒
れテストを行なつた。鉛を多量に含む光学ガラス
であるSF6の研磨球（直径4.4mm、重さ230mg）を
各洗浄液に浸漬し、浸漬時間と重量減の関係を調
べた結果の１例を第１図に示す。通常、プレス成
形で成形型に付着するガラス屑は数μm程度の微
小のものであり、１mg以下であることから、これ
らの洗浄液で付着ガラスを十分に溶解除去でき
る。 一方、型材の肌荒れを調べるために、炭化ケイ
素焼結体の上にCVD法で炭化ケイ素をコーテイ
ングしたもの及びバインダーが主にコバルトであ
る炭化タングステン焼結体の直径17mm、厚さ３mm
の平面円板を表面粗さ150Å以下に鏡面研磨し、
これらを室温で各洗浄液に２時間浸漬し、前後の
表面粗さの測定と顕微鏡観察を行なつた。その結
果、CVD法で炭化ケイ素をコーテイングした型
では、No.１〜10のいずれの洗浄液を用いても、型
は全く変化しなかつた。炭化タングステン焼結体
の場合は、No.１〜８の洗浄液を用いると型は全く
変化せず、No.９及びNo.10の洗浄液を用いると表面
粗さが10Å程度悪化したが、実用上問題ない範囲
であつた。これに対して比較のためのNo.11の液で
は肌荒れが顕著であつた。これは、バンダーのコ
バルトが硝酸によつて腐食されるためと考えられ
る。 次に前記のSF6研磨球を、前記の鏡面仕上げ面
を有する成形型内に納め、N2雰囲気中で、500℃
に昇温しプレス成形したのち室温まで冷却し、成
形体を成形型から取り出し、再び新たなガラスを
成形型内に納め、同様の手順で20回プレス成形を
行なつた。しかる後に型表面を観察したところ、
CVD法で炭化ケイ素をコーテイングしたものも、
炭化タングステン焼結体の場合もガラス屑の付着
が顕微鏡で認められ、かつ、PbOの還元により鉛
成分の付着が求められた。この型をNo.１〜10の各
洗浄液中に５分間浸漬し、しかる後に光学レンズ
の洗浄の際に通常用いられている超音波自動洗浄
工程（水→界面活性剤液→水→イソプロピルアル
コール→フロン乾燥）を通して、光学顕微鏡で観
察したところ、残存付着異物は全く認められず、
元の鏡面状態を保つていた。No.１〜10の各洗浄液
に対して、同様のテストを行なつたが、すべてに
対して同様の結果が得られた。又、成形面に洗浄
液を数滴滴下し、５分間の間に綿棒による擦り操
作を所定間隔で10回程度行なつた後、水拭きし、
アセトンで清拭しても同様な結果が得られた。 上記の実施例では酸性フツ化アンモン飽和水溶
液又は該酸性フツ化アンモン飽和水溶液と濃硝酸
及び／又は水との混合液を用いたが、これに、さ
らに硫酸、塩酸、酢酸、フツ酸等を添加してもよ
い。しかしながら、フツ酸は皮膚に付着した場
合、人体に悪影響を及ぼすので、その使用はでき
るだけ避けた方がよい。
【表】
［発明の効果］
以上のように、本発明の洗浄液は、酸性フツ化
アンモン水溶液又はこれと濃硝酸及び／又は水と
の混合液を、所定配合比率で用いることにより得
られるものであり、本発明の洗浄液をガラスレン
ズ成形型の洗浄に使用すると、ガラスレンズを直
接プレス成形法で製造する際の、成形面上の付着
物を、人体への危険を防止しつつ、容易に、素早
く取り除くことが可能となり、これによつて、表
面品質、表面形状の良好な超精密光学ガラスレン
ズを、安定して製造できるという顕著な利点があ
る。
アンモン水溶液又はこれと濃硝酸及び／又は水と
の混合液を、所定配合比率で用いることにより得
られるものであり、本発明の洗浄液をガラスレン
ズ成形型の洗浄に使用すると、ガラスレンズを直
接プレス成形法で製造する際の、成形面上の付着
物を、人体への危険を防止しつつ、容易に、素早
く取り除くことが可能となり、これによつて、表
面品質、表面形状の良好な超精密光学ガラスレン
ズを、安定して製造できるという顕著な利点があ
る。
第１図は、本発明の洗浄液中に、光学ガラス球
を浸漬した場合の浸漬時間と光学ガラス球の重量
減の関係を示すグラフである。
を浸漬した場合の浸漬時間と光学ガラス球の重量
減の関係を示すグラフである。
Claims (1)
- １ 酸性フツ化アンモン飽和水溶液を必須成分と
し、更に場合により濃硝酸及び／又は水をも必須
成分とする液であつて、酸性フツ化アンモン飽和
水溶液／（酸性フツ化アンモン飽和水溶液＋濃硝
酸）の比率が50容量％以上で、かつ（酸性フツ化
アンモン飽和水溶液＋濃硝酸）／（酸性フツ化ア
ンモン飽和水溶液＋濃硝酸＋水）の比率が10容量
％以上であることを特徴とするガラスレンズ成形
