JPH048352Y2 - - Google Patents
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- JPH048352Y2 JPH048352Y2 JP2513486U JP2513486U JPH048352Y2 JP H048352 Y2 JPH048352 Y2 JP H048352Y2 JP 2513486 U JP2513486 U JP 2513486U JP 2513486 U JP2513486 U JP 2513486U JP H048352 Y2 JPH048352 Y2 JP H048352Y2
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- rotating mirror
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 26
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Machine Tool Sensing Apparatuses (AREA)
- Optical Radar Systems And Details Thereof (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、NC機器等の産業機械における作業
テーブル並びにその周辺の異物を検出するために
用いて好適な光学式異物検出装置に関するもので
ある。
テーブル並びにその周辺の異物を検出するために
用いて好適な光学式異物検出装置に関するもので
ある。
従来より、NC機器等の自動化装置の一部にお
いては、その作業テーブル上の異物を検出するた
めに、発光素子と受光素子とを作業テーブルを挾
んで複数個対向配置し、異物検出装置を構成して
いる。
いては、その作業テーブル上の異物を検出するた
めに、発光素子と受光素子とを作業テーブルを挾
んで複数個対向配置し、異物検出装置を構成して
いる。
しかしながら、このような異物検出装置による
と、隣接する一対の発光素子および受光素子の間
隔によつて異物検出性能が決まり、この異物検出
性能を高めようとすると、多数の発・受光素子を
細かい間隔で配置しなければならず、極めて高価
な検出装置となるものであつた。
と、隣接する一対の発光素子および受光素子の間
隔によつて異物検出性能が決まり、この異物検出
性能を高めようとすると、多数の発・受光素子を
細かい間隔で配置しなければならず、極めて高価
な検出装置となるものであつた。
本考案はこのような問題点に鑑みてなされたも
ので、ハーフミラーを透過して照射される光の反
射方向を回転ミラーを回転させながら可変すると
共に、被異物検出板面に隣接して、この板面上を
横断して照射される回転ミラーの反射光を回転ミ
ラーを経由してハーフミラーの鏡面に導く反射面
を断続的に配列し、ハーフミラーの鏡面に回転ミ
ラーの反射光が前記反射面を介して間接的に照射
される回数をカウントし、このカウント値に基づ
いて前記板面上の異物の検出を行うようにしたも
のである。
ので、ハーフミラーを透過して照射される光の反
射方向を回転ミラーを回転させながら可変すると
共に、被異物検出板面に隣接して、この板面上を
横断して照射される回転ミラーの反射光を回転ミ
ラーを経由してハーフミラーの鏡面に導く反射面
を断続的に配列し、ハーフミラーの鏡面に回転ミ
ラーの反射光が前記反射面を介して間接的に照射
される回数をカウントし、このカウント値に基づ
いて前記板面上の異物の検出を行うようにしたも
のである。
したがつてこの考案によれば、回転ミラーの反
射光がハーフミラーの鏡面に間接的に照射される
回数の大小によつて異物の検出が可能となる。
射光がハーフミラーの鏡面に間接的に照射される
回数の大小によつて異物の検出が可能となる。
以下、本考案に係る光学式異物検出装置を詳細
に説明する。第1図はこの光学式異物検出装置の
一実施例を示す構成図である。同図において、1
はNC機器等の産業機械における作業テーブル、
2は投光源、3は投光源2より出射される光を集
束する凸レンズ、4はレンズ3の集束する光(以
下、スポツトビームと呼ぶ)を透過するハーフミ
ラー、5はハーフミラー4を透過して照射される
スポツトビームを反射する回転ミラー、6はこの
回転ミラー5を回転しこのミラーにおいて反射す
るスポツトビームの反射方向を反時計方向に回転
するパルスモータ、7は作業テーブル1の直交す
る二片を包囲するように配置された反射板であ
る。反射板7は、所定間隙を隔てて断続的に配列
された部分ミラー7-1,7-2,…7-oよりなり、
この部分ミラー7-1〜7-oはプリズムあるいはガ
ラス玉を集めて構成されており、回転ミラー5に
て回転しながら反射するスポツトビームがθなる
範囲角においてこの反射板7に照射されるように
なつている。そして、反射板7に回転しながら照
射されるスポツトビームが部分ミラー7-1〜7-o
において反射し、回転ミラー5の鏡面を経由して
ハーフミラー4の鏡面に導かれて反射し、凸レン
ズ8を介して受光素子9において受光されるよう
になつている。そして、受光素子9にて受光され
る光が、この素子においてその光の強さに応じた
電圧値に変換され、後段の異物検出回路10に入
力されるようになつている。
に説明する。第1図はこの光学式異物検出装置の
一実施例を示す構成図である。同図において、1
はNC機器等の産業機械における作業テーブル、
2は投光源、3は投光源2より出射される光を集
束する凸レンズ、4はレンズ3の集束する光(以
下、スポツトビームと呼ぶ)を透過するハーフミ
ラー、5はハーフミラー4を透過して照射される
スポツトビームを反射する回転ミラー、6はこの
回転ミラー5を回転しこのミラーにおいて反射す
るスポツトビームの反射方向を反時計方向に回転
するパルスモータ、7は作業テーブル1の直交す
る二片を包囲するように配置された反射板であ
る。反射板7は、所定間隙を隔てて断続的に配列
された部分ミラー7-1,7-2,…7-oよりなり、
この部分ミラー7-1〜7-oはプリズムあるいはガ
ラス玉を集めて構成されており、回転ミラー5に
て回転しながら反射するスポツトビームがθなる
範囲角においてこの反射板7に照射されるように
なつている。そして、反射板7に回転しながら照
射されるスポツトビームが部分ミラー7-1〜7-o
において反射し、回転ミラー5の鏡面を経由して
ハーフミラー4の鏡面に導かれて反射し、凸レン
ズ8を介して受光素子9において受光されるよう
になつている。そして、受光素子9にて受光され
る光が、この素子においてその光の強さに応じた
電圧値に変換され、後段の異物検出回路10に入
力されるようになつている。
異物検出回路10は、コンパレータ11および
12、カウンタ13、第1のラツチ回路14、基
準カウント数設定器15、比較器16、第2のラ
ツチ回路17、デイレイ回路18および19によ
り構成されており、受光素子9を介して送出され
る電気信号がコンパレータ11および12の非反
転入力端に入力されるようになつている。そし
て、コンパレータ11および12の反転入力端に
は比較基準電圧V1およびV2(V1>V2)が設定さ
れており、コンパレータ1入力の出力が「H」レ
ベルより「L」レベルに立ち下がる時点でカウン
タ13におけるカウント値が1ずつアツプするよ
うになつている。そして、このカウンタ13にお
けるカウント値が、コンパレータ11の出力が
「H」レベルとなつた時点でラツチ回路14にて
ラツチされ、このラツチ回路14にてラツチされ
るカウント値Naと基準カウント数設定器15に
設定されるカウント値Nとが比較器16において
比較されるようになつている。しかして、比較器
16における比較結果が、コンパレータ11の出
力が「H」レベルとなつた以降デイレイ回路19
において所定時間が経過した後ラツチ回路17に
おいてラツチされ、ラツチ回路17はラツチした
その比較結果がNa<Nの時その出力より異物の
存在を知らせる異物検出信号を継続して送出する
ようになつている。尚、カウンタ13におけるカ
ウント値は、コンパレータ11の出力が「H」レ
ベルとなつた以降デイレイ回路18において所定
時間が経過した後リセツトされるようになつてお
り、デイレイ回路19における遅延時間は、比較
器16における比較動作時間よりも若干長めに設
定されている。
12、カウンタ13、第1のラツチ回路14、基
準カウント数設定器15、比較器16、第2のラ
ツチ回路17、デイレイ回路18および19によ
り構成されており、受光素子9を介して送出され
る電気信号がコンパレータ11および12の非反
転入力端に入力されるようになつている。そし
て、コンパレータ11および12の反転入力端に
は比較基準電圧V1およびV2(V1>V2)が設定さ
れており、コンパレータ1入力の出力が「H」レ
ベルより「L」レベルに立ち下がる時点でカウン
タ13におけるカウント値が1ずつアツプするよ
うになつている。そして、このカウンタ13にお
けるカウント値が、コンパレータ11の出力が
「H」レベルとなつた時点でラツチ回路14にて
ラツチされ、このラツチ回路14にてラツチされ
るカウント値Naと基準カウント数設定器15に
設定されるカウント値Nとが比較器16において
比較されるようになつている。しかして、比較器
16における比較結果が、コンパレータ11の出
力が「H」レベルとなつた以降デイレイ回路19
において所定時間が経過した後ラツチ回路17に
おいてラツチされ、ラツチ回路17はラツチした
その比較結果がNa<Nの時その出力より異物の
存在を知らせる異物検出信号を継続して送出する
ようになつている。尚、カウンタ13におけるカ
ウント値は、コンパレータ11の出力が「H」レ
ベルとなつた以降デイレイ回路18において所定
時間が経過した後リセツトされるようになつてお
り、デイレイ回路19における遅延時間は、比較
器16における比較動作時間よりも若干長めに設
定されている。
次に、このように構成された光学式異物検出装
置の動作を説明する。すなわち、投光源2の出射
する光はレンズ3によつて集束されてスポツトビ
ームとなり、ハーフミラー4を透過して回転ミラ
ー5に照射される。今、この回転ミラー5がパル
スモータ6により回転駆動されているものとする
と、回転ミラー5において反射するスポツトビー
ムはその反射方向を刻々と変えながら反時計方向
に回転する。第2図は、回転ミラー5の回転に伴
つて受光素子9にて受光される光の強さを示す波
形図である。すなわち、回転ミラー5の反射面が
入射されるスポツトビームに対して第3図aに示
すように略直角となつた時点で(以下、この位置
を原点位置と呼ぶ)、強い光が受光素子9にて受
光され(第2図のa点)、その後回転ミラー5の
回転に伴つて受光素子9に照射される光が一時途
絶える(第2図のb点)。そして、回転ミラー5
が第3図bに示すような位置まで回転した時、回
転ミラー5の反射するスポツトビームが反射面7
の部分ミラー7-1に照射され始め、この光が反射
して回転ミラー5およびハーフミラー4の鏡面を
経由して受光素子9にて受光されるようになる
(第2図のc点)。この時、受光素子9にて受光さ
れる光の強さは、回転ミラー5の反射するスポツ
トビームが部分ミラー7-1を経由して間接的に入
射されるので、回転ミラー5において直接反射し
受光される光(第3図a)よりも弱く、この光は
回転ミラー5がさらに回転しそのスポツトビーム
が第3図cに示すように部分ミラー7-1の終端ま
で移動した時点で一端消失する(第2図のd点)。
そして、回転ミラー5の継続する回転に伴つて、
今度はそのスポツトビームが第3図dに示すよう
に隣接する部分ミラー7-2に照射され始め、この
光が反射して再び回転ミラー5およびハーフミラ
ー4の鏡面を経由して受光素子9にて受光される
ようになる(第2図のe点)。以下同様にして、
回転ミラー5の反射するスポツトビームの回転移
動に伴いこの光が各部分ミラーにおいて断続的に
反射し、回転ミラー5およびハーフミラー4の鏡
面を経由して受光素子9にて受光されるようにな
る。しかして、回転ミラー5の反射するスポツト
ビームが部分ミラー7-oの終端面に達した時(第
3図e)、受光素子9にて受光される最後の弱い
光が消失し(第2図のf点)、引き続く回転ミラ
ー5の回転に伴つて次の原点位置で再び強い光が
受光素子9に入射されるようになる(第2図のg
点)。
置の動作を説明する。すなわち、投光源2の出射
する光はレンズ3によつて集束されてスポツトビ
ームとなり、ハーフミラー4を透過して回転ミラ
ー5に照射される。今、この回転ミラー5がパル
スモータ6により回転駆動されているものとする
と、回転ミラー5において反射するスポツトビー
ムはその反射方向を刻々と変えながら反時計方向
に回転する。第2図は、回転ミラー5の回転に伴
つて受光素子9にて受光される光の強さを示す波
形図である。すなわち、回転ミラー5の反射面が
入射されるスポツトビームに対して第3図aに示
すように略直角となつた時点で(以下、この位置
を原点位置と呼ぶ)、強い光が受光素子9にて受
光され(第2図のa点)、その後回転ミラー5の
回転に伴つて受光素子9に照射される光が一時途
絶える(第2図のb点)。そして、回転ミラー5
が第3図bに示すような位置まで回転した時、回
転ミラー5の反射するスポツトビームが反射面7
の部分ミラー7-1に照射され始め、この光が反射
して回転ミラー5およびハーフミラー4の鏡面を
経由して受光素子9にて受光されるようになる
(第2図のc点)。この時、受光素子9にて受光さ
れる光の強さは、回転ミラー5の反射するスポツ
トビームが部分ミラー7-1を経由して間接的に入
射されるので、回転ミラー5において直接反射し
受光される光(第3図a)よりも弱く、この光は
回転ミラー5がさらに回転しそのスポツトビーム
が第3図cに示すように部分ミラー7-1の終端ま
で移動した時点で一端消失する(第2図のd点)。
そして、回転ミラー5の継続する回転に伴つて、
今度はそのスポツトビームが第3図dに示すよう
に隣接する部分ミラー7-2に照射され始め、この
光が反射して再び回転ミラー5およびハーフミラ
ー4の鏡面を経由して受光素子9にて受光される
ようになる(第2図のe点)。以下同様にして、
回転ミラー5の反射するスポツトビームの回転移
動に伴いこの光が各部分ミラーにおいて断続的に
反射し、回転ミラー5およびハーフミラー4の鏡
面を経由して受光素子9にて受光されるようにな
る。しかして、回転ミラー5の反射するスポツト
ビームが部分ミラー7-oの終端面に達した時(第
3図e)、受光素子9にて受光される最後の弱い
光が消失し(第2図のf点)、引き続く回転ミラ
ー5の回転に伴つて次の原点位置で再び強い光が
受光素子9に入射されるようになる(第2図のg
点)。
つまり、回転ミラー5の回転に伴い受光素子9
を介して第2図と略同一波形の電圧信号が異物検
出回路10のコンパレータ11および12に入力
されるようになる。そして、コンパレータ11お
よび12は、前記原点位置において高いレベルの
電圧信号(以下、原点信号と呼ぶ)が入力された
時、共に「H」レベルの信号を送出し、低いレベ
ルの電圧信号が入力された時、「L」および「H」
レベルの信号を送出する。すなわち、コンパレー
タ11の反転入力端に設定される電圧V1は、第
2図のa点において入力される電圧値よりも低く
且つc点において入力される電圧値よりも高く設
定されており、コンパレータ12の反転入力端に
設定される電圧V2は第2図のc点において入力
される電圧値よりも低く設定されている。
を介して第2図と略同一波形の電圧信号が異物検
出回路10のコンパレータ11および12に入力
されるようになる。そして、コンパレータ11お
よび12は、前記原点位置において高いレベルの
電圧信号(以下、原点信号と呼ぶ)が入力された
時、共に「H」レベルの信号を送出し、低いレベ
ルの電圧信号が入力された時、「L」および「H」
レベルの信号を送出する。すなわち、コンパレー
タ11の反転入力端に設定される電圧V1は、第
2図のa点において入力される電圧値よりも低く
且つc点において入力される電圧値よりも高く設
定されており、コンパレータ12の反転入力端に
設定される電圧V2は第2図のc点において入力
される電圧値よりも低く設定されている。
今、受光素子9に第2図のa点において強い光
が受光されたとする。この時、コンパレータ11
および12の出力は「H」レベルとなり、デイレ
イ回路18において所定時間が経過した後、カウ
ンタ13におけるカウント値がリセツトされる。
すなわち、デイレイ回路18の遅延時間τは、第
2図のa点において強い光が受光された後c点に
おいて弱い光が受光されるまでの時間よりも短く
設定されており、以降カウンタ13はコンパレー
タ12より送出される「H」レベルの信号の立ち
下がり回数をカウントする。しかして、第2図の
g点において再びコンパレータ11の出力が
「H」レベルとなると、ラツチ回路14がカウン
タ13におけるカウント値をラツチし、このラツ
チされたカウント値Naと基準カウント数設定器
15に設定されたカウント値Nとが比較器16に
て比較される。この時ラツチ回路14においてラ
ツチされるカウント値Naは、第2図のa点から
g点に達するまでの間(原点位置の1サイクル
中)に受光素子9に入射される弱い光の断続回数
であり、回転ミラー5の反射するスポツトビーム
に何らかの異物が作用した場合には、この断続回
数が部分ミラー7-1〜7-oの個数よりも少なくな
る。すなわち、回転ミラー5の反射するスポツト
ビームに異物が作用すると、部分ミラー7-1〜7
−oのいずれかにそのスポツトビームが照射されな
くなり、回転ミラー5およびハーフミラー4の鏡
面を経由して受光素子9に導かれる弱い光の断続
回数が減少する。つまり、回転ミラー5の反射す
るスポツトビームに何の異物も作用しない場合に
は、受光素子9に導かれる弱い光の断続回数は部
分ミラー7-1〜7-oの個数に等しく、基準カウン
ト数設定器15に設定されるカウント値Nがこの
部分ミラー7-1〜7-oの個数に等しく設定されて
いる。したがつて、回転ミラー5の反射するスポ
ツトビームに何らかの異物が作用した場合には、
比較器16における比較結果がNa<Nとなり、
ラツチ回路17より異物検出信号が送出されるよ
うになり、この異物検出信号より作業テーブル1
上の異物の存在を認識することが可能となる。
が受光されたとする。この時、コンパレータ11
および12の出力は「H」レベルとなり、デイレ
イ回路18において所定時間が経過した後、カウ
ンタ13におけるカウント値がリセツトされる。
すなわち、デイレイ回路18の遅延時間τは、第
2図のa点において強い光が受光された後c点に
おいて弱い光が受光されるまでの時間よりも短く
設定されており、以降カウンタ13はコンパレー
タ12より送出される「H」レベルの信号の立ち
下がり回数をカウントする。しかして、第2図の
g点において再びコンパレータ11の出力が
「H」レベルとなると、ラツチ回路14がカウン
タ13におけるカウント値をラツチし、このラツ
チされたカウント値Naと基準カウント数設定器
15に設定されたカウント値Nとが比較器16に
て比較される。この時ラツチ回路14においてラ
ツチされるカウント値Naは、第2図のa点から
g点に達するまでの間(原点位置の1サイクル
中)に受光素子9に入射される弱い光の断続回数
であり、回転ミラー5の反射するスポツトビーム
に何らかの異物が作用した場合には、この断続回
数が部分ミラー7-1〜7-oの個数よりも少なくな
る。すなわち、回転ミラー5の反射するスポツト
ビームに異物が作用すると、部分ミラー7-1〜7
−oのいずれかにそのスポツトビームが照射されな
くなり、回転ミラー5およびハーフミラー4の鏡
面を経由して受光素子9に導かれる弱い光の断続
回数が減少する。つまり、回転ミラー5の反射す
るスポツトビームに何の異物も作用しない場合に
は、受光素子9に導かれる弱い光の断続回数は部
分ミラー7-1〜7-oの個数に等しく、基準カウン
ト数設定器15に設定されるカウント値Nがこの
部分ミラー7-1〜7-oの個数に等しく設定されて
いる。したがつて、回転ミラー5の反射するスポ
ツトビームに何らかの異物が作用した場合には、
比較器16における比較結果がNa<Nとなり、
ラツチ回路17より異物検出信号が送出されるよ
うになり、この異物検出信号より作業テーブル1
上の異物の存在を認識することが可能となる。
尚、本実施例においては、作業テーブル1上の
みならず、その周辺部までを含むθなる範囲角内
の全てが被異物検出板面となつており、この被異
物検出板面上の異物の存在が認識されることは言
うまでもない。また、本実施例においては異物の
存在のみを知るような構成としたが、どの位置の
部分ミラーに照射されるスポツトビームが遮光さ
れたかの情報をそのカウント値から知るように構
成することもでき、このようにすることによつて
異物の存在のみならず、その存在領域をも認識す
ることが可能となる。また、基準カウント数設定
器15に設定するカウント値は、部分ミラー7-1
〜7-oの個数が予め分るのでデジスイツチ等で設
定してもよいが、回転ミラー5のスポツトビーム
で部分ミラー7-1〜7-oの個数をサーチし、自動
的に設定するような構成としてもよい。さらに、
本実施例においてはハーフミラー4の鏡面に回転
ミラー5の反射光が直接照射される時点を原点位
置とし、この原点位置の1サイクル中にハーフミ
ラー4の鏡面に回転ミラー5の反射光が反射面7
を経由して間接的に照射される回数をカウントす
るようにしたが、必ずしも原点位置を基準として
カウントする必要はなく、回転ミラー5の1回転
毎にそのカウント値をリセツトするような構成と
してもよい。
みならず、その周辺部までを含むθなる範囲角内
の全てが被異物検出板面となつており、この被異
物検出板面上の異物の存在が認識されることは言
うまでもない。また、本実施例においては異物の
存在のみを知るような構成としたが、どの位置の
部分ミラーに照射されるスポツトビームが遮光さ
れたかの情報をそのカウント値から知るように構
成することもでき、このようにすることによつて
異物の存在のみならず、その存在領域をも認識す
ることが可能となる。また、基準カウント数設定
器15に設定するカウント値は、部分ミラー7-1
〜7-oの個数が予め分るのでデジスイツチ等で設
定してもよいが、回転ミラー5のスポツトビーム
で部分ミラー7-1〜7-oの個数をサーチし、自動
的に設定するような構成としてもよい。さらに、
本実施例においてはハーフミラー4の鏡面に回転
ミラー5の反射光が直接照射される時点を原点位
置とし、この原点位置の1サイクル中にハーフミ
ラー4の鏡面に回転ミラー5の反射光が反射面7
を経由して間接的に照射される回数をカウントす
るようにしたが、必ずしも原点位置を基準として
カウントする必要はなく、回転ミラー5の1回転
毎にそのカウント値をリセツトするような構成と
してもよい。
以上説明したように本考案による光学式異物検
出装置によると、ハーフミラーを透過して照射さ
れる光の反射方向を回転ミラーを回転させながら
可変すると共に、被異物検出板面に隣接して、こ
の板面上を横断して照射される回転ミラーの反射
光を回転ミラーを経由してハーフミラーの鏡面に
導く反射面を断続的に配列し、前記ハーフミラー
の鏡面に回転ミラーの反射光が前記反射面を介し
て間接的に照射される回数をカウントし、このカ
ウント値に基づいて前記板面上の異物のり検出を
行うようにしたので、そのカウント値の大小によ
つて異物の検出が可能となり、従来のように多数
の発・受光素子を細かい間隔で配置せずとも、被
異物検出板面上の異物の検出を簡便な方法で精度
良く行うことができる。
出装置によると、ハーフミラーを透過して照射さ
れる光の反射方向を回転ミラーを回転させながら
可変すると共に、被異物検出板面に隣接して、こ
の板面上を横断して照射される回転ミラーの反射
光を回転ミラーを経由してハーフミラーの鏡面に
導く反射面を断続的に配列し、前記ハーフミラー
の鏡面に回転ミラーの反射光が前記反射面を介し
て間接的に照射される回数をカウントし、このカ
ウント値に基づいて前記板面上の異物のり検出を
行うようにしたので、そのカウント値の大小によ
つて異物の検出が可能となり、従来のように多数
の発・受光素子を細かい間隔で配置せずとも、被
異物検出板面上の異物の検出を簡便な方法で精度
良く行うことができる。
第1図は本考案に係る光学式異物検出装置の一
実施例を示す構成図、第2図はこの異物検出装置
の受光素子にて受光される光の強さを示す波形
図、第3図は回転ミラーの回転位置とこの回転ミ
ラーにおいて反射するスポツトビームの反射方向
との関係を示す平面図である。 1……作業テーブル、2……投光源、4……ハ
ーフミラー、5……回転ミラー、6……パルスモ
ータ、7……反射板、7-1〜7-o……部分ミラ
ー、9……受光素子、10……異物検出回路。
実施例を示す構成図、第2図はこの異物検出装置
の受光素子にて受光される光の強さを示す波形
図、第3図は回転ミラーの回転位置とこの回転ミ
ラーにおいて反射するスポツトビームの反射方向
との関係を示す平面図である。 1……作業テーブル、2……投光源、4……ハ
ーフミラー、5……回転ミラー、6……パルスモ
ータ、7……反射板、7-1〜7-o……部分ミラ
ー、9……受光素子、10……異物検出回路。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 ハーフミラーを透過して照射される光の反射方
向を回転しながら可変する回転ミラーと、 被異物検出板面に隣接して断続的に配列される
と共に、この板面上を横断して照射される前記回
転ミラーの反射光を反射し前記回転ミラーを経由
してハーフミラーの鏡面に導く反射面と、 前記ハーフミラーの鏡面に前記回転ミラーの反
射光が前記反射面を介して間接的に照射される回
数をカウントしこのカウント値に基づいて前記板
面上の異物の検出を行う異物検出手段と を備えてなる光学式異物検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2513486U JPH048352Y2 (ja) | 1986-02-25 | 1986-02-25 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2513486U JPH048352Y2 (ja) | 1986-02-25 | 1986-02-25 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62140352U JPS62140352U (ja) | 1987-09-04 |
| JPH048352Y2 true JPH048352Y2 (ja) | 1992-03-03 |
Family
ID=30825003
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2513486U Expired JPH048352Y2 (ja) | 1986-02-25 | 1986-02-25 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH048352Y2 (ja) |
-
1986
- 1986-02-25 JP JP2513486U patent/JPH048352Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62140352U (ja) | 1987-09-04 |
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