JPH06203379A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH06203379A JPH06203379A JP36011792A JP36011792A JPH06203379A JP H06203379 A JPH06203379 A JP H06203379A JP 36011792 A JP36011792 A JP 36011792A JP 36011792 A JP36011792 A JP 36011792A JP H06203379 A JPH06203379 A JP H06203379A
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- Japan
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- magnetic
- magnetic recording
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Abstract
(57)【要約】
【構成】プラスチック基板上に、Ａｒガス圧０．５Ｐａ
以下で下地膜をスパッタし、Ａｒガス圧０．５Ｐａ以上
で磁性薄膜をスパッタして磁気記録媒体を製造する。な
お、スパッタ装置内は２×１０-4Ｐａなる真空度として
からＡｒガスを導入することが好ましい。下地膜はＣｒ
又はＭｏよりなり、磁性薄膜はＣｏＰｔ，ＣｏＰｔＣ
ｒ，ＣｏＰｔＣｒＴａ，ＣｏＰｔＰｄから選ばれる１種
よりなるものが好ましい。 【効果】プラスチック基板を用いても、クラックを発生
することなく、磁気特性が劣化することもない磁気記録
媒体とすることができ、コストが低減できる。
以下で下地膜をスパッタし、Ａｒガス圧０．５Ｐａ以上
で磁性薄膜をスパッタして磁気記録媒体を製造する。な
お、スパッタ装置内は２×１０-4Ｐａなる真空度として
からＡｒガスを導入することが好ましい。下地膜はＣｒ
又はＭｏよりなり、磁性薄膜はＣｏＰｔ，ＣｏＰｔＣ
ｒ，ＣｏＰｔＣｒＴａ，ＣｏＰｔＰｄから選ばれる１種
よりなるものが好ましい。 【効果】プラスチック基板を用いても、クラックを発生
することなく、磁気特性が劣化することもない磁気記録
媒体とすることができ、コストが低減できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体特に面内
方向記録を行うハードディスクに適用して好適な合金系
磁性層を有する磁気記録媒体のうち、特にプラスチック
基板を用いる磁気記録媒体の製造方法に係わる。
方向記録を行うハードディスクに適用して好適な合金系
磁性層を有する磁気記録媒体のうち、特にプラスチック
基板を用いる磁気記録媒体の製造方法に係わる。
【０００２】
【従来の技術】従来よりハードディスク用磁気記録媒体
として、ＣｏＣｒＴａやＣｏＮｉＣｒ等のＣｏ合金薄膜
を磁性層に用いたものが製造されているが、高出力・低
ノイズ化のためにＣｒ膜下地を設けたり、さらなる磁気
特性の向上・高耐久性のためにＣｏＰｔ系磁性薄膜を磁
性層に用いたり、と種々の研究がなされている。
として、ＣｏＣｒＴａやＣｏＮｉＣｒ等のＣｏ合金薄膜
を磁性層に用いたものが製造されているが、高出力・低
ノイズ化のためにＣｒ膜下地を設けたり、さらなる磁気
特性の向上・高耐久性のためにＣｏＰｔ系磁性薄膜を磁
性層に用いたり、と種々の研究がなされている。
【０００３】上記ＣｏＰｔ系薄膜においては低温成膜
（無基板加熱）が可能であること、大きな出力が得られ
ること等の利点があるが、Ｐｔが高価で磁気記録媒体の
コストが高くなってしまう等の問題もある。
（無基板加熱）が可能であること、大きな出力が得られ
ること等の利点があるが、Ｐｔが高価で磁気記録媒体の
コストが高くなってしまう等の問題もある。
【０００４】そこで、上述した低温成膜が可能となった
ことを受けて、磁気記録媒体の基板として従来のＡｌや
ガラス以外に安価なプラスチックを用いることが検討さ
れ始めている。
ことを受けて、磁気記録媒体の基板として従来のＡｌや
ガラス以外に安価なプラスチックを用いることが検討さ
れ始めている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、プラスチック
基板を用いて従来通りに磁性層を成膜すると作成された
磁気記録媒体の磁気特性が劣化したり、クラックを生じ
たりといった問題がある。これを解消するために、磁性
層を成膜する前にプラスチック基板上にＳｉＯ2等を予
めコーティングしておく等の方法もあるが、これでは基
板のコストが高くなり、プラスチック基板を用いるメリ
ットがなくなってしまう。
基板を用いて従来通りに磁性層を成膜すると作成された
磁気記録媒体の磁気特性が劣化したり、クラックを生じ
たりといった問題がある。これを解消するために、磁性
層を成膜する前にプラスチック基板上にＳｉＯ2等を予
めコーティングしておく等の方法もあるが、これでは基
板のコストが高くなり、プラスチック基板を用いるメリ
ットがなくなってしまう。
【０００６】そこで本発明は、かかる実情に鑑みて提案
されたものであり、基板にプラスチックを用い、低いコ
ストでも優れた特性を持つ磁気記録媒体を製造する方法
を提供することを目的とする。
されたものであり、基板にプラスチックを用い、低いコ
ストでも優れた特性を持つ磁気記録媒体を製造する方法
を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述の目的を
達成するために提案されたものである。即ち、本発明
は、基板上に下地膜を形成する工程と、磁性薄膜を形成
する工程とを有する磁気記録媒体の製造方法において、
上記下地膜はＡｒガス圧０．５Ｐａ以下で蒸着し、上記
磁性薄膜はＡｒガス圧０．５Ｐａ以下で蒸着することを
特徴とするものである。
達成するために提案されたものである。即ち、本発明
は、基板上に下地膜を形成する工程と、磁性薄膜を形成
する工程とを有する磁気記録媒体の製造方法において、
上記下地膜はＡｒガス圧０．５Ｐａ以下で蒸着し、上記
磁性薄膜はＡｒガス圧０．５Ｐａ以下で蒸着することを
特徴とするものである。
【０００８】上述のように下地層と磁性薄膜を成膜する
際の蒸着条件を適正化することによって、プラスチック
基板を用いてもクラックを発生させることなく、磁気特
性を劣化させることもなく磁気記録媒体を製造できる。
際の蒸着条件を適正化することによって、プラスチック
基板を用いてもクラックを発生させることなく、磁気特
性を劣化させることもなく磁気記録媒体を製造できる。
【０００９】上記下地層の材料は任意であるが、特にＣ
ｒ及びＭｏから選ばれる少なくとも１種からなることが
好ましい。例えば、Ｃｒ膜，Ｍｏ膜，ＣｒとＭｏとの合
金膜であってもよい。膜厚は２０〜２００ｎｍであるこ
とが好ましい。薄すぎると下地層を設けることによる効
果が不足し、厚すぎると下地層の成膜に要する時間が長
くなり生産性が低下する他、クラックも発生しやすくな
るからである。
ｒ及びＭｏから選ばれる少なくとも１種からなることが
好ましい。例えば、Ｃｒ膜，Ｍｏ膜，ＣｒとＭｏとの合
金膜であってもよい。膜厚は２０〜２００ｎｍであるこ
とが好ましい。薄すぎると下地層を設けることによる効
果が不足し、厚すぎると下地層の成膜に要する時間が長
くなり生産性が低下する他、クラックも発生しやすくな
るからである。
【００１０】また、磁性薄膜も任意であるが、成膜温度
等を考慮するとＣｏＰｔ，ＣｏＰｔＣｒ，ＣｏＰｔＣｒ
Ｔａ及びＣｏＰｔＰｄから選ばれる少なくとも１種から
なることが好ましい。上記の磁性薄膜は低温成膜が可能
であるため、プラスチック基板を用いた磁気記録媒体を
製造することが可能である。
等を考慮するとＣｏＰｔ，ＣｏＰｔＣｒ，ＣｏＰｔＣｒ
Ｔａ及びＣｏＰｔＰｄから選ばれる少なくとも１種から
なることが好ましい。上記の磁性薄膜は低温成膜が可能
であるため、プラスチック基板を用いた磁気記録媒体を
製造することが可能である。
【００１１】なお、上記合金の組成は、Ｐｔの含有量が
あまり高いとコストが高くなり、低すぎると良好な磁気
特性が得られないため、両者を勘案し適正な値に調整す
る必要がある。
あまり高いとコストが高くなり、低すぎると良好な磁気
特性が得られないため、両者を勘案し適正な値に調整す
る必要がある。
【００１２】上述の下地膜或いは磁性薄膜を蒸着形成す
るに際しては、蒸着装置の内部圧を２×１０-4Ｐａ以下
としてからＡｒガスを導入することが好ましい。上記範
囲を越えると、作成された磁気記録媒体の保磁力Ｈｃが
十分なものではなくなってしまう。
るに際しては、蒸着装置の内部圧を２×１０-4Ｐａ以下
としてからＡｒガスを導入することが好ましい。上記範
囲を越えると、作成された磁気記録媒体の保磁力Ｈｃが
十分なものではなくなってしまう。
【００１３】
【作用】磁性薄膜上に観測されるクラックは、形成され
た膜から受ける引っ張り応力のためにプラスチック基板
自体の表面でクラックを生じているために起こるもので
ある。プラスチック基板に対して下地層と磁性薄膜を成
膜するとき、先ず低いＡｒガス圧で下地膜を形成してか
ら、それより高いＡｒガス圧で磁性薄膜を形成すると前
記応力が緩和され、プラスチック基板や磁性薄膜におけ
るクラックの発生が解消される。
た膜から受ける引っ張り応力のためにプラスチック基板
自体の表面でクラックを生じているために起こるもので
ある。プラスチック基板に対して下地層と磁性薄膜を成
膜するとき、先ず低いＡｒガス圧で下地膜を形成してか
ら、それより高いＡｒガス圧で磁性薄膜を形成すると前
記応力が緩和され、プラスチック基板や磁性薄膜におけ
るクラックの発生が解消される。
【００１４】また、特にプラスチック基板にＣｒ及びＭ
ｏからなる下地層とＣｏＰｔ系の磁性薄膜を形成すれば
特別な前処理等を施す必要もなく、従来のハードディス
ク用磁気記録媒体と同様の工程で製造することが可能で
ある。
ｏからなる下地層とＣｏＰｔ系の磁性薄膜を形成すれば
特別な前処理等を施す必要もなく、従来のハードディス
ク用磁気記録媒体と同様の工程で製造することが可能で
ある。
【００１５】
【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて、実験結果に基づき詳細に説明する。本実施例にお
いては、プラスチック基板にＣｒ又はＭｏからなる下地
膜と、ＣｏＰｔ，ＣｏＰｔＣｒ，ＣｏＰｔＣｒＴａ及び
ＣｏＰｔＰｄから選ばれる少なくとも１種からなる磁性
薄膜をスパッタにより形成して磁気記録媒体を作成する
こととする。
いて、実験結果に基づき詳細に説明する。本実施例にお
いては、プラスチック基板にＣｒ又はＭｏからなる下地
膜と、ＣｏＰｔ，ＣｏＰｔＣｒ，ＣｏＰｔＣｒＴａ及び
ＣｏＰｔＰｄから選ばれる少なくとも１種からなる磁性
薄膜をスパッタにより形成して磁気記録媒体を作成する
こととする。
【００１６】先ず、プラスチック基板上にＣｒ又はＭｏ
からなる下地膜をスパッタにより形成した。このとき、
Ａｒガス圧や膜厚を種々変化させることによって、形成
された膜の表面状態がどのように変化するか観察した。
Ａｒガス圧、下地膜の材料、膜厚を表１に示したような
値に設定してａ〜ｈのサンプルを作成し、クラックの有
無を調べた。結果を表１に併せて示す。
からなる下地膜をスパッタにより形成した。このとき、
Ａｒガス圧や膜厚を種々変化させることによって、形成
された膜の表面状態がどのように変化するか観察した。
Ａｒガス圧、下地膜の材料、膜厚を表１に示したような
値に設定してａ〜ｈのサンプルを作成し、クラックの有
無を調べた。結果を表１に併せて示す。
【００１７】
【表１】
【００１８】表１より、ガス圧が高いほど、また膜厚が
厚いほどクラックを生じやすいことがわかる。つまり、
プラスチック基板を用いてハードディスク用磁気記録媒
体を作成する場合、下地膜のスパッタ条件としてＡｒガ
ス圧を０．６Ｐａ以下に、さらに膜厚が厚い場合はそれ
以下にする必要がある。
厚いほどクラックを生じやすいことがわかる。つまり、
プラスチック基板を用いてハードディスク用磁気記録媒
体を作成する場合、下地膜のスパッタ条件としてＡｒガ
ス圧を０．６Ｐａ以下に、さらに膜厚が厚い場合はそれ
以下にする必要がある。
【００１９】次に、プラスチック基板に下地膜を成膜さ
せる際のＡｒガス圧と磁性薄膜を成膜する際のＡｒガス
圧とを種々に変化させてスパッタを行い磁気記録媒体を
作成した。なお、下地膜はＣｒ又はＭｏを、磁性薄膜は
ＣｏＰｔをスパッタして得たものである。
せる際のＡｒガス圧と磁性薄膜を成膜する際のＡｒガス
圧とを種々に変化させてスパッタを行い磁気記録媒体を
作成した。なお、下地膜はＣｒ又はＭｏを、磁性薄膜は
ＣｏＰｔをスパッタして得たものである。
【００２０】作成されたサンプルについてクラックの有
無と磁気特性とを調べた。磁気特性が良好でクラックも
無いものは■、クラックはないが磁気特性が不良のもの
は●、クラックが発生しているものは▲として、それぞ
れの結果を図１に各サンプルが作成されたＡｒガス圧の
点にプロットすることによって示す。
無と磁気特性とを調べた。磁気特性が良好でクラックも
無いものは■、クラックはないが磁気特性が不良のもの
は●、クラックが発生しているものは▲として、それぞ
れの結果を図１に各サンプルが作成されたＡｒガス圧の
点にプロットすることによって示す。
【００２１】これより、図中斜線部で示したサンプル、
即ち、磁性薄膜形成時のＡｒガス圧が０．５Ｐａ以上で
あり、下地膜形成時野Ａｒガス圧が０．５Ｐａ以下とし
て作成されたサンプルは、優れた磁気特性を有しクラッ
クも発生していないことがわかった。
即ち、磁性薄膜形成時のＡｒガス圧が０．５Ｐａ以上で
あり、下地膜形成時野Ａｒガス圧が０．５Ｐａ以下とし
て作成されたサンプルは、優れた磁気特性を有しクラッ
クも発生していないことがわかった。
【００２２】ここで、本発明の条件で作成したサンプル
と、そうでないサンプルについて、走査電子顕微鏡で観
察することにした。本発明の方法で作成した実施例１の
サンプルは、蒸着装置内を真空度１×１０-4Ｐａとして
からＡｒガスを導入し、プラスチック基板に０．４Ｐａ
のＡｒガス圧でＣｒからなる下地膜を成膜し、１Ｐａの
Ａｒガス圧でＣｏＰｔからなる磁性薄膜を成膜した。
と、そうでないサンプルについて、走査電子顕微鏡で観
察することにした。本発明の方法で作成した実施例１の
サンプルは、蒸着装置内を真空度１×１０-4Ｐａとして
からＡｒガスを導入し、プラスチック基板に０．４Ｐａ
のＡｒガス圧でＣｒからなる下地膜を成膜し、１Ｐａの
Ａｒガス圧でＣｏＰｔからなる磁性薄膜を成膜した。
【００２３】一方、プラスチック基板に１ＰａのＡｒガ
ス圧でＣｒからなる下地膜を成膜したものを比較例１の
サンプルとした。
ス圧でＣｒからなる下地膜を成膜したものを比較例１の
サンプルとした。
【００２４】比較例１のサンプルの表面を走査電子顕微
鏡で観察したものが図２、比較例１のサンプルに形成さ
れているＣｒ膜を化学エッチングにより取り除いた後の
プラスチック基板表面を同様に観察したものが図３であ
る。図３においても、図２と同様なクラックが観測でき
る。これより、膜表面に発生するクラックはプラスチッ
ク基板自体にクラックを生じることによって発生したも
のであるといえる。
鏡で観察したものが図２、比較例１のサンプルに形成さ
れているＣｒ膜を化学エッチングにより取り除いた後の
プラスチック基板表面を同様に観察したものが図３であ
る。図３においても、図２と同様なクラックが観測でき
る。これより、膜表面に発生するクラックはプラスチッ
ク基板自体にクラックを生じることによって発生したも
のであるといえる。
【００２５】一方、実施例１のサンプルの表面を同様に
観察したところ、このサンプルの表面は小さなクラック
すら発生していないことがわかった。
観察したところ、このサンプルの表面は小さなクラック
すら発生していないことがわかった。
【００２６】なお、実施例１のサンプルの磁気特性は保
磁力が２０７８Ｏｅ、残留磁束密度膜厚積が５１８Ｇμ
ｍであった。
磁力が２０７８Ｏｅ、残留磁束密度膜厚積が５１８Ｇμ
ｍであった。
【００２７】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の磁気記録媒体の製造方法によると、プラスチック基
板を用いてハードディスク用の磁気記録媒体を作成する
ことが可能となり、コストを低減することができる。し
かも、従来のＡｌやガラス基板を用いたものと同様の工
程で製造することができる。
明の磁気記録媒体の製造方法によると、プラスチック基
板を用いてハードディスク用の磁気記録媒体を作成する
ことが可能となり、コストを低減することができる。し
かも、従来のＡｌやガラス基板を用いたものと同様の工
程で製造することができる。
【図１】各サンプル作成されたＡｒガス圧と特性を示す
特性図である。
特性図である。