型用洗浄液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31178786A JPS63168497A (ja) | 1986-12-30 | 1986-12-30 | ガラスレンズ成形型用洗浄液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31178786A JPS63168497A (ja) | 1986-12-30 | 1986-12-30 | ガラスレンズ成形型用洗浄液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63168497A JPS63168497A (ja) | 1988-07-12 |
| JPH0480080B2 true JPH0480080B2 (ja) | 1992-12-17 |
Family
ID=18021458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31178786A Granted JPS63168497A (ja) | 1986-12-30 | 1986-12-30 | ガラスレンズ成形型用洗浄液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63168497A (ja) |
-
1986
- 1986-12-30 JP JP31178786A patent/JPS63168497A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63168497A (ja) | 1988-07-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5160043B2 (ja) | モールドプレス用ガラス素材、及びガラス光学素子の製造方法 | |
| US5639311A (en) | Method of cleaning brushes used in post CMP semiconductor wafer cleaning operations | |
| JPS596974A (ja) | 洗浄方法 | |
| Mellott et al. | Evaluation of surface preparation methods for glass | |
| KR100473705B1 (ko) | 샌드 블라스트 처리된 표면을 가지는 석영 유리 제품과상기 제품을 청정하는 방법 | |
| JPH0480080B2 (ja) | ||
| JPWO1998020987A1 (ja) | 洗浄用スポンジローラ | |
| CN110102537A (zh) | 一种高磨耗度低化学稳定性光学玻璃的清洗方法 | |
| JP2006089363A (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、それにより得られる磁気記録媒体用ガラス基板およびこの基板を用いて得られる磁気記録媒体 | |
| JPH08277127A (ja) | ガラス光学素子の製造方法 | |
| JPH01119534A (ja) | 光学ガラス素子のプレス成形用型の清浄方法 | |
| JPH0640729A (ja) | 光学素子成形用金型の再生方法 | |
| JP2636010B2 (ja) | 成形用ガラス素材およびその製造方法 | |
| JPS62207727A (ja) | ガラス物品の製造方法 | |
| JPH04164830A (ja) | 光学素子成形用の成形型及びその再生方法 | |
| JPH01119533A (ja) | 光学ガラス素子のプレス成形用型の清浄方法 | |
| JPH01234336A (ja) | プレス成形用型プレス面の清浄化方法 | |
| JPH01215730A (ja) | ガラスモールド用型の洗浄方法 | |
| CN118032453A (zh) | 一种冷轧深冲钢微观组织观察制样方法 | |
| JPH06345461A (ja) | 高精度プレス成形用ガラス素材とその成形法及び成形された光学製品 | |
| JPH0653577B2 (ja) | 光学素子成形用の成形型の再生方法 | |
| JPH0817777A (ja) | シリコンウェーハの洗浄方法 | |
| JPH0710561A (ja) | 光学素子成形用型 | |
| JPS6087029A (ja) | 光学部品の製造方法 | |
| JP2011037656A (ja) | 光学素子製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |