JPH0482016A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH0482016A JPH0482016A JP19506190A JP19506190A JPH0482016A JP H0482016 A JPH0482016 A JP H0482016A JP 19506190 A JP19506190 A JP 19506190A JP 19506190 A JP19506190 A JP 19506190A JP H0482016 A JPH0482016 A JP H0482016A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は磁気記録媒体の製造方法に関し、さらに詳しく
は、ハード磁気ディスク用の長手磁気記録媒体の製造方
法に関するものである。
は、ハード磁気ディスク用の長手磁気記録媒体の製造方
法に関するものである。
［従来の技術］
ハード磁気ディスク用の高記録密度媒体として、塗布媒
体に代わってスパッタ法による薄膜媒体が現在主流とな
ってきている。高記録密度を実現するため、この薄膜媒
体は高出力、高記録密度特性等が要求されている。これ
らの特性を向上させるには、その媒体の磁気特性として
保磁力（ＨＣ）、角形比（Ｓ）、ざらには保磁力角形比
（Ｓ ）が大きい必要がある。
体に代わってスパッタ法による薄膜媒体が現在主流とな
ってきている。高記録密度を実現するため、この薄膜媒
体は高出力、高記録密度特性等が要求されている。これ
らの特性を向上させるには、その媒体の磁気特性として
保磁力（ＨＣ）、角形比（Ｓ）、ざらには保磁力角形比
（Ｓ ）が大きい必要がある。
そこで、上記特性を得るため、基板としてディスク円周
方向にテクスチャ溝をつけたＮ ｉ Ｐ／八へ基板など
を使用し、純Ａ「ガスを用いてスパッタ法により基板上
に下地膜としてＣｒ膜、磁性膜としてＣ０ＮｉＣｒ膜ま
たはＣｏＣｒＴａ膜を形成し、媒体を作製する方法が提
案されている（電子情報通信学会技術研究報告、ＣＰＭ
８Ｂ−９１およびＣＰＭ８Ｂ−９２，１９８８年）。
方向にテクスチャ溝をつけたＮ ｉ Ｐ／八へ基板など
を使用し、純Ａ「ガスを用いてスパッタ法により基板上
に下地膜としてＣｒ膜、磁性膜としてＣ０ＮｉＣｒ膜ま
たはＣｏＣｒＴａ膜を形成し、媒体を作製する方法が提
案されている（電子情報通信学会技術研究報告、ＣＰＭ
８Ｂ−９１およびＣＰＭ８Ｂ−９２，１９８８年）。
［発明が解決しようとする課題］
上記の従来のスパッタ法による薄膜媒体作製技術におい
ても媒体の保磁力、角形比および保磁力角形比は良好な
レベルにあるが、更に超高記録密度の実現のためにそれ
らを改善する必要がある。
ても媒体の保磁力、角形比および保磁力角形比は良好な
レベルにあるが、更に超高記録密度の実現のためにそれ
らを改善する必要がある。
本発明の目的は、更に超高記録密度実現のため、特に保
磁力を改善した磁気記録媒体の製造方法を提供すること
にある。
磁力を改善した磁気記録媒体の製造方法を提供すること
にある。
［ｌｌ１題を解決するための手段］
本発明は、基板上にスパッタ法によりＣｒの下地膜とＣ
ｏＣｒＴａまたはＣｏＮ ｉ Ｃｒ（７）磁性膜を順次
形成する磁気記録媒体の製造方法において、下地膜はＡ
ｒガスと酸素ガスからなる混合ガスを雰囲気として形成
し、磁性膜はＡｒガスを雰囲気として形成することを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
ｏＣｒＴａまたはＣｏＮ ｉ Ｃｒ（７）磁性膜を順次
形成する磁気記録媒体の製造方法において、下地膜はＡ
ｒガスと酸素ガスからなる混合ガスを雰囲気として形成
し、磁性膜はＡｒガスを雰囲気として形成することを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
［作用］
本発明では、基板上にスパッタ法によりＣｒの下地膜と
ＣｏＣｒＴａまたはＣＯＮ ｉ Ｃｒの磁性膜が形成さ
れた磁気記録媒体を作製する際に、下地膜はＡｒガスと
酸素ガスからなる混合ガスを雰囲気として形成し、磁性
膜はＡｒガスを雰囲気として形成することにより磁気特
性を改善できる。
ＣｏＣｒＴａまたはＣＯＮ ｉ Ｃｒの磁性膜が形成さ
れた磁気記録媒体を作製する際に、下地膜はＡｒガスと
酸素ガスからなる混合ガスを雰囲気として形成し、磁性
膜はＡｒガスを雰囲気として形成することにより磁気特
性を改善できる。
即ち、本発明の製造方法によれば、下地膜成膜時に従来
のＡｒガス以外の酸素ガスが存在することにより下地膜
の膜質および膜構造か変化し、このことが次に成膜する
磁性膜の膜質、膜構造にも影響を与え、その結果、磁気
特性が改善される。
のＡｒガス以外の酸素ガスが存在することにより下地膜
の膜質および膜構造か変化し、このことが次に成膜する
磁性膜の膜質、膜構造にも影響を与え、その結果、磁気
特性が改善される。
［実施例］
以下に、本発明の実施例について説明する。
実施例１
本実施例では、磁性膜がＣｏＣｒＴａ膜の場合について
説明する。本実施例に用いたスパッタ装置はＲＦマグネ
トロン方式のものである。ターゲットは下地膜用として
３Ｎの純度を有するＣｒタゲット、磁性膜用としてＣｏ
ＣｒＴａ （１２ａｔ％Ｃｒ：、２ａｔ％Ｔａ）合金タ
ーゲットをそれぞれ用いた。また、基板は平滑な（Ｒｍ
ａｘ−２０人〉ガラス基板を用いた。
説明する。本実施例に用いたスパッタ装置はＲＦマグネ
トロン方式のものである。ターゲットは下地膜用として
３Ｎの純度を有するＣｒタゲット、磁性膜用としてＣｏ
ＣｒＴａ （１２ａｔ％Ｃｒ：、２ａｔ％Ｔａ）合金タ
ーゲットをそれぞれ用いた。また、基板は平滑な（Ｒｍ
ａｘ−２０人〉ガラス基板を用いた。
まず、本発明の実施例１によるスパッタ条件を第１表に
示す。また、比較のために、従来と同様にＣｒ下地膜成
膜時にも純Ａｒガスで作製した媒体を比較例１とする。
示す。また、比較のために、従来と同様にＣｒ下地膜成
膜時にも純Ａｒガスで作製した媒体を比較例１とする。
これら２種類について、その磁気特性を試料振動型磁化
測定器（ＶＳＭ）により測定した。その結果を第２表に
示す。これから、本発明の媒体は従来より、磁気特性で
、特に保磁力が改善されていることがわかる。
測定器（ＶＳＭ）により測定した。その結果を第２表に
示す。これから、本発明の媒体は従来より、磁気特性で
、特に保磁力が改善されていることがわかる。
第１表
第２表
実施例２
次に、磁性膜がＣｏＮ ｉ Ｃｒ膜の場合について説明
する。ここで磁性膜としてＣＯＮ ｉ Ｃｒ（２０ａｔ
％Ｎ ｉ 、１０ａｔ％ｃｒ＞合金ターゲットを用いた
以外、下地膜のターゲットおよび基板は実施例１と同様
である。また、スパッタ条件も第３表に示したように、
ＣｏＮｉＣｒ以外、実施例１と同様である。また、比較
のために、従来と同様にＱｒ下地膜の成膜時にも純Ａｒ
ガスを用いて作製した媒体を比較例２とする。
する。ここで磁性膜としてＣＯＮ ｉ Ｃｒ（２０ａｔ
％Ｎ ｉ 、１０ａｔ％ｃｒ＞合金ターゲットを用いた
以外、下地膜のターゲットおよび基板は実施例１と同様
である。また、スパッタ条件も第３表に示したように、
ＣｏＮｉＣｒ以外、実施例１と同様である。また、比較
のために、従来と同様にＱｒ下地膜の成膜時にも純Ａｒ
ガスを用いて作製した媒体を比較例２とする。
これら２種類についてＶＳＭによる磁気特性の測定結果
を第４表に示す。これから、本実施例の媒体も実施例１
と同様に、従来より磁気特性で特に保磁力が改善されて
いることかわかる。
を第４表に示す。これから、本実施例の媒体も実施例１
と同様に、従来より磁気特性で特に保磁力が改善されて
いることかわかる。
（基板、Ｃｒ”ｌの逆スパッタ有り）
第３表
（基板。
Ｃｒ膜の逆スパッタ有り）
第４表
［発明の効果］
以上説明したように、本発明の製造方法により作製した
磁気記録媒体は、Ｃｒ下地膜成膜時にＡｒガスと酸素ガ
スとの混合ガスを用いることにより、従来より磁気特性
で特に保磁力が改善され、従来に比べて再生出力、記録
密度等が更に改善された。
磁気記録媒体は、Ｃｒ下地膜成膜時にＡｒガスと酸素ガ
スとの混合ガスを用いることにより、従来より磁気特性
で特に保磁力が改善され、従来に比べて再生出力、記録
密度等が更に改善された。
Claims (1)
- （１）基板上にスパッタ法によりＣｒの下地膜とＣｏＣ
ｒＴａまたはＣｏＮｉＣｒの磁性膜を順次形成する磁気
記録媒体の製造方法において、下地膜はＡｒガスと酸素
ガスからなる混合ガスを雰囲気として形成し、磁性膜は
Ａｒガスを雰囲気として形成することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19506190A JPH0482016A (ja) | 1990-07-25 | 1990-07-25 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19506190A JPH0482016A (ja) | 1990-07-25 | 1990-07-25 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0482016A true JPH0482016A (ja) | 1992-03-16 |
Family
ID=16334909
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19506190A Pending JPH0482016A (ja) | 1990-07-25 | 1990-07-25 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0482016A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0260388A (ja) * | 1988-08-26 | 1990-02-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 静止画伝送装置 |
| JPH0536054A (ja) * | 1991-07-31 | 1993-02-12 | Nec Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| GB2285269A (en) * | 1993-12-20 | 1995-07-05 | Leybold Materials Gmbh | Target for magnetron cathode sputtering system conisting of a cobalt-base alloy |
| US5590047A (en) * | 1993-08-05 | 1996-12-31 | Clarion Co., Ltd. | Information processing apparatus |
-
1990
- 1990-07-25 JP JP19506190A patent/JPH0482016A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0260388A (ja) * | 1988-08-26 | 1990-02-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 静止画伝送装置 |
| JPH0536054A (ja) * | 1991-07-31 | 1993-02-12 | Nec Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| US5590047A (en) * | 1993-08-05 | 1996-12-31 | Clarion Co., Ltd. | Information processing apparatus |
| GB2285269A (en) * | 1993-12-20 | 1995-07-05 | Leybold Materials Gmbh | Target for magnetron cathode sputtering system conisting of a cobalt-base alloy |
| GB2285269B (en) * | 1993-12-20 | 1997-06-11 | Leybold Materials Gmbh | Target for magnetron cathode sputtering system consisting of a cobalt-base alloy |
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