【図２】サンプル表面のクロム薄膜を示す走査電子顕微
鏡写真である。
鏡写真である。
【図３】プラスチック基板表面の粒子構造を示す走査電
子顕微鏡写真である。
子顕微鏡写真である。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年２月１５日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述の目的を
達成するために提案されたものである。即ち、本発明
は、基板上に下地膜を形成する工程と、磁性薄膜を形成
する工程とを有する磁気記録媒体の製造方法において、
上記下地膜はＡｒガス圧０．５Ｐａ以下で蒸着し、上記
磁性薄膜はＡｒガス圧０．５Ｐａ以上で蒸着することを
特徴とするものである。
達成するために提案されたものである。即ち、本発明
は、基板上に下地膜を形成する工程と、磁性薄膜を形成
する工程とを有する磁気記録媒体の製造方法において、
上記下地膜はＡｒガス圧０．５Ｐａ以下で蒸着し、上記
磁性薄膜はＡｒガス圧０．５Ｐａ以上で蒸着することを
特徴とするものである。
Claims (4)
- 【請求項１】 基板上に下地膜を形成する工程と、磁性
薄膜を形成する工程とを有する磁気記録媒体の製造方法
において、 上記下地膜はＡｒガス圧０．５Ｐａ以下で蒸着し、上記
磁性薄膜はＡｒガス圧０．５Ｐａ以下で蒸着することを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】 下地層がＣｒ及びＭｏから選ばれる少な
くとも１種からなることを特徴とする請求項１記載の磁
気記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】 磁性薄膜がＣｏＰｔ，ＣｏＰｔＣｒ，Ｃ
ｏＰｔＣｒＴａ及びＣｏＰｔＰｄから選ばれる少なくと
も１種であることを特徴とする請求項１又は２記載の磁
気記録媒体の製造方法。 - 【請求項４】 下地膜又は磁性薄膜を形成するに際し、
蒸着装置の内部圧を２×１０-4ＰａとしてからＡｒガス
を導入することを特徴とする請求項１，２又は３記載の
磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36011792A JPH06203379A (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36011792A JPH06203379A (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06203379A true JPH06203379A (ja) | 1994-07-22 |
Family
ID=18467979
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36011792A Withdrawn JPH06203379A (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06203379A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000038224A1 (en) * | 1998-12-22 | 2000-06-29 | Cvc Products, Inc. | Semiconductor chip interconnect barrier material and fabrication method |
-
1992
- 1992-12-28 JP JP36011792A patent/JPH06203379A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000038224A1 (en) * | 1998-12-22 | 2000-06-29 | Cvc Products, Inc. | Semiconductor chip interconnect barrier material and fabrication method |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000307 